使用可用于产生光掩模定单的逻辑操作实体自动产生加工规范的系统和方法

专利名称：：使用可用于产生光掩模定单的逻辑操作实体自动产生加工规范的系统和方法
技术领域：
：本发明一般涉及用于产生包括光掩模设计信息的、可用于产生光掩模定单的加工规范的系统和方法。更具体地说，本发明涉及一种可以产生包括光掩模设计信息的加工规范的基于软件的应用，其可被传送给光掩模制造者的处理系统，以允许光掩模制造者的处理系统验证设计的有效性、可行性和/或需要性。本发明还涉及一种使用加工规范产生系统产生包括设计信息的加工规范的系统和方法，该加工规范产生系是用户友好的，并可用于各种断裂引擎(fractureengine)格式。
背景技术：
：光掩模是含有电子电路的显微图像的极精密的图版。光掩模一般由非常平的石英片或玻璃片构成，在一面上具有一层铬。在铬中刻蚀的是电子电路设计的一部分。这种在掩模上的电路设计也称为"几何学"。在半导体器件的生产中使用的典型的光掩模由"空白的"或"未显影的，，光掩模构成。如图1所示，典型的空白光掩模IO包括三层或四层。第一层ll是一层石英或其它基本上透明的材料，通常称为衬底。下一层12—般是一层不透明的材料例如Cr，其常常包括防反射材料的第三层13，例如CrO。防反射层可被包括或不包括在任何给定的光掩模中。顶层一般是一层感光的抗蚀材料14。还已知和使用其它类型的光掩模，包括但不限于相移掩模、嵌附式减光型相移掩模(EAPSM)以及改变孔径相移掩模(AAPSM)。制造光掩模的方法涉及许多步骤并且可能是费时的。在这方面，为了制造光掩模，一般由装载在膝光系统中的电子数据文件限定要在21光掩模10上形成的不透明材料12的所需图案，其中膝光系统一般以光栅或矢量方式使电子束(E束)或激光束通过空白的光掩模扫描。一种这样的光栅扫描曝光系统的例子在Collier的美国专利3900737中披露。每个独特的膝光系统具有其自己的用于处理数据的软件和格式，以命令设备对空白光掩模曝光。当E束或激光束通过空白光掩模10扫描时，曝光系统把E束或激光束引导到由电子数据文件限定的光掩模上可寻址的位置。暴露于E束或激光束的光致抗蚀剂的区域成为可溶的，而未暴露的区域保持为不可溶。为了确定E束或激光束应当对空白光掩模10上的光刻胶14啄光或不曝光的位置，需要对处理设备提供工作平台形式的合适的指示。当曝光系统在光致抗蚀剂材料14上扫描所需的图像之后，如图2所示，通过现有技术中熟知的手段把可溶的光致抗蚀剂材料除去，而未膝光的不可溶的光致抗蚀剂14，保持附着于不透明的材料13和12上。因而，借助于剩余的光致抗蚀剂14，，在光掩模10上形成要形成的图案。然后通过已知的刻蚀处理除去未被剩余的光刻胶14，覆盖的区域中的防反射材料13和不透明材料12，把图案从剩余的光刻胶材料14，转移到光掩模IO。在本领域中具有多种刻蚀方法，包括干式刻蚀和湿式刻蚀，因而可以使用多种设备进行这种刻蚀。在完成刻蚀之后，剥离或除去剩余的光刻胶材料14，，因而制成光掩模，如图3所示。在制成的光掩模中，先前由剩余的防反射材料13，和不透明材料12，反映的图案位于在前面的步骤中除去可溶材料之后剩余的光刻胶14，所保留的区域中。为了确定在一个特定的光掩模中具有任何不能接受的缺陷，需要检查光掩模。缺陷是影响几何形状的任何瑕疯。其中包括不希望的铬区域(铬斑点、铬延伸、几何形状之间的铬桥)或者不希望的空白区域(针孔、空白延伸、空白断裂)。缺陷可引起用户的电路不工作。用户将在其缺陷规范中指出将影响其处理的缺陷的尺寸。所有这种尺寸和较大尺寸的缺陷必须被修复，或者如果不能够修复，则必须拒绝并重写该掩模。一般地说，4吏用自动掩模检查系统例如由KLA-Tencor或AppliedMaterials制造的那些系统检查缺陷。这种自动系统把照明光束引导到光掩模上，并检测通过光掩模被透射并从光掩模反射回的光束部分的强度。然后使检测的光强度和预期的光强度比较，并把任何偏差认为是缺陷。一个系统的详情可以在转让给KLA-Tencor的美国专利5563702中找到。在通过检查之后，清除制成的光掩模上的污物。接着，可以对制成的光掩模涂覆一层薄膜以保护其重要的图案区域不受空气传播的污染。随后可以进行整个薄膜缺陷检查。在一些例子中，可以在涂覆薄膜之前或之后对光掩模进行切割。为了进行上述制造步骤中的每一步，半导体制造者(例如用户)必须首先向光掩模制造者提供与要制造的光掩模有关的不同类型的数据。在这方面，用户一般提供光掩模定单(order)，其包括制造和处理光掩模所需的各种类型的信息和数据，例如包括和光掩模的设计有关的数据、要使用的材料、交付日期、帐单信息以及用于处理该定单和用于制造光掩模所需的其它信息。在光掩模的制造中长期存在的一个问题是从收到用户的光掩模定单的时间到制造光掩模所用的时间量。在这方面，用于处理光掩模定单和制造光掩模花费的总时间可能是长的，因而不能最大化光掩模的总的输出。这个问题的一部分归因于这样的事实许多定购光掩模的用户通常使其定单采用各种不同的格式，这些格式常常和掩模制造者的计算机系统和/或制造设备不兼容。因而，光掩模制造者常常需要修改定单数据的格式，把其调整、转换和/或增补成和光掩模制造者的计算机系统和/或制造设备兼容的不同的格式，这可能花费大量的时间，因而延迟用于制造光掩模的时间。在试图解决这些问题的过程中，光掩模工业研发了许多种光掩模定单应当采用的标准的光掩模定单格式。例如，SEMIP-10标准便是一种在光掩模制造中使用的标准格式。此外，少数的半导体制造者研发了光掩模定单要采用的自己专用的光掩模定单格式，而不采用标准格式。这些标准的和专有的光掩模定单格式是这样被创建的，即，使得按统一格式从用户接收光掩模定单，由此减少制造光掩模所需的总时间。虽然使用标准的和/或专有的光掩模定单格式对于減少制造光掩模所用的时间是有用的，但由于各种原因，许多半导体制造者不愿使其光掩模定单釆取这种标准的和/或专有的格式。例如，SEMIP-10标准定单格式十分复杂，并要求采用定单的用户具有与这种标准相关的要求的高深的工作知识。因为许多半导体制造者不制造光掩模，这些制造者可能没有资源、时间或能力学习这种标准格式的复杂的内容。因而，半导体制造者常常以未组织的且通常不复杂的方式向光掩模制造者提供光掩模定单数据。结果，要求光掩模制造者深入分析这些数据并将其组织成有用的格式(例如SEMIP-10格式)。此外，一般地说，这些标准的和专有的格式要求提交完整的定单。而且，这些标准不包括用于只传送加工规范以供分析的标准格式。长期来，在光掩模制造领域内一直迫切需要一种用户侧系统和方法，用于按标准的和/或专有的格式自动地产生光掩模定单的加工规范，所述加工规范可被传送给光掩模制造者，以便验证特定设计的有效性、可行性和/或需要性，然后用于产生光掩模定单，过去，AlignRite公司(Photronics公司的前身)试图通过使用基于互联网的交付系统加快电子数据的传递。不过，虽然AlignRite系统能够从用户向光掩模制造者的计算机系统快速地提交光掩模数据，并能够实时地验证该数据的精度，但是这种现有的系统不能用于按一种标准的和/或专有的格式自动地产生光掩模定单数据。在这方面，一旦收到来自用户的数据，对数据进行的标准修改也必须由操作者手动地输入。每当必须输入手段修改时，就增加了人工错误的风险并延长总的工期。此外，AlignRite系统不允许只传送自动地产生的加工指令，其可用于验证特定的光掩模定单的有效性、可行性和/或需要性，此后用于产生光掩模定单。从那时起，还披露了一些系统，其中制造数据和帐单数据通过互联网被下载并被在线自动地验证。一种这样的系统在2002年1月10日公开的DuPontPhotomask公司的PCT申请No.02/03141中描述了，该系统也是美国专利6622295的主题。更具体地说，DuPont的PCT公开披露了一种由用户在线输入光掩模定单数据并把该数据传送给光掩模制造者进行处理的系统。在这种系统中，提示用户输入光掩模定单数据。该数据被传送给光掩模制造者，其接着对数据进行诊断评估。如果任何数据不完全或不精确，系统便向用户发出信息告知这种错误。此后，用户必须纠正错误。在数据被制造者验证(当需要时被纠正)之后，制造者便处理该数据并将其变成标准的(或专有的)格式例如SEMIP-10标准格式。虽然对于诊断目的是有用的，但是DuPont的PCT公开的系统是非常麻烦的，并且在公式化光掩模定单或更具体的加工规范方面对用户提供很小的灵活性。