一种远端漏电试验集控系统的制作方法

文档序号:36922799发布日期:2024-02-02 21:49阅读:19来源:国知局
一种远端漏电试验集控系统的制作方法

本技术涉及远端漏电的试验,具体地涉及一种远端漏电试验集控系统。


背景技术:

1、远端漏电保护试验是一种用于测试电气设备的漏电保护功能是否正常的测试方法,试验人员将试验设备安装完成后,在变电所进行操作,从而完成远端漏电的试验,当使用便携式的电阻箱进行试验时,其质量较轻,容易导致稳定性较差,需要确保电阻箱的稳定性,避免因电阻箱不稳定而影响试验结果。

2、然而,现有的漏电电阻箱通过采用螺栓和螺母与固定底座进行连接,并且在安装过程中,工人需要使用螺丝刀、扳手等工具,从而在安装漏电电阻箱与固定底座时带来一定的复杂性,同时,使用多种工具以及零件进行安装需要耗费一定的时间,从而影响试验的效率,为此提出一种远端漏电试验集控系统。


技术实现思路

1、本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。

2、为此,本实用新型的一个目的在于提出一种远端漏电试验集控系统,包括漏电试验电阻箱,所述漏电试验电阻箱的底部对称固定连接有两个支撑架,两个所述支撑架的设置有底座,所述底座的顶部对称固定连接两个板体,所述板体的内部分别开设有插接槽和两个凹槽ⅰ,两个所述凹槽ⅰ与所述插接槽连通,所述支撑架的外部插接在所述插接槽的内部,所述凹槽ⅰ的内部铰接有定位板,所述定位板的一侧对称固定连接有两个弹簧,一个所述弹簧的一端固定连接在所述凹槽ⅰ的内部,另一个所述弹簧的一端固定连接有块体,所述块体的一侧固定连接在所述凹槽ⅰ的内部。

3、优选的,所述支撑架的外部开设有凹槽ⅱ,所述凹槽ⅱ的内部安装有橡胶圈,所述板体的内顶部开设有固定槽,所述凹槽ⅱ的外部插接在所述固定槽的内部。

4、优选的,所述固定槽的内部安装有磁铁块,所述凹槽ⅱ靠近所述磁铁块的一侧嵌接有金属块。

5、优选的,所述支撑架的外部对称开设有两个定位槽,所述定位板的外部插接在所述定位槽的内部。

6、优选的,所述定位板靠近所述定位槽的一侧安装有橡胶垫。

7、为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:

8、与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

9、本实用新型通过插接槽、凹槽、定位板和弹簧等结构的组合使用,使支撑架插入到板体中,即可完成漏电试验电阻箱与底座的安装,从而达到简化安装步骤和减少了使用工具的需求,进而能够提高试验效率。



技术特征:

1.一种远端漏电试验集控系统,包括漏电试验电阻箱(10),所述漏电试验电阻箱(10)的底部对称固定连接有两个支撑架(11),两个所述支撑架(11)的设置有底座(12),其特征在于:所述底座(12)的顶部对称固定连接两个板体(13),所述板体(13)的内部分别开设有插接槽(14)和两个凹槽ⅰ(15),两个所述凹槽ⅰ(15)与所述插接槽(14)连通,所述支撑架(11)的外部插接在所述插接槽(14)的内部,所述凹槽ⅰ(15)的内部铰接有定位板(16),所述定位板(16)的一侧对称固定连接有两个弹簧(17),一个所述弹簧(17)的一端固定连接在所述凹槽ⅰ(15)的内部,另一个所述弹簧(17)的一端固定连接有块体(18),所述块体(18)的一侧固定连接在所述凹槽ⅰ(15)的内部。

2.根据权利要求1所述的一种远端漏电试验集控系统,其特征在于:所述支撑架(11)的外部开设有凹槽ⅱ(21),所述凹槽ⅱ(21)的内部安装有橡胶圈(22),所述板体(13)的内顶部开设有固定槽(23),所述凹槽ⅱ(21)的外部插接在所述固定槽(23)的内部。

3.根据权利要求2所述的一种远端漏电试验集控系统,其特征在于:所述固定槽(23)的内部安装有磁铁块(24),所述凹槽ⅱ(21)靠近所述磁铁块(24)的一侧嵌接有金属块(25)。

4.根据权利要求1所述的一种远端漏电试验集控系统,其特征在于:所述支撑架(11)的外部对称开设有两个定位槽(19),所述定位板(16)的外部插接在所述定位槽(19)的内部。

5.根据权利要求4所述的一种远端漏电试验集控系统,其特征在于:所述定位板(16)靠近所述定位槽(19)的一侧安装有橡胶垫(20)。


技术总结
本技术公开了一种远端漏电试验集控系统,包括:漏电试验电阻箱,所述漏电试验电阻箱的底部对称固定连接有两个支撑架,两个所述支撑架的设置有底座,所述底座的顶部对称固定连接两个板体,所述板体的内部分别开设有插接槽和两个凹槽Ⅰ,两个所述凹槽Ⅰ与所述插接槽连通,所述支撑架的外部插接在所述插接槽的内部,所述凹槽Ⅰ的内部铰接有定位板,所述定位板的一侧对称固定连接有两个弹簧;本技术通过插接槽、凹槽、定位板和弹簧等结构的组合使用,使支撑架插入到板体中,即可完成漏电试验电阻箱与底座的安装,从而达到简化安装步骤和减少了使用工具的需求,进而能够提高试验效率。

技术研发人员:乔统军,王欢,李贤友,夏宁,刘红星,倪海川,郭强,张国安,陈方圆
受保护的技术使用者:河南神火兴隆矿业有限责任公司
技术研发日:20230726
技术公布日:2024/2/1
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