背景技术:
1、过程分析传感器为各种工业过程提供测量分析。过程分析传感器通过放置在过程流中来操作,以测量或检测过程流的给定特征。过程分析传感器可用于各种工业过程中的各种过程混合物,包括液体、气体、固体或其组合。特别是它们可用于化学过程、发电厂、精炼、食品和饮料加工、制药加工以及水和废水处理。
2、过程分析传感器的退化速率极大地依赖于许多外界因素。过程分析传感器可以根据如过程流体的温度、流量、化学组成、曳出流体的存在、流体的ph水平以及许多其它因素而较快或较慢地退化。传感器经历的一些退化包括但不局限于膜片和电解质溶液老化、化学侵蚀以及传感器的涂覆或塞住。在ph传感器中,例如,由于传感器变得被涂覆时的参考阻抗或者由于ph斜率退化,传感器精度可能随时间而降低。这会导致系统的测量误差、损伤和潜在危险。用户负责对其传感器提供维护,或负责在校准传感器时跟踪值(诸如ph斜率、ph偏差等等)。用于传感器维护或替换的当前推荐依赖于固定时间表,并且许多用户手册指出最佳维护频率最好凭经验确定。
技术实现思路
1、一种过程分析系统,包括:被配置成感测流体特征的分析传感器。所述过程分析系统还包括测量电路,所述测量电路联接到所述分析传感器并且被配置成产生所述流体特征的指示。所述过程分析系统包括处理器,所述处理器联接到所述测量电路、被配置成接收所述流体特征的指示并且基于所述流体特征的指示来计算传感器相关的输出。另外,所述过程分析系统包括诊断部件,所述诊断部件被配置成基于所述传感器相关的输出和参考值来确定所述分析传感器的退化速率,其中所述退化速率与预先选择的阈值比较。
1.一种过程分析系统,包括:
2.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出包括ph斜率。
3.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出包括参考阻抗。
4.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出包括ph玻璃阻抗。
5.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出在校准期间计算。
6.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出在过程中计算。
7.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述诊断部件使用最小二乘拟合回归确定所述退化速率。
8.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述参考值是先前的传感器相关的输出。
9.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述参考值是新传感器的已知值。
10.根据权利要求1所述的过程分析系统,其中,所述传感器相关的输出配对有时间戳,并且与具有单独的时间戳的先前得到的传感器相关的输出比较。
11.一种确定ph传感器的退化速率的方法,所述方法包括:
12.根据权利要求11所述的方法,其中,所述估计函数采用最小二乘拟合回归。
13.根据权利要求11所述的方法,其中,所述预先选择的阈值是用户选择的。
14.根据权利要求11所述的方法,其中,所述预先选择的阈值由制造商预设。
15.根据权利要求11所述的方法,其中,所述预先选择的阈值是基于历史数据。
16.根据权利要求11所述的方法,其中,所述多个随时间变化的传感器相关的输出能够在校准期间或在过程中获得。
17.根据权利要求11所述的方法,其中,所述多个随时间变化的传感器相关的输出能够从未知样品溶液或从已知样品溶液获得。