此外，DuPont的PCT公开的系统还需要用户输入完整的定单，并且不提供关于如何改进在定单中包括的设计的诊断或反馈信息。因而，长期来一直迫切需要一种用于产生包括断裂(fracturing)指令的加工规范的系统和方法，所述断裂指令是简单的，并且可以在提交完整的定单之前针对设计的有效性、可行性和/或需要性而被分析，然后用于产生定单。类似地，在过去，Photronics研发了其自身的光掩模定单产生系统和方法。例如，本发明的受让人Photronics过去研发了其自己的MaskPilot系统，已经证明其获得了巨大的商业上的成功。该系统是2004年7月30日申请的美国专利申请序列号10/209254以及2004年6月25日申请的序列号为10/877011的专利申请的主题，它们都转让给了共同的受让人。这些专利申请都通过引用被包括在此。MaskPilot系统利用户使用呈模板或定单形式的用户图形界面来输入完整的光掩模定单信息。该系统不能使用户输入只含有用于产生断裂指令的加工规范的不完全的定单并将其传送给光掩模制造者。还有些国外的公开按允许光掩模制造者验证设计的有效性、可行性、和/或需要性的格式产生包括设计信息的不完整的光掩模定单。一种这样的系统在同一受让人的在2004年6月24日提交的序列号为10/877001的美国专利申请中被披露了，该专利申请的全部内容通过引用被包括在此。这种系统的一个例子由韩国的光掩模用户使用，用于向Photronics公司的分支机构PKL供应加工规范。这些系统看上去非常简单，并且不向光掩模用户提供产生加工规范的灵活性，并且不能和其它的软件结合使用以在对设计进行分析之后产生完整的定单。此外，这种系统的输出文件是附录文本文件，其需要被进一步处理，以便重新被格式化成为可用于不同的断裂引擎的格式。这些系统也不能从其它系统输入用于产生加工规范的信息。总之，这些先有技术的系统缺乏灵活性和功能性，使得这些系统成为不足的，因而需要一种用于产生加工规范的用户友好的且灵活的系统和方法。在上述的制造步骤被完成之后，制成的光掩模被送往用户用于制造半导体和其它产品。特别地，光掩模通常用于半导体工业中，用于在硅或砷化镓衬底或晶片上转移用于限定半导体电路的微尺度图像。用于从光掩模把图像转移到硅衬底或晶片上的处理通常被称为"平版印刷术"或"微刻术"。一般地说，如图4所示，半导体制造工艺包括步骤淀积、照相平版印刷和刻蚀。在淀积期间，在硅晶片的表面上淀积一层电绝缘的或者导电的材料(例如金属、多晶硅或氧化物)。然后在这种材料上涂覆光致抗蚀剂。然后，几乎和利用照相底片制造照片相同的方式利用光掩模。照相平版印刷涉及把光掩模上的图像投影到晶片上。如果光掩模上的图像被并排地在晶片上投影若干次，则这被称为"步进"，光掩模被称为刻线。如图5所示，为了在半导体晶片20上产生图像21，把光掩模IO插在包括一层感光材料的半导体晶片20和光学系统22之间。由通常被称为步进器23的能源产生的能量被禁止通过光掩模10的存在不透明材料的区域。来自步进器23的能量通过未被不透明材料12和防反射材料13覆盖的石英衬底11的透明的部分。光学系统22把不透明的材料12和13的國案的缩放的图像24投射到半导体晶片20上，并在半导体晶片上的感光材料中引起反应。在对该能量暴露的区域中感光材料的溶度被改变。在正照相平版印刷处理的情况下，曝光的感光材料成为可溶的，因而可被除去。在负照相平版印刷处理的情况下，膝光的感光材料成为不可溶的，因而未爆光的可溶的感光材料被除去。在除去可溶的感光材料之后，在不可溶的感光材料中形成的图像或图案通过本领域熟知的通常称为刻蚀的处理被转移到衬底上。一旦把图案刻蚀到衬底材料上，便除去剩余的光刻胶，从而得到最终产品。然后在晶片上淀积一层新的材料和光刻胶，并把下一个光掩模上的图像投射到晶片上。再次对晶片进行显影和刻蚀。重复这种处理直到电路被完成。在典型的半导体器件中，因为可以淀积许多层，即使制造单个半导体器件，也可能需要许多不同的光掩模。的确，如果半导体制造者使用一件以上的设备制造半导体器件，甚至每一层都可能需要一个以上的光掩模。此外，因为可能还使用不同类型的设备在不同的生产线中对光刻胶曝光，考虑到半导体制造设备的差异，甚至多个相同的光掩模图案也可能要求在尺寸、方位、缩放比例以及其它属性方面进行附加的改变。考虑到光掩模制造者的平版印刷设备的差异，还可能需要类似的调整。在光掩模制造过程中，需要考虑这些差异。虽然现有技术是所关心的，但是现有技术的已知的方法和设备具有若干限制，本发明便试图克服这些限制。
发明内容具体地说，本发明的一个目的在于提供一种用于生成光掩模定单的至少一部分的系统和方法，所述光掩模定单包括呈一种格式的设计信息，其可被传送到光掩模制造者的处理系统，以允许光掩模制造者验证设计的有效性、可行性和/或需要性。本发明的另一个目的在于提供一种用于使用加工规范产生系统自动生成加工规范的系统和方法，以允许光掩模制造者验证设计的有效性和/或可行性和/或需要性，并然后生成合适的光掩模定单，其中所迷加工规范包括可用于生成光掩模定单的断裂指令。本发明的另一个方面在于提供一种用于产生要用于生成光掩模定单的加工规范的系统和方法，其可以从其它源输入和调整规范数据。本发明的另一个目的在于，这样一种加工规范生成系统包括灵活的并且用户友好的工具，例如能够使用用户定义的符号操作结合或者代替默认的符号操作，以及能够提供用于产生加工规范的任选的或所需的数据进入点中的一些或全部。本发明的另一个目的在于，这样一种加工规范生成系统能够按各种工业标准或专用光掩模数据格式，包括但不限于GDSII，Mebes，Oasis,DXF，Applican，.cfl仁Cinc，.ps等，生成加工规范。本发明的另一个目的在于，这样一种加工规范生成系统可成为一个能够和其它的光掩模定单生成系统结合使用来生成加工规范的独立的系统，或者可以是和一个光掩模定单生成系统结合的实用系统。本发明的另一个目的在于，这样一种加工规范生成系统可以由用户使用图形用户界面、传统的向导和/或指令发生器访问。本发明的另一个目的在于，提供一种自动的加工规范生成系统，用于减少与人工输入断裂指令相关的转录错误。本发明的另一个目的在于，提供一种加工规范生成系统，其可用于增加正被制造的光掩模的总输出。本发明的另一个目的在于解决现有技术的不足。从前面的说明可以清楚地看出其它目的。在按照本发明的示例实施例的加工规范生成系统中，从数据库或者其它文件中提取设计数据，并按变化的格式输入到光掩模用户的系统或者可以由光掩模用户的计算机访问的其他外部系统。还可以根据通过图形用户界面、向导和/或使用手写指令的提示输入加工规范数据。逻辑操作实体可以使用用于在逻辑表达和/或预先规定的符号操作内使用的操作的用户定义的唯一的符号表示。加工规范生成系统可以和被单独存储的规则链接，因而可被容易地更新，这可用于确保完整而精确的数据被包括在加工规范中。部分的或完整的加工规范数据也可被电子地输入，例如借助于扫描或者借助于从其它文件格式进行转换。一旦输入之后，加工规范数据便可被进一步修改，或者不经修改而被提交。当输入加工规范时，与加工规范相关的信息便以电子方式传送给光掩模制造者，以便验证设计的有效性、可行性和/或需要性。在验证设计(或者是提交的，或者是经过修改的)的有效性、可行性和需要性之后，加工规范可以和产生完整的光掩模定单所需的其它数据组合，并作为完整的定单再次提交给光掩模制造者。按照本发明的实施例的加工规范生成系统可以是一个独立的系统，其加工规范输出是与光掩模定单生成系统兼容的，从而其可用于生成光掩模定单。或者，加工规范生成系统可以被直接集成在光掩模订单生成系统中，其中光掩模定单属性可被在两个系统之间共享，并用于在每个系统中提供数据字段。当作为光掩模订单生成系统的一部分或者和光掩模订单生成系统结合被使用时，加工规范生成系统可允许用户自动地提供用于产生加工规范的可选的或需要的数据进入点的一些或全部。加工规范生成系统的加工规范输出可以呈普通文本格式，或者呈各种其它格式，例如GDSII，Mebes，Oasis,DXF,Applican，.cflt以及.cinc。加工规范输出可以呈作为用于计算机辅助设计或电子设计自动化使用的软件可由照相平版印刷设备识别并使用的工业格式。或者，加工规范输出可以呈工业格式，例如XML，SOAPSML,post-script,HTML,ASCII,只举几例。按照本发明的实施例的用于制造光掩模的方法包括从光掩模用户的计算机系统接收加工规范和分析该加工规范。