一种测量单晶参数及外观的设备的制作方法

1.本发明涉及半导体测量技术领域，具体为一种测量单晶参数及外观的设备


背景技术：

2.硅的单晶体，禁带宽度1.11ev，具有基本完整的点阵结构的晶体。是一种良好的半导材料，生产中纯度基本要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上，用于制造半导体器件、太阳能电池、芯片等，用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成，是人类能制取到的最纯的物质，在单晶硅中掺入微量的第iiia族元素，形成p型半导体，掺入微量的第va族元素，形成n型，n型和p型半导体结合在一起，就可做成太阳能电池，将辐射能转变为电能。
3.现有的单晶滚磨前需搬动单晶放置在工作桌上检查外观(圆周及端面)，滚磨后需要搬动单晶测量单晶直径，圆度以及翻动单晶检查滚磨后单晶外观，动作繁琐，人员搬运翻动测量过程中单晶磕碰风险大。


技术实现要素：

4.本发明的目的在于提供一种金属制品的生产转运装置，以解决上述背景技术中提出的现有单晶由库房传统使用托盘加泡沫盒加液压车推送至下道工序粘棒，粘棒工序在一堆泡沫盒中寻找需要生产的料件，整个发料运输投料过程耗费大量人力搬运移动单晶棒，操作人员工作强度大，工作效率低，为改变现状，故设计开发专用运输存放小车的问题。
5.为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种测量单晶参数及外观的设备，包括桌体，所述桌体的顶部设置有限位框，所述限位框的顶部两侧通过支撑块转动安装有晶棒，所述晶棒的一端皆设置有电机，所述限位框的内侧设置有导向柱，所述导向柱的一侧设置有滑轮，所述滑轮的一侧设置有转动轮。
6.优选的，所述桌体的底部四个边角处皆设置有支撑腿，且支撑腿的之间横向排布设置有连接柱。
7.优选的，所述支撑腿的底端皆设置有定位座，所述定位座的内侧皆开设有定位槽，且定位槽的内侧设置有定位吸盘。
8.优选的，所述限位框的两侧皆设置有侧板，所述侧板的两侧表面皆设置有锁座，且锁座对应的限位框表面设置有锁扣。
9.优选的，所述限位框的一侧表面设置有控制按钮，且控制按钮的输出端通过导线与电机的输入端电性连接。
10.优选的，所述滑轮和转动轮沿着限位框内侧双排分布，且滑轮和转动轮之间相互依次交错排布。
11.与现有技术相比，本发明的有益效果是：
12.该一种测量单晶参数及外观的设备，在日常使用的过程中，通过使用带滑轮及转动轮的设备外加千分表量测来料外观，以及成品单晶直径及圆度，有效的解决了单晶滚磨前后检查外观等缺陷时，需要翻动拿取单晶造成动作浪费以及过程中造成单晶磕碰的问
题。
附图说明
13.图1为本发明的主视图；
14.图2为本发明的定位座底部结构示意图；
15.图3为本发明的限位框部分侧视图。
16.图中：1、限位框；2、转动轮；3、电机；4、滑轮；5、导向柱；6、晶棒；7、控制按钮；8、桌体；9、支撑腿；10、连接柱；11、定位座；12、定位槽；13、定位吸盘；14、锁扣；15、侧板；16、锁座。
具体实施方式
17.下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
18.请参阅图1-3，本发明提供一种技术方案：一种测量单晶参数及外观的设备，包括桌体8，桌体8的顶部设置有限位框1，限位框1的顶部两侧通过支撑块转动安装有晶棒6，晶棒6的一端皆设置有电机3，将需要测量外观的来料单晶放入设备，开启电机3进行实时运行，通过电机3带动晶棒进行实时转动，最后进行目视检测单晶外观，并且将成品单晶放入设备，架好千分表，进行量测单晶直径及圆度，同时目视检查成品单晶外观，限位框1的内侧设置有导向柱5，导向柱5的一侧设置有滑轮4，滑轮4的一侧设置有转动轮2，可与单晶进行滚动接触避免摩擦加大影响输送的效果，同时防止对单晶表面造成磨损，桌体8的底部四个边角处皆设置有支撑腿9，且支撑腿9的之间横向排布设置有连接柱10，可增加桌体8整体支撑的强度，延长设备的整体使用寿命。
19.支撑腿9的底端皆设置有定位座11，定位座11的内侧皆开设有定位槽12，且定位槽12的内侧设置有定位吸盘13，可增加设备与地面的吸附能力，提高设备的整体稳定性，限位框1的两侧皆设置有侧板15，侧板15的两侧表面皆设置有锁座16，且锁座16对应的限位框1表面设置有锁扣14，可对侧板15和限位框1起到锁紧限位作用，避免使用过程中自动打开导致单晶掉落，限位框1的一侧表面设置有控制按钮7，且控制按钮7的输出端通过导线与电机3的输入端电性连接，可方便控制电机3进行协调运行，避免造成能源浪费和器件长时间闲置运行导致故障，滑轮4和转动轮2沿着限位框1内侧双排分布，且滑轮4和转动轮2之间相互依次交错排布，可使导向输送的摩擦力更小更加通畅，避免输送过程发生偏移掉落。
20.工作原理：当需要进行单晶参数测量工作时，首先可将设备整体进行移动相应的单晶加工装置处，通过定位吸盘13与地面进行实时吸附对装置整体固定限位，并且使限位框1与加工装置出料位置进行实时对应，将需要测量外观的来料单晶放入设备，开启电机3进行实时运行，通过电机3带动晶棒进行实时转动，最后进行目视检测单晶外观，并且将成品单晶放入设备，架好千分表，进行量测单晶直径及圆度，同时目视检查成品单晶外观。
21.需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存
在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
22.尽管已经示出和描述了本发明的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本发明的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本发明的范围由所附权利要求及其等同物限定。


