一种激光陀螺真空处理设备的制作方法

1.本实用新型属于激光陀螺加工生产设备，具体涉及一种激光陀螺真空处理设备。


背景技术：

2.激光陀螺仪是一种高精度的角度转动敏感器件，目前广泛应用于捷联惯导系统中。激光陀螺本质上是一种环形气体激光器，其原理是基于sagnac效应，把角度的转动转变为拍频信号输出。由于氦氖气体均匀性较好、折射率较小，其激光谱线的相干性、单色性等性能也较好，加上632.8nm位置的谱线较为稳定，因此工程应用中的激光陀螺仪普遍使用氦氖气体作为增益介质。
3.激光陀螺作为一种氦氖激光器，其核心部件环形谐振腔是在一定真空度条件下充入一定比例氦氖混合气体进行工作的。由于腔体、电极吸附气体释放等因素，使得腔内气体的纯度在陀螺长时间存储、使用过程中会发生变化出现杂气。为保证激光陀螺寿命周期内腔体内气体纯度，需要对谐振腔进行真空烘烤、放电，尽量减小谐振腔内吸附的杂气。
4.激光陀螺真空放电时如谐振腔静止不动，内部光线处于驻波状态，在镜片表面波峰和波谷交替出现，会对镜片的反射率形成周期性的调制，将镜片“刻蚀”为一个周期性的散射光栅，造成锁区逐渐增大。为避免此问题，激光陀螺真空放电时对其进行抖动。
5.但是，现有的激光陀螺抖动真空放电方式，在抖动较小时，不能完全避免“刻蚀”效应。现有激光陀螺与真空台的连接方式为玻璃连接，抖动较大时容易造成玻璃管断裂。


技术实现要素：

6.本实用新型的目的在于提供一种激光陀螺真空处理设备，以解决上述背景技术中提出的激光陀螺真空处理中的抖动问题。
7.本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种激光陀螺真空处理设备，包括机架以及设置在机架上的一个转台本体和一个超高真空充排气台，所述的转台本体上端设置有转台平台，所述的转台平台上固定有真空阀门，所述的真空阀门通过波纹管连接超高真空充排气台，所述的波纹管位于转台本体内部，上端固定在转台平台上与真空阀门相连，下端通过cf接口与超高真空充排气台相连。
8.所述的一种激光陀螺真空处理设备，其转台本体固定在机架内部。
9.所述的一种激光陀螺真空处理设备，其真空阀门有四个，均匀分布在一个圆周上。
10.所述的一种激光陀螺真空处理设备，其转台平台上设置有用于固定激光陀螺仪的工装，所述的工装内设置有用于连接激光陀螺仪的钢管-铜管铜盘钎焊件，钢管-铜管铜盘钎焊件与真空阀门连接。
11.本实用新型的有益效果是：
12.1，本实用新型可通过超高真空充排气台对激光陀螺抽高真空，并对真空放电的激光陀螺进行一定角度的转动。
13.2，本实用新型可将激光陀螺仪与超高真空充排气台通过金属管路相连，避免因各
种原因管路突然断裂对超高真空充排气台造成的损害。
14.3，本实用新型可将激光陀螺仪固定到转台平台上，当真空放电时转台平台进行转动，使其一直处于锁区外，避免了光线“刻蚀”对镜片的损坏。
15.4，本实用新型通过固定在转台平台上的波纹管与超高真空充排气台相连，使转台转动时真空管路不受影响。
附图说明
16.图1为本实用新型转台平台的俯视图；
17.图2为本实用新型的正视外部结构示意图。
18.各附图标记为：1—激光陀螺仪，2—真空阀门，3—转台平台，4—波纹管，5—转台本体，6—超高真空充排气台，7—机架。
具体实施方式
19.下面结合附图和具体实施例对本实用新型作进一步详细说明。
20.如图1、图2所示，本实用新型公开的一种激光陀螺真空处理设备，包括机架7以及设置在机架7上的一个转台本体5和一个超高真空充排气台6，所述的转台本体5上方设置有转台平台3，所述的转台平台3上分别固定有真空阀门2、用于固定激光陀螺仪1的工装和用于连接激光陀螺仪1的钢管-铜管铜盘钎焊件，所述的真空阀门2通过波纹管4连接超高真空充排气台6，所述真空阀门2连接工装内的钢管-铜管铜盘钎焊件，所述的波纹管4位于转台本体5内部，上端固定在转台平台3上，与真空阀门2相连，下端通过cf接口与超高真空充排气台6相连。
21.本实用新型的转台本体5固定在机架7内部，真空阀门2有四个，均匀分布在一个圆周上，使用时将激光陀螺仪1放到转台平台3上，超高真空充排气台6通过波纹管4及真空阀门2等与激光陀螺1相连，对激光陀螺1抽高真空，同时通过转台平台3对真空放电的激光陀螺1进行一定角度的转动，真空放电时转台平台3转动时一直处于锁区外，避免了光线“刻蚀”对镜片的损坏；固定在转台平台3上的波纹管4与超高真空充排气台6相连使转台平台3转动时真空管路不受影响。
22.具体的操作步骤：
23.激光陀螺仪1通过钢管-铜管铜盘钎焊件连接到转台平台3上的真空阀门2上。
24.超高真空充排气台6对激光陀螺仪1抽高真空，当真空度达到要求后，超高真空充排气台6往激光陀螺仪1中充入工作气体。
25.打开转台平台3，使转台平台3往一个方向按照一定角速度转动，转动速度使激光陀螺仪1处于出锁状态；转台平台3转动一定角度后，往反方向按照相同角速度转动，保证其转动角度对波纹管4无影响。
26.激光陀螺仪1连接电源，对激光陀螺仪1进行放电。
27.本实用新型还可增加配备计算机和电源与转台平台3相连，改动手为自动控制陀螺点亮及转台转动，当转台转动异常时关闭电源即可。
28.本领域的技术人员容易解读，以上所述仅为本实用新型的较佳使用案例，并不用于限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则范围内之内所作的任何修改、等同替换
和改进，均应包含在本实用新型保护范围内。