把分析的结果发送给光掩模用户的计算机系统，接收根据该加工规范生成的光掩模定单，并根据光掩模定单制造光掩模。按照本发明的示例实施例的用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法包括通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分而生成加工规范，并把该加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于对加工规范进行分析。从光掩模制造者的计算机系统接收分析的结果，根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的示例实施例的用于处理光掩模定单的方法包括从光掩模用户的计算机系统接收加工规范以及分析该加工规范。把分析的结果发送给光掩模用户的计算机系统，并接收根据加工规范生成的光掩模定单。按照本发明的一个示例实施例的用于使用加工规范生成系统生成加工规范的方法包括从外部源向规范生成系统输入与逻辑操作的至少一个成分相关的数据，以及根据所述逻辑操作的至少一个成分生成加工规范。把该加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。按照本发明的一个示例实施例的用于生成用来制造光掩模的加工规范的方法包括借助于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范，并按符合特定的标准格式和/或专用光掩模定单的格式输出加工规范。按照本发明的另一个示例实施例的用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法包括通过使用图形用户界面、向导和指令发生器中的至少之一创建、修改和/或删除逻辑操作的至少一个成分来生成加工规范，所述逻辑操作由所述加工规范表示，并把加工规范发送到光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。从光掩模制造者的计算机系统接收分析的结果，根据该加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送到光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的另一个示例实施例的一种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法包括借助于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范，所述加工规范包括用于光掩模设计的断裂指令，以及使用所述断裂指令模拟光掩模设计。根据模拟的光掩模设计分析该加工规范，根据该加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的另一个示例实施例的一种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法包括借助于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范，并验证该加工规范具有合适的格式。把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范，并从光掩模制造者的计算机系统接收所述分析。根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的另一个示例实施例的一种用于生成用来制造光掩模的加工规范的方法包括对逻辑操作的成分进行创建、修改和删除中至少之一，所述成分包括具有操作码和与所述操作码对应的至少一个别名的至少一个表达式，并由默认值修改至少一个别名。根据包括修改的至少一个别名的逻辑操作生成加工规范。按照本发明的一个示例实施例的一种用于制造光掩模的光掩模订单生成系统包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分；加工规范分析器，用于分析加工规范；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的另一个示例实施例的一种用于制造光掩模的光掩模订单生成系统包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分，所述加工规范包括用于光掩模设计的断裂指令；光掩模设计模拟器，用于使用所述断裂指令模拟光掩模设计；以及光掩模定单生成器，用于根据所述加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的一个示例实施例的一种用于制造光掩模的加工规范生成系统包括逻辑操作管理器，用于对逻辑操作的成分执行创建、修改和删除中的至少之一，所述成分包括具有操作码和与该操作码对应的至少一个别名的至少一个表达式；以及别名管理器，用于由默^人值修改所述至少一个别名。加工规范生成器根据包括修改的至少一个别名的逻辑操作生成加工规范。按照本发明的一个示例实施例的一种加工规范生成系统包括数据输入器，用于从外部源向加工规范生成系统输入与逻辑操作的至少一个成分相关的数据；加工规范生成器，用于根据所述逻辑操作的所述至少一个成分生成加工规范；以及包括文件传送器的加工规范分析器，所述传送器用于把加工规范传送到光掩模制造者的计算机系统，以用于分析加工规范。按照本发明的一个示例实施例的一种光掩模订单生成系统包括加工规范生成器，用于使用图形用户界面、向导和指令发生器中的至少之一创建、修改和/或删除逻辑操作的至少一个成分，所述逻辑操作由加工规范表示；加工规范分析器，其把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统以用于分析加工规范；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的一个示例实施例的一种光掩模订单生成系统包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分；以及逻辑操作验证器，用于验证逻辑操作具有合适的格式。加工规范分析器把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析加工规范，光掩模定单生成器根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。按照本发明的一个示例实施例，提供一种含有计算机可读指令的、用于使计算机执行一种方法的计算机可读介质，所述方法包括借助于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分生成加工规范，并把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。从光掩模制造者的计算机系统接收加工规范，根据该加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。在至少一个实施例中，逻辑操作的成分包括以下至少中之一数据层的属性，输入数据的属性，表达式，图案组和别名。在至少一个实施例中，输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少之一被进行。在至少一个实施例中，外部源是下列中的至少之一数据库，32GDSII文件，MEBES文件以及光掩模定单模板。在至少一个实施例中，外部源是数据库，该数据库由光掩模制造者的计算机系统共享。在至少一个实施例中，逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。在本发明的至少一个实施例中，加工规范的格式通过使用一组规则被验证。在本发明的至少一个实施例中，加工规范被转换成可由第三方数据断裂应用所使用的格式。在本发明的至少一个实施例中，各种专有的和标准的光掩模数据格式包括以下中至少之一GDSII，MEBES，Oasis，DXF,Applican，.cflt，.cinc和.ps。在本发明的至少一个实施例中，光掩模制造者的计算机系统分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。