一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统的制作方法

本发明涉及光学设备，尤其涉及一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统。

背景技术：

1、太赫兹介于微波和红外之间，具有天然的波段优势，一直以来由于缺少高效的硬件设备，属于开发潜力巨大的新频段，也是各国竞争的战略资源频段，在雷达目标特性领域有极大的应用前景。在紧缩场测量方面，微波、毫米波波段具有成熟的系统建设方案，而太赫兹频段受限于器件水平的发展，一直未形成规范的测量系统。利用太赫兹时域光谱技术特有的大带宽、高信噪比、高时域分辨的特点应用于紧缩场测量具有独特的技术应用场景优势，而基于光纤耦合的太赫兹时域光谱技术具有光路简洁、易操作、偏振易调节、性能优异等优势，已应用于光谱测量等领域，在较大静区尺寸的紧缩场测量中尚未有应用，面临长焦距反射镜不易聚焦带来的静区调节等系统技术难题。通常因为场地布局等因素，需要长焦距的主反射面，相对应的要配备长焦距的扩束反射镜。而长焦距在现有光学器件中较难聚焦为一点，实际上会聚焦为有一定孔径的光斑，这会影响静区波束的扩束及收集。

2、因此，针对以上不足，需要提供一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统。

技术实现思路

1、(一)要解决的技术问题

2、本发明要解决的技术问题是解决长焦距反射镜不易聚焦带来的静区调节等系统性技术难题的问题。

3、(二)技术方案

4、为了解决上述技术问题，本发明提供了一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，包括产生路和探测路，产生路通过发射天线产生太赫兹波，并经由第一抛物面镜和第二抛物面镜、反射镜和第三抛物面镜组成紧缩场光路；探测路通过接收天线接收激光产生载流子，载流子接收太赫兹波产生电流，检测电流以检测太赫兹波，在第二抛物面镜和反射镜之间装有第一透镜以使光线聚为点，在第三抛物面镜和接收天线之间装有第二透镜以聚焦波束进入接收天线内。

5、作为对本发明的进一步说明，优选地，第一透镜和第二透镜均为凸透镜且采用tpx材料制成。

6、作为对本发明的进一步说明，优选地，第一透镜口径与第二抛物面镜口径一致，第二透镜的口径与第三抛物面镜口径一致。

7、作为对本发明的进一步说明，优选地，第一透镜焦点与第二抛物面镜焦点重合，第二透镜焦点与第三抛物面镜重合。

8、作为对本发明的进一步说明，优选地，第一透镜焦距小于第二抛物面镜聚焦的一半，第二透镜焦距小于第三抛物面镜聚焦的一半。

9、(三)有益效果

10、本发明的上述技术方案具有如下优点：

11、本发明通过在第二抛物面镜和反射镜之间以及在第三抛物面镜和接收天线之间布置透镜，解决了长焦距反射镜不易聚焦带来的静区调节等系统性技术难题，为此类测量系统的设置建立了规范性的参照。

技术特征：

1.一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，包括产生路和探测路，产生路通过发射天线(21)产生太赫兹波，并经由第一抛物面镜(22)和第二抛物面镜(23)、反射镜(5)和第三抛物面镜(33)组成紧缩场光路；探测路通过接收天线(32)接收激光产生载流子，载流子接收太赫兹波产生电流，检测电流以检测太赫兹波，其特征在于：在第二抛物面镜(23)和反射镜(4)之间装有第一透镜(24)以使光线聚为点，在第三抛物面镜(33)和接收天线(32)之间装有第二透镜(34)以聚焦波束进入接收天线(32)内。

2.根据权利要求1所述的一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，其特征在于：第一透镜(24)和第二透镜(25)均为凸透镜且采用tpx材料制成。

3.根据权利要求2所述的一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，其特征在于：第一透镜(24)口径与第二抛物面镜(23)口径一致，第二透镜(25)的口径与第三抛物面镜(33)口径一致。

4.根据权利要求3所述的一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，其特征在于：第一透镜(24)焦点与第二抛物面镜(23)焦点重合，第二透镜(25)焦点与第三抛物面镜(33)重合。

5.根据权利要求4所述的一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，其特征在于：第一透镜(24)焦距小于第二抛物面镜(23)聚焦的一半，第二透镜(25)焦距小于第三抛物面镜(33)聚焦的一半。

技术总结
本发明涉及一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，涉及光学设备领域，一种长焦距太赫兹时域光谱紧缩场测量系统，包括产生路和探测路，产生路通过发射天线产生太赫兹波，并经由第一抛物面镜和第二抛物面镜、反射镜和第三抛物面镜组成紧缩场光路；探测路通过接收天线接收激光产生载流子，载流子接收太赫兹波产生电流，检测电流以检测太赫兹波，在第二抛物面镜和反射镜之间装有第一透镜以使光线聚为点，在第三抛物面镜和接收天线之间装有第二透镜以聚焦波束进入接收天线内，本发明具有解决长焦距反射镜不易聚焦带来的静区调节等系统性技术难题的优点。

技术研发人员：张旭涛,蔡禾,李粮生,孙金海,庾韬颖,李进春,孙旺,朱先立
受保护的技术使用者：北京环境特性研究所
技术研发日：
技术公布日：2024/2/8