本发明涉及一种拉曼分光分析方法以及显微拉曼分光装置。
背景技术:
1、拉曼分光装置为如下测定方法:通过对照射了激发激光时从试样产生的波长不同的拉曼散射光进行分光分析,来实现试样的结构分析(例如,专利文献1)。其中,作为微小部分的化学结构的分析手段而开发出一种显微拉曼分光法,且近年来得到了广泛应用。
2、由于拉曼散射光与激光光相比强度极小,因此需要使用高强度的激光光。此外,由于拉曼散射光的强度小,因此所获得的光谱的信噪(signal to noise,s/n)比也低。因此,需要对分析对象试样进行多次激光光照射,对拉曼散射光进行多次测定,并对其结果进行累计,由此获得高s/n比。
3、但是,若激光光的强度过强、或累计次数过多,则由激光光带来的分析对象试样的损坏会变大。特别是在分析对象试样为有机物的情况下,有时试样会因激光光的照射引起的碳化或热分解等而烧损。特别是在以极微小区域为测定对象的显微拉曼分光法中,激光光所照射到的区域集中于极微小的部分,因此分析对象试样的烧损变得显著。
4、若发生试料的烧损,则分析对象试料的结构会发生变化,因此无法获得基于原本结构的拉曼散射光的数据,因此为了进行准确的结构的分析,需要再次对拉曼散射光进行测定。
5、然而,由于烧损后的部分的结构被破坏,因此即使对相同场所进行测定也无法获得反映出原本结构的拉曼散射光。
6、[现有技术文献]
7、[专利文献]
8、专利文献1:日本专利特开2006-113021号公报
技术实现思路
1、[发明所要解决的问题]
2、因此,需要识别出在拉曼分光测定中分析对象试料因激光光而损伤之前所获得的拉曼散射光的数据,仅根据这些损伤前的拉曼散射光的数据进行分析对象试料的结构分析。
3、本发明的目的在于提供一种拉曼分光分析方法,所述拉曼分光分析方法确定在多次拉曼分光测定中分析对象试样因激光光而损伤的激光光的照射次数,并使用在分析对象试样处于未损伤的状态时获得的拉曼散射光的数据来进行分析对象试样的结构分析。
4、进而,本发明的目的在于提供一种执行所述拉曼分光分析方法的显微拉曼分光装置。
5、[解决问题的技术手段]
6、即,本发明提供
7、一种拉曼分光分析方法,
8、其通过物镜光学元件将从激光光源射出的激光光照射至分析对象试样,
9、从分析对象试样获得拉曼散射光,
10、将所获得的所述拉曼散射光分光而求出特定波数范围中的总散射强度,
11、反复进行多次根据所述激光光的照射而求出特定波数范围中的总散射强度的工序,
12、求出相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比,
13、求出所述第一次的所述特定波数范围中的总散射强度与每个照射次数下的特定波数范围中的所述总散射强度的相关系数,
14、根据测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的关系、及
15、所述测定次数与所述相关系数的关系,
16、来确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限,
17、并使用所述上限的照射次数之前的拉曼散射光的数据。
18、另外,本发明提供
19、一种显微拉曼分光装置,
20、其具有:
21、激光光源;
22、显微镜光学部;
23、板,对分析对象试样进行固定,
24、分光器及拉曼散射光检测系统,且具有:
25、存储部,存储激光光照射的次数、此时的拉曼散射光光谱;
26、对每次激光光照射下的特定波数范围中的拉曼散射光的总散射强度进行运算的运算部;
27、求出相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比的运算部;
28、求出所述第一次的所述特定波数范围中的总散射强度与每个照射次数下的特定波数范围中的所述总散射强度的相关系数的运算部;以及
29、显示部,显示测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的关系、及
30、所述测定次数与所述相关系数的关系;
31、分析部,根据所述测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的关系、及
32、根据所述测定次数与所述相关系数的关系来确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
33、[发明的效果]
34、根据本发明,提供一种拉曼分光分析方法,所述拉曼分光分析方法可识别出在拉曼分光测定中分析对象试样因激光光而损伤之前所获得的拉曼散射光的数据,并仅根据这些损伤前的拉曼散射光的数据进行分析对象试样的结构分析。
35、进而,根据本发明,提供一种执行所述拉曼分光分析方法的显微拉曼分光装置。
1.一种拉曼分光分析方法,通过物镜光学元件将从激光光源射出的激光光照射至分析对象试样,
2.根据权利要求1所述的拉曼分光分析方法,其中,标绘测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者。
3.根据权利要求1或2所述的拉曼分光分析方法,其中,标绘所述测定次数与所述相关系数。
4.根据权利要求2所述的拉曼分光分析方法,其中,对测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的标绘进行线性回归分析,并根据斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
5.根据权利要求3所述的拉曼分光分析方法,其中,对所述测定次数与所述相关系数的标绘进行线性回归分析,并将斜率发生变化的测定次数确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
6.一种显微拉曼分光装置,具有:
7.根据权利要求6所述的显微拉曼分光装置,其中,所述显示部标绘并显示测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者。
8.根据权利要求6或7所述的显微拉曼分光装置,其中,所述显示部标绘并显示测定次数与所述相关系数。
9.根据权利要求6至8中任一项所述的显微拉曼分光装置,其中,所述分析部对所述测定次数与每个所述照射次数下的所述总散射强度、或相对于第一次照射的所述特定波数范围中的总散射强度而言的、各照射次数的所述特定波数范围中的所述总散射强度之比中的至少任一者的标绘进行线性回归分析,确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
10.根据权利要求6至9中任一项所述的显微拉曼分光装置,其中,所述分析部对所述测定次数与所述相关系数的标绘进行线性回归分析,确定分析对象试样没有损伤的照射次数的上限。
11.根据权利要求6至10中任一项所述的显微拉曼分光装置,还具有从所述存储部中调出分析对象试样没有损伤的照射次数的拉曼散射光谱来加以显示的功能。