在本发明的至少一个实施例中，分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。在本发明的至少一个实施例中，加工规范通过使用模拟的光掩模i殳计被分析。本发明的这些和其它的特征在本发明的各个示例的实施例的下面的详细说明中描述了，或者可以从下面的详细+兌明中看出。通过结合附图参看本发明的下面的优选的尽管是说明性的实施例的详细说明，可以更充分地理解本发明的上述的以及相关的目的、特征和优点，其中图l表示现有技术的空白的或未显影的光掩模；图2表示被局部处理之后的图1的光掩模；图3表示在被完全处理之后图l和图2的光掩模；图4是表示利用处理的光掩模制造或处理半导体晶片的方法的流程图5表示利用晶片步进器制造半导体的处理；图6表示光掩模用户的计算机系统，包括按照本发明的一个示例实施例的加工规范生成系统，其和光掩模制造者的计算机系统结合《吏用；以及图7-13表示用于引导用户输入特定数据的用于本发明的示例的图形用户界面的各种屏面；图14是表示利用按照本发明的一个示例实施例的加工规范生成系统制造光掩模的方法的流程图。具体实施例方式本发明的各示例实施例涉及一种用于生成表示对断裂数据的指令的电子文件的计算机化的系统和方法，其将被用于制造光掩模。特别地，这种系统和方法向终端用户例如光掩模用户提供创建逻辑操作的能力，所述逻辑操作的成分构成加工规范，并含有用于光掩模的一层或更多层的数据断裂指令。如同下面将要更详细地解释的，逻辑操作可以包括表达式、数据层属性、输入数据属性、图案组和别名。可以从外部源例如MaskPilot⑧模板或输入数据文件检索特定的信息，以便预先提供逻辑操作内的属性。此外，终端用户具有选择别名的能力，所述别名是在表达式中使用的操作符的符号表示，终端用户最习惯于这些表示。图6表示光掩模用户的计算机系统100，其中包括按照本发明的一个示例实施例的加工规范生成系统110，其和光掩模制造者的计算机系统200结合使用。加工规范生成系统100包括逻辑操作管理器115、别名管理器120、逻辑操作验证器125、加工规范生成器130、文件发送器135以及加工规范翻译器140。如下面进一步说明的，终端用户能够使用加工规范生成系统110的各个部分来创建表示对于断裂数据的指令的逻辑操作，其将被光掩模订单生成系统145例如MaskPilot⑧使用，用来生成用于光掩模制造工艺的加工规范。应当理解，本发明不限于用于MaskPilot,而可以用于任何其它的光掩模订单生成系统。虽然图6把加工规范生成系统110表示为一个与光掩模订单生成系统145相关的独立的系统，应当理解，在本发明的其它示例实施例中，加工规范生成系统110可以和光掩模订单生成系统145集成在一起。此外，如下面进一步解释的，一个或多个被单独保持的数据库150可以存储和提供由加工规范生成系统110使用的信息。数据库150可以由光掩模订单生成系统145共享。逻辑操作管理器us由终端用户用来创建、修改和/或删除逻辑操作。逻辑操作是数据层属性、输入数据属性、表达式、图案组以及别名的集合，其将用于创建加工规范。数据层属性定义特定的掩模层的层名称、层数和输入数据参考号。这个信息的一部分之后在创建表达式时可用作操作数。落入"数据层，，范畴的属性的例子可以包括层名称和层数，仅举几例。输入数据属性定义为了创建加工规范而处理数据时所需的参数。落入"输入数据"的范畴内的属性的例子可以包括输入文件名、顶部结构、捕捉格栅、旋转和对齐，仅举几例。图案组是用于输入数据属性的图案种类的字母数字描述。图案組的例子可以包括初步的、测试、帧和划线，仅举几例。表达式作为在计算机语言中常用的术语由操作数和操作符构成，操作数是要被处理的对象，操作符是代表特定操作的符号或命令。别名是操作符的符号表示。逻辑操作管理器115允许终端用户输入用于创建逻辑操作的数据。此外，逻辑操作管理器115可以包括数据输入器(未示出)，其从外部源输入数据以创建逻辑操作。数据输入器例如可包括命令行发生器和/或扫描器。例如，系统IIO可允许属性内的值从源例如GDSII文件、MEBES文件和一个或多个MaskPilot⑧模板被输入，仅举几例。此外，数据库150可被单独地维护或者和包含用于逻辑操作的各种属性的信息的加工规范生成系统100集成在一起。保存的逻辑操作的全部或者部分是完全可修改和删除的。例如，以前保存的逻辑操作可以根据可选的属性表被检索，并且然后通过例如从逻辑操作中除去掩模层而被修改。如果是由一个或多个MaskPilot⑧模板创建的，则该逻辑操作将"知道"其是由哪个MaskPilot模板形成的，因而这些掩模层可被添加于一个或多个MaskPilot⑧模板中的逻辑操作。此外，对于每个逻辑操作，别名最好被单独地存储，从而别名的修改或删除将不影响现有的逻辑操作。在这方面，逻辑操作最好"知道"用于其表达式的别名。例如，每个逻辑操作可以使用系统安装的"默认"的别名，不过，如下面进一步说明的，终端用户最好具有在任何时间改变所作的选择的能力。别名管理器120允许终端用户创建在表达式中使用的任何操作符的一个或多个别名。例如，系统110可以包含每个逻辑操作可以通过默认使用的一组操作符。终端用户可以用其自己的表示代替这些操作符。例如，终端用户可以选择用"+，，代替被定义为"AND，，的操作符。这个特征不限于单个字符的表示或操作符，虽然最好被限制于一组别名内的唯一的字符表示。别名在被创建之后可被保存在系统110内，而后可被取出以便修改或删除。逻辑操作验证器125对终端用户提供验证逻辑操作完整性的能力，包括其数据层属性、输入数据属性及其表达式的句法。此外，逻辑操作验证器125可以确认由用户输入的属性确实存在于被提供的图案数据内。系统110可以和最好被单独存储因而可容易被更新的一组或多组规则链接，这可用于确保在逻辑操作中包括完整而精确的数据。例如，与表达式有关的一组规则(包括管理可在表达式中使用的合适的别名的规则)，可用于验证逻辑操作中的表达式的句法。应当理解，也可以把逻辑操作发送给光掩模制造者的计算机系统以用于验证。加工规范生成器130允许终端用户生成加工规范，其然后该加工规范被解析并对数据进行断裂。加工规范实质上是逻辑操作中的表达式的表示，其含有用于一个或多个光掩模层的数据断裂指令。可以由36一个逻辑操作生成一个以上的加工规范。一旦被生成，加工规范便可被打印和/或保存到用户规定的位置，例如本地盘装置、便携式存储装置或网络装置，仅举几例。文件传送器135能够创建包含一个或多个加工规范文件的压缩文件，用于通过任何应用支持的传递协议发送到指定地点，所述传递协议例如有FTP,HTTP或SMTP,仅举几例。压缩文件可以采用^f壬何合适的格式，例如gzip。在一个例子中，指定的地点可以是光掩模制造者，在这种情况下，光掩模制造者将文件"拉开"或解压到所需的程度，并使用加工规范制造所需的光掩模。加工规范翻译器140能够把保存的或输入的加工规范转变成可以由第三方数据断裂应用使用的格式，例如K2，CATS，Galibre，Synopsis以及MaskComposer,仅举几例。例如，呈先前生成的XML文档的形式的加工规范可以在加工规范生成系统110内,皮打开，而后系统110解析整个文档，并产生和数据断裂实用程序utility兼容的新的文档。在这方面，系统110还可以允许终端用户定义当创建逻辑操作或者生成加工规范时使用的一个或多个属性的默认值，从而满足各种数据断裂应用的要求。可以使用一组可更新的并单独存储的规则作为引导，以确定选择的默认值是否能够用于特定的数据断裂应用。构成逻辑操作的各种属性也可以由终端用户使用查找表进行选择和/或修改。查找表可以是预先提供的和不可编辑的、预先提供的和可编辑的、或者空的和可编辑的。例如，如果加工规范生成系统110和光掩模订单生成系统145例如MaskPilot⑧集成在一起，则系统110可以共享在系统110和光掩模订单生成系统145之间共同的用于属性的查找表值。作为另一个例子，加工规范生成系统110可以是一个独立的系统，在这种情况下，查找表可以含有和单独的光掩模订单生成系统145兼容的用于属性的值。光掩模制造者的计算机系统可以包括模拟实体210和分析实体215。模拟实体可以使用任何合适的专有的和/或商用的光掩模设计模拟软件例如Synopsis的SiVL，以4艮据由加工规范生成系统110生成的加工规范来模拟光掩模设计。在这方面，光掩模用户的计算机系统100可以通过例如网络链接到光掩模制造者的计算机系统。分析实体215可用于分析生成的加工规范。