一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块的制作方法

文档序号:35490701发布日期:2023-09-17 01:13阅读:45来源:国知局
一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块的制作方法

本技术涉及原子吸收光谱分析,具体为一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块。


背景技术:

1、原子吸收仪可测定多种元素化学仪器。主要部分(光源、原子化器、光学系统、光电检测器件部分、电路系统、背景校正装置和,原子吸收仪,所谓原子吸收光谱法,又称为原子吸收分光光度法,通常简称原子吸收法(aas),其基本原理为:从空心阴极灯或光源中发射出一束特定波长的入射光,在原子化器中待测元素的基态原子蒸汽对其产生吸收,未被吸收的部分透射过去,通过测定吸收特定波长的光量大小,来求出待测元素的含量。

2、现有原子吸收仪器的石墨炉气路部件一般体积大、接口多、管路长,所以造成仪器的体积大、内部空间拥挤、气体容易泄漏、故障诊断困难等问题,为此我们提出一种新型的原子吸收用石墨炉气路枢纽模块。


技术实现思路

1、本部分的目的在于概述本实用新型的实施方式的一些方面以及简要介绍一些较佳实施方式。在本部分以及本申请的说明书摘要和实用新型名称中可能会做些简化或省略以避免使本部分、说明书摘要和实用新型名称的目的模糊,而这种简化或省略不能用于限制本实用新型的范围。

2、鉴于现有的技术中存在的问题,提出了本实用新型。

3、因此,本实用新型的目的是提供一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块,在使用的过程中,通过将控制部件直接安装在该模块上,从而进一步减少了管路接口,大大降低了气体泄漏的几率,由于采用模块化设计,所以在故障诊断方面尤其方便。

4、为解决上述技术问题,根据本实用新型的一个方面,本实用新型提供了如下技术方案:

5、一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块,其包括气路模块底板,所述气路模块底板的一侧设置有排气接口、气路入口和堵头,所述排气接口的一侧设置有第二支流路,所述第二支流路上设置有第二电磁阀安装孔和第一电磁阀接口,所述气路入口的一侧设置有主流路,所述主流路上分别设置有第一电磁阀安装孔、第二电磁阀接口和压力传感器接口,所述堵头一端设置有第一支流路,所述第一支流路上设置有针阀接口,所述气路模块底板的后表面设置有第一电磁阀、第二电磁阀、第三电磁阀、压力传感器和三通,所述三通的一侧设置有三通入口,所述三通的顶部设置有针阀,所述针阀的一侧设置有针阀出口。

6、作为本实用新型所述的一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块的一种优选方案,其中:所述气路模块底板的表面设置有多个通孔。

7、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:现有原子吸收仪器的石墨炉气路部件一般体积大、接口多、管路长等,所以造成仪器的体积大、内部空间拥挤、气体容易泄漏、故障诊断困难等,本实用新型的气路枢纽采用模块化设计,通过在一个铝板上进行流体管路的设计,大大压缩的整个气路部件的体积,通过将控制部件直接安装在该模块上,从而进一步减少了管路接口,大大降低了气体泄漏的几率,由于采用模块化设计,所以在故障诊断方面尤其方便。



技术特征:

1.一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块,其特征在于:包括气路模块底板(13),所述气路模块底板(13)的一侧设置有排气接口(1)、气路入口(2)和堵头(12),所述排气接口(1)的一侧设置有第二支流路(11),所述第二支流路(11)上设置有第二电磁阀安装孔(4)和第一电磁阀接口(5),所述气路入口(2)的一侧设置有主流路(7),所述主流路(7)上分别设置有第一电磁阀安装孔(3)、第二电磁阀接口(6)和压力传感器接口(8),所述堵头(12)一端设置有第一支流路(10),所述第一支流路(10)上设置有针阀接口(9),所述气路模块底板(13)的后表面设置有第一电磁阀(14)、第二电磁阀(15)、第三电磁阀(16)、压力传感器(17)和三通(18),所述三通(18)的一侧设置有三通入口(21),所述三通(18)的顶部设置有针阀(19),所述针阀(19)的一侧设置有针阀出口(20)。

2.根据权利要求1所述的一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块,其特征在于:所述气路模块底板(13)的表面设置有多个通孔。


技术总结
本技术属于原子吸收光谱分析技术领域,具体为一种原子吸收用石墨炉气路枢纽模块,包括气路模块底板,所述气路模块底板的一侧设置有排气接口、气路入口和堵头,所述排气接口的一侧设置有第二支流路,所述第二支流路上设置有第二电磁阀安装孔和第一电磁阀接口,所述气路入口的一侧设置有主流路,所述主流路上分别设置有第一电磁阀安装孔、第二电磁阀接口和压力传感器接口,所述堵头一端设置有第一支流路,所述第一支流路上设置有针阀接口;其结构合理,通过将控制部件直接安装在该模块上,从而进一步减少了管路接口,大大降低了气体泄漏的几率,由于采用模块化设计,所以在故障诊断方面尤其方便。

技术研发人员:周磊,邹飞青,田隆伟,田胜洋
受保护的技术使用者:重庆进益科技有限公司
技术研发日:20230321
技术公布日:2024/1/14
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