技术特征：
1.一种激光陀螺真空处理设备，其特征在于：包括机架（7）以及设置在机架（7）上的转台本体（5）和超高真空充排气台（6），所述的转台本体（5）上端设置有转台平台（3），所述的转台平台（3）上固定有真空阀门（2），所述的真空阀门（2）通过波纹管（4）连接超高真空充排气台（6），所述的波纹管（4）位于转台本体（5）内部，上端固定在转台平台（3）上与真空阀门（2）相连，下端通过cf接口与超高真空充排气台（6）相连。2.根据权利要求1所述的一种激光陀螺真空处理设备，其特征在于，所述的转台本体（5）固定在机架（7）内部。3.根据权利要求1或2所述的一种激光陀螺真空处理设备，其特征在于，所述的真空阀门（2）有四个，均匀分布在一个圆周上。4.根据权利要求3所述的一种激光陀螺真空处理设备，其特征在于，所述的转台平台（3）上设置有固定激光陀螺仪（1）的工装，所述的工装内设置有用于连接激光陀螺仪（1）的钢管-铜管铜盘钎焊件。

技术总结
本实用新型公开了一种激光陀螺真空处理设备，包括机架以及设置在机架上的一个转台本体和一个超高真空充排气台，所述的转台本体上端设置有转台平台，所述的转台平台上固定有真空阀门，所述的真空阀门通过波纹管连接超高真空充排气台，所述的波纹管位于转台本体内部，上端固定在转台平台上与真空阀门相连，下端通过CF接口与超高真空充排气台相连；使用时超高真空充排气台通过波纹管及真空阀门对激光陀螺抽高真空，同时通过转台平台对真空放电的激光陀螺进行一定角度的转动，避免光线“刻蚀”对镜片的损坏。镜片的损坏。镜片的损坏。


技术研发人员：王保峰 鲍浪 谭锐 付翥
受保护的技术使用者：华中光电技术研究所（中国船舶集团有限公司第七一七研究所）
技术研发日：2022.11.24
技术公布日：2023/3/21