该分析可以根据模拟的光掩模设计进行，或者与所述模拟分开地进行。此外，在本发明的其它示例实施例中，加工规范生成系统110本身能够进行光掩模设计模拟。加工规范分析最好产生关于光掩模设计的有效性、可行性和/或需要性的结果。例如，该分析可以提供热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力，仅举几例。一般地说，这种分析优选地产生光掩模用户可用来改善和/或校正其加工规范的信息，从而使得降低光掩模制造成本和减少循环时间。在本发明的至少一个实施例中，光掩模制造者的计算机系统在把加工规范发送回光掩模用户的计算机系统之前修改加工规范。光掩模制造者的计算机系统还可以包括光掩模定单处理系统220，其接收和处理用于制造所需的光掩模的光掩模定单。终端用户可以通过图形实体界面(GUI)、传统的向导或指令发生器与加工规范生成系统110交互作用。GUI引导终端用户对系统112输入正确的和精确的信息，以便生成加工规范。图7-13表示按照本屏面。这些屏面可以使用在开始屏上显示的菜单结构进行访问，例如下面给出的<table>tableseeoriginaldocumentpage39</column></row><table>作为一个例子，点击"选项，，子茱单将显示几个标签屏面，例如图7所示的"Database"标签屏面145。"Database，，标签屏面"5允许终端用户指定路径，通过该路径系统110能够定位其提取数据所需的文件。在图7所示的例子中，"Database"标签屏面145允许终端用户选择可以从中提取数据的URL,并且如果需要访问URL，则要求输入用户ID和口令。GUI还可以包括"一般断裂参数"屏面150，如图8所示。这个屏面允许终端用户设置用于断裂用来制造光掩模层的数据的参数。如图8所示，"一般断裂参数，，屏面150可包括可以从一个设置列表中选择其值的一些项，例如"PreCut(预切割)"，"PreGrid(预设网格)"，"TwoSided(双面)，，，"Reverse(颠倒)，，以及"Rule(规则)，，，以及从一个设置列表中不选择其值的一些项，例如"Sizing(定尺寸)"和"Thread(线程)，，。在"一般断裂参数，，屏面150上显示的项不限于图8所示的那些。逻辑操作可以从图9所示的"逻辑操作，，屏面155被观看和/或<务改。这个屏面尤其允许输入和/或显示"逻辑操作名称"，其在特定的逻辑操作被创建时被给予该逻辑操作。GUI还可以包括与逻辑操作的每个成分相关的屏面。例如，图10表示"图案组"屏面160，图11表示"输入数据，，屏面165，图12表示"层数据"屏面170，图13表示"逻辑表达式，，屏面175。在本发明的示例实施例中，加工规范生成系统110可以是和单独的光掩模订单生成系统例如MaskPilot⑧结合使用的独立的系统。或者，加工规范生成系统110可以和光掩模订单生成系统集成在一起。如前所述，集成加工规范生成系统和光掩模订单生成系统允许两个系统共享信息，例如共享查找表和信息数据库，这提供了许多优点，使得可以按共同的格式输入数据，并使得不需要相同的信息被输入两次。图14是表示按照本发明的一个示例实施例的利用加工规范生成系统110制造光掩模的方法的流程图。在步骤S1，在逻辑操作管理器115中输入逻辑操作的合适的属性之后，由加工规范生成系统110生成加工规范。在这个步骤期间，可以使用别名管理器120创建在逻辑操作中使用的任何操作符的别名。作为步骤S1的一个替代步骤，可以检索以前保存的加工规范或者从外部源输入加工规范。在步骤S2，由逻辑操作验证器125验证所产生的加工规范的格式。例如，在这个步骤中，可以使用以前产生的一组规则验证逻辑操作的句法。这些规则例如可以确定在逻辑操作中对象的正确顺序和/或每个逻辑操作所需的属性。如果在加工规范的格式中发现错误，可以重新产生该加工规范，以便纠正错误并再次验证。这个验证步骤是任选的，在其它的示例实施例中，可以不验证逻辑操作的格式而生成加工规范。可以由光掩模制造者的计算机或者光掩模用户的计算机进行逻辑操作的验证。在步骤S3，使用文件传送器135把加工规范发送到光掩模制造者的计算机系统200。在这个步骤中，可以按若干个标准的和/或专有的光掩模定单格式输出加工规范，使得光掩模制造者的计算机系统可以读取加工规范。标准格式的一个例子可以是被照相平版印刷设备或与计算机辅助设计或电子设计自动化相关的软件识别和使用的格式，仅举几例。专有格式可以包括XML,SOAPXML，post-script，以及HTML,仅举几例。在步骤S4，光掩模制造者的计算机系统根据在从光掩模用户的计算机系统接收的加工规范内包含的断裂指令来模拟光掩模设计。在这个步骤中，光掩模制造者可以使用任何合适的商用的和/或专有的光掩模设计模拟软件，例如由Synopsis研发的SiVL。在步骤S4中，光掩模制造者的计算机系统根据光掩模设计模拟结果分析加工规范。应当理解，模拟步骤是任选的，光掩模设计的分析可以不经这种模拟而被完成。此外，模拟步骤还可以在分析之后被执行，和/或不需要分析而由加工规范生成系统110执行。在步骤S4，根据最终的光掩模设计的有效性、可行性和/或需要性来分析加工规范。如前所述，该分析最好产生光掩模制造者可用来改进和/或校正其加工规范的信息，使得降低光掩模制造的成本和减少循环时间。在步骤S6，光掩模制造者的计算机系统把分析结果连同或不连同加工规范发送给光掩模用户的计算机系统。如果连同加工规范一道发送，则可以把分析结果合并在加工规范文件中。分析结果可以被单独地发送或与加工规范分开地发送，例如XML或HTML文档。此外，光掩模制造者的计算机系统可以根据所述分析修改加工规范。在步骤S7,在收到分析结果之后，光掩模制造者的计算机系统使用加工规范生成光掩模定单。在这个步骤中，加工规范可以在生成光掩模定单之前首先根据由光掩模制造者提供的分析结果被修改。例如，分析结果可能表示加工规范是无效的，从而需要修改逻辑操作，或者加工规范可能被修改，以符合由光掩模制造者建议的可能得到改进的光掩模设计的改变。光掩模定单可以使用任何合适的光掩模订单生成系统例如MaskPilot⑧被生成。在本发明的至少一个实施例中，文件可以釆用可以是与一个以上的光掩模制造者的定单格式兼容的形式。在步骤S8,把光掩模定单发送给光掩模制造者。不必把定单发送给进行所述分析的同一个光掩模制造者。最后，在步骤S9，光掩模制造者使用光掩模定单制造光掩模。上面已经示出并详细说明了本发明的优选实施例，对于本领域的技术人员，这些实施例的各种改型和改进将是容易作出的。因而，本发明的构思和范围应当被给予宽的解释，并仅仅由所附的权利要求而不是上面的说明书来限制。权利要求1.一种用于制造光掩模的方法，包括以下步骤从光掩模用户的计算机系统接收加工规范；分析该加工规范；把分析的结果发送给光掩模用户的计算机系统；接收根据该加工规范生成的光掩模定单；以及根据光掩模定单制造光掩模。2.如权利要求1所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少一种格式被接收。3.如权利要求2所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES,Oasis，DXF，Applican，.cflt，.cinc和.ps。4.如权利要求l所述的方法，其中加工规范被分析，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。5.如权利要求4所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。6.如权利要求l所述的方法，还包括在分析加工规范之后把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统的步骤。7.如权利要求6所述的方法，还包括在把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统之前根据所述分析来修改加工规范的步骤。8.如权利要求l所述的方法，还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。9.如权利要求8所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计对加工规范进行分析。10.