一种光电测高清洁组件的制作方法

本技术涉及划片机测量领域，特别涉及一种光电测高清洁组件。

背景技术：

1、半导体雕刻需要精准的测量半导体的精度，在有精确的尺寸雕刻的半导体的尺寸才能精准。

2、市面上的测量装置采用直接测量，而测量多数采用激光测量，激光测量的数据较精准，导致在雕刻时半导体产生的废渣会影响激光测量，进一步，使激光测量半导体的数据不准确，导致在雕刻时降低其精度。

技术实现思路

1、为解决上述背景技术的技术问题，本实用新型提供了一种光电测高清洁组件，其特征在于，包括测高组件、清洁组件，所述测高组件与所述清洁组件连接；

2、所述测高组件包括激光发射器、激光接收器、测高座，所述激光发射器与所述激光接受器设置于所述测高座的内侧面，所述激光发射器与所述激光接收器位置对应，所述测高座；

3、所述清洁组件包括清洁管道、进气口、进水口、水汽泵一体装置，所述水汽泵一体装置与所述进气口连通、所述水汽泵一体装置与所述进水口连通，所述清洁管道与所述进气口连通，所述清洁管道与所述进水口连通。

4、优选地，包括旋转气缸、防水防尘盖，所述防水防尘盖与所述旋转气缸的输出轴连接。

5、优选地，所述清洁管道设置有两个或者两个以上。

6、优选地，所述旋转气缸的旋转角度在0°～180°之间。

7、本实用新型提供了一种

8、与现有技术相比，本实用新型提供的一种光电测高清洁组件，具有以下优点：

9、激光发射器发出光信号，激光接收器接收光信号，当半导体的部位截断光信号，测高组件便可测出半导体的高度，由于光信号截断灵敏度非常高，使用光信号测高的数据非常精准，同时，水汽泵一体装置通过压力将汽和水分别送入进气口和进水口，使所述清洁管道能够向半导体喷水，水冲刷掉半导体上的废渣，接着所述清洁管道对半导体进行吹气，将残留在半导体上的水滴或废渣进行二次清洗和风干，使半导体上无残留废渣和水渍，使测高的数据更加的精准。

技术特征：

1.一种光电测高清洁组件，其特征在于，包括测高组件、清洁组件，所述测高组件与所述清洁组件连接；

2.如权利要求1所述光电测高清洁组件，其特征在于，包括旋转气缸、防水防尘盖，所述防水防尘盖与所述旋转气缸的输出轴连接。

3.如权利要求1所述光电测高清洁组件，其特征在于，所述清洁管道设置有两个或者两个以上。

4.如权利要求2所述光电测高清洁组件，其特征在于，所述旋转气缸的旋转角度在0°～180°之间。

技术总结
本技术提供了一种光电测高清洁组件，其特征在于，包括测高组件、清洁组件，所述测高组件与所述清洁组件连接；所述测高组件包括激光发射器、激光接收器、测高座，所述激光发射器与所述激光接受器设置于所述测高座的内侧面，所述激光发射器与所述激光接收器位置对应，所述测高座；所述清洁组件包括清洁管道、进气口、进水口、水汽泵一体装置，所述水汽泵一体装置与所述进气口连通、所述水汽泵一体装置与所述进水口连通，所述清洁管道与所述进气口连通，所述清洁管道与所述进水口连通。

技术研发人员：熊世伟
受保护的技术使用者：深圳市纬迪科技有限公司
技术研发日：20221020
技术公布日：2024/1/12