技术特征：
1.一种测量单晶参数及外观的设备，包括桌体(8)，其特征在于：所述桌体(8)的顶部设置有限位框(1)，所述限位框(1)的顶部两侧通过支撑块转动安装有晶棒(6)，所述晶棒(6)的一端皆设置有电机(3)，所述限位框(1)的内侧设置有导向柱(5)，所述导向柱(5)的一侧设置有滑轮(4)，所述滑轮(4)的一侧设置有转动轮(2)。2.根据权利要求1所述的一种测量单晶参数及外观的设备，其特征在于：所述桌体(8)的底部四个边角处皆设置有支撑腿(9)，且支撑腿(9)的之间横向排布设置有连接柱(10)。3.根据权利要求2所述的一种测量单晶参数及外观的设备，其特征在于：所述支撑腿(9)的底端皆设置有定位座(11)，所述定位座(11)的内侧皆开设有定位槽(12)，且定位槽(12)的内侧设置有定位吸盘(13)。4.根据权利要求1所述的一种测量单晶参数及外观的设备，其特征在于：所述限位框(1)的两侧皆设置有侧板(15)，所述侧板(15)的两侧表面皆设置有锁座(16)，且锁座(16)对应的限位框(1)表面设置有锁扣(14)。5.根据权利要求1所述的一种测量单晶参数及外观的设备，其特征在于：所述限位框(1)的一侧表面设置有控制按钮(7)，且控制按钮(7)的输出端通过导线与电机(3)的输入端电性连接。6.根据权利要求1所述的一种测量单晶参数及外观的设备，其特征在于：所述滑轮(4)和转动轮(2)沿着限位框(1)内侧双排分布，且滑轮(4)和转动轮(2)之间相互依次交错排布。

技术总结
本发明公开了一种测量单晶参数及外观的设备，包括桌体，所述桌体的顶部设置有限位框，所述限位框的顶部两侧通过支撑块转动安装有晶棒，所述晶棒的一端皆设置有电机，所述限位框的内侧设置有导向柱，所述导向柱的一侧设置有滑轮，所述滑轮的一侧设置有转动轮，所述桌体的底部四个边角处皆设置有支撑腿，且支撑腿的之间横向排布设置有连接柱。该一种测量单晶参数及外观的设备，在日常使用的过程中，通过使用带滑轮及转动轮的设备外加千分表量测来料外观，以及成品单晶直径及圆度，有效的解决了单晶滚磨前后检查外观等缺陷时，需要翻动拿取单晶造成动作浪费以及过程中造成单晶磕碰的问题。的问题。的问题。


技术研发人员：吴伟 刘畅 高杰
受保护的技术使用者：中环领先半导体材料有限公司
技术研发日：2022.07.01
技术公布日：2022/10/11