—种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括以下步骤通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分而生成加工规范；把该加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于对该加工规范进行分析；从光掩模制造者的计算机系统接收分析的结果；根据加工规范生成光掩模定单；以及把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。11.如权利要求10所迷的方法，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。12.如权利要求10所述的方法，还包括从外部源输入用于逻辑操作的成分的数据的步骤。13.如权利要求12所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少一个进行。14.如权利要求12所迷的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。15.如权利要求14所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。16.如权利要求IO所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。17.如权利要求11所迷的方法，其中逻辑操作的成分包括至少一个别名，所述方法还包括根据所述至少一个别名的默认值来修改该至少一个别名的步骤。18.如权利要求10所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步级19.如权利要求18所述的方法，其中加工规范的格式使用一组规则被验证。20.如权利要求10所述的方法，还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。21.如权利要求IO所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一被生成。22.如权利要求21所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis,DXF，Applican，.cflt,.cinc和.ps。23.如权利要求10所述的方法，还包括使用图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一输入用于逻辑操作的成分的数据的步骤。24.如权利要求23所述的方法，其中输入数据的步骤使用图形实体界面来进行。25.如权利要求23所述的方法，其中输入数据的步骤使用向导来进行。26.如权利要求23所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令发生器来进行。27.如权利要求IO所述的方法，其中光掩模制造者的计算机系统分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一028.如权利要求27所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。29.如权利要求10所述的方法，还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。30.如权利要求29所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计分析加工规范。31.—种用于处理光掩模定单的方法，包括以下步骤从光掩模用户的计算机系统接收加工规范；分才斤该加工规范；把分析的结果发送给光掩模用户的计算机系统；以及接收根据加工规范生成的光掩模定单。32.如权利要求31所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少一种被接收。33.如权利要求32所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis，DXF,Applican，.cflt，.cinc和.ps。34.如权利要求31所述的方法，其中加工规范被分析以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。35.如权利要求34所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。36.如权利要求31所述的方法，还包括在分析加工规范之后把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统的步骤。37.如权利要求36所述的方法，还包括在把加工规范向回发送给光掩模用户的计算机系统之前根据分析来修改加工规范的步骤。38.如权利要求31所述的方法，还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。39.如权利要求38所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计分析加工规范。40.—种用于使用加工规范生成系统生成加工规范的方法，包括步骤从外部源向规范生成系统输入与逻辑操作的至少一个成分相关的数据；根据所述逻辑操作的至少一个成分生成加工规范；以及把该加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。41.如权利要求40所述的方法，还包括根据加工规范生成光掩模定单的步骤。42.如权利要求40所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。43.如权利要求40所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少之一被进行。44.如权利要求40所述的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。45.如权利要求40所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。46.如权利要求40所述的方法，其中还包括从至少一个查找表中选择逻辑操作的至少一个其他成分。47.如权利要求40所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步遞48.如权利要求47所述的方法，其中加工规范的格式使用一组规则被验证。49.如权利要求40所述的方法，还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。50.如权利要求40所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少一种被生成。51.如权利要求50所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis，DXF，Applican,.cflt，.cinc和.ps。52.如权利要求40所述的方法，还包括使用图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一输入用于逻辑操作的至少一个其他成分的数据的步骤。53.如权利要求40所述的方法，其中输入用于至少一个其他成分的数据的步骤使用图形实体界面来进行。54.如权利要求40所述的方法，其中输入用于至少一个其他成分的数据的步骤使用向导来进行。55.如权利要求40所述的方法，其中输入用于至少一个其他成分的数据的步骤使用指令发生器来进行。56.如权利要求40所述的方法，其中光掩模制造者的计算机系统分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。57.如权利要求56所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。58.如权利要求40所述的方法，还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。59.如权利要求58所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计来分才斤加工规范。60.—种用于生成用来制造光掩模的加工规范的方法，包括步骤通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范；以及按符合特定的标准和/或专用光掩模定单格式输出加工规范。61.如权利要求60所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步膿62.如权利要求61所述的方法，其中加工规范的格式使用一组规则被验证。63.如权利要求61所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis,DXF，Applican，.cfl仁.cinc和.ps。64.—种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括步通过使用图形用户界面、向导和指令发生器中的至少之一创建、修改和/或删除逻辑操作的至少一个成分来生成加工规范，所述逻辑操作由所述加工规范表示；把加工规范发送到光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范；从光掩模制造者的计算机系统接收分析的结果；根据该加工规范生成光掩模定单；以及把光掩模定单发送到光掩模制造者的计算机系统。65.如权利要求64所述的方法，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。66.如权利要求64所述的方法，还包括从外部源输入用于逻辑操作的至少一个其他成分的数据的步骤。67.如权利要求66所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少之一进行。68.如权利要求66所述的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。69.如权利要求68所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。70.如权利要求66所述的方法，其中逻辑操作的至少一个其他成分被从至少一个查找表中选择。71.如权利要求64所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分包括至少一个别名，所述方法还包括根据所述至少一个别名的默认值来修改该至少一个别名的步骤。72.如权利要求64所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步骤。73.如权利要求72所述的方法，其中加工规范的格式使用一组规则被验证。74.如权利要求64所述的方法，还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。75.如权利要求64所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一被生成。76.如权利要求75所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis,DXF，Applicant,.cflt，.dnc和.ps。77.如权利要求64所述的方法，其中生成加工规范的步骤使用图形实体界面进行。78.如权利要求64所述的方法，其中生成加工规范的步骤使用向导来进行。79.如权利要求64所述的方法，其中生成加工规范的步骤使用指令发生器来进行。80.如权利要求64所述的方法，其中光掩模制造者的计算机系统分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一081.如权利要求80所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。82.如权利要求64所述的方法，还包括使用加工规范模拟光掩模设计的步骤。83.如权利要求82所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计分析加工规范。84.—种用于制造光掩模的光掩模订单生成系统，包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分；加工规范分析器，用于分析加工规范；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。85.如权利要求84所迷的系统，其中加工规范分析器包括文件传送器，用于把加工规范传送到光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。86.如权利要求84所述的系统，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。87.如权利要求84所迷的系统，还包括用于从外部源输入用于逻辑操作的至少一个成分的数据的数据输入器。88.如权利要求87所迷的系统，其中数据输入器包括指令行发生器和扫描器中的至少之一。89.如权利要求87所述的系统，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。90.如权利要求89所述的系统，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。91.如权利要求84所述的系统，还包括查找表，逻辑操作的至少一个成分^f皮从该查找表中选择。92.如权利要求86所述的系统，其中逻辑操作的成分包括至少一个别名，所述系统还包括根据所述至少一个别名的默认值修改该至少一个别名的别名管理器。93.如权利要求84所迷的系统，还包括逻辑操作验证器，用于验证逻辑操作的格式。94.如权利要求93所述的系统，其中逻辑操作验证器使用一组规则来验证逻辑操作的格式。95.如权利要求84所迷的系统，还包括加工规范转换器，用于把加工规范转换成可以由笫三方数椐断裂应用使用的格式。96.如权利要求84所述的系统，其中加工规范生成器按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一生成加工规范。97.如权利要求96所述的系统，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis，DXF，Applican,.cflt，.cinc和.ps。98.如权利要求84所述的系统，还包括图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。99.如权利要求84所述的系统，还包括图形实体界面，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。100.如权利要求84所述的系统，还包括向导，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。101.如权利要求84所述的系统，还包括指令发生器，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。102.如权利要求84所述的系统，其中加工规范分析器分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。103.如权利要求102所述的系统，其中加工规范分析器产生分析结果，该分析结果和下列中的至少之一有关热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。104.如权利要求84所述的系统，还包括光掩模设计模拟器，用于使用加工规范模拟光掩模设计。105.如权利要求104所述的系统，其中加工规范分析器使用由光掩模设计模拟器模拟的光掩模设计来分析加工规范。106.—种用于制造光掩模的光掩模订单生成系统，包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分，所述加工规范包括用于光掩模设计的断裂指令；光掩模设计模拟器，用于使用断裂指令模拟光掩模设计；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。107.如权利要求106所述的系统，还包括加工规范分析器，用于分析加工规范。108.如权利要求107所述的系统，其中加工规范分析器把加工规范传送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。109.如权利要求106所述的系统，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。110.如权利要求106所述的系统，还包括用于从外部源输入用于逻辑操作的至少一个成分的数据的数据输入器。111.如权利要求110所述的系统，其中数据输入器包括指令行发生器和扫描器中的至少之一。112.如权利要求110所述的系统，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。113.如权利要求IIO所述的系统，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。114.如权利要求106所述的系统，还包括至少一个查找表，逻辑操作的至少一个成分被从该查找表中选择。115.如权利要求109所述的系统，其中逻辑操作的成分包括至少一个别名，所述系统还包括根据所述至少一个别名的默认值来^务改该至少一个别名的别名管理器。116.如权利要求106所述的系统，还包括逻辑操作验证器，用于验证逻辑操作的格式。117.如权利要求116所述的系统，其中逻辑操作验证器使用一组规则来验证逻辑操作的格式。118.如权利要求106所述的系统，还包括加工规范转换器，用于把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式。119.如权利要求106所述的系统，其中加工规范生成器按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一生成加工规范。120.如权利要求119所述的系统，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis,DXF，Applican，.cflt，.cinc和.ps。121.如权利要求106所述的系统，还包括图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。122.如权利要求106所述的系统，还包括图形实体界面，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。123.如权利要求106所述的系统，还包括向导，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。124.如权利要求106所述的系统，还包括指令发生器，用来输入用于逻辑操作的成分的数据。125.如权利要求106所述的系统，其中加工规范分析器分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。126.如权利要求125所述的系统，其中加工规范分析器产生分析结果，该分析结果和下列中的至少之一有关热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。127.如权利要求107所述的系统，其中加工规范分析器使用由光掩模设计模拟器模拟的光掩模设计来分析加工规范。128.—种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括步骤通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范，所述加工规范包括用于光掩模设计的断裂指令；使用断裂指令模拟光掩模设计；根据模拟的光掩模设计分析该加工规范；根据该加工规范生成光掩模定单；以及把光掩模定单传送给光掩模制造者的计算机系统。129.如权利要求128所述的方法，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。130.如权利要求128所述的方法，还包括从外部源输入用于逻辑操作的成分的数据的步骤。131.如权利要求130所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少之一进行。132.如权利要求130所述的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。133.如权利要求132所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。134.如权利要求128所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。135.如权利要求129所述的方法，其中逻辑操作的成分包括至少一个别名，所述方法还包括根据所述至少一个别名的默认值来修改该至少一个别名的步骤。136.如权利要求128所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步骤。137.如权利要求136所述的方法，其中加工规范的格式使用一组规则被验证。138.如权利要求128所述的方法，还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。139.如权利要求128所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一被生成。140.如权利要求139所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少之一GDSII，MEBES，Oasis，DXF，Applican，.cflt，.cinc和.ps。141.如权利要求128所述的方法，还包括使用图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一输入用于逻辑操作的成分的数据的步142.如权利要求141所述的方法，其中输入数据的步骤使用图形实体界面来进行。143.如权利要求141所述的方法，其中输入数据的步骤使用向导来进行。144.如权利要求141所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令发生器来进行。145.如权利要求128所述的方法，其中加工规范被分析，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。146.如权利要求145所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。147.—种用于生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范；验证该加工规范具有适当的格式；把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范；从光掩模制造者的计算机系统接收所述分析；根据加工规范生成光掩模定单；以及把该光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。148.如权利要求147所述的方法，其中逻辑操作的成分包括下列中的至少之一数据层属性，输入数据属性，表达式，图案组和别名。149.如权利要求147所述的方法，还包括从外部源输入用于逻辑操作的成分的数据的步骤。150.如权利要求149所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令行发生器和扫描器中的至少之一进行。151.如权利要求149所述的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。152.如权利要求151所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。153.如权利要求147所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。154.如权利要求147所述的方法，其中逻辑操作的成分包括至少一个别名，所述方法还包括根据所述至少一个别名的默认值来修改该至少一个别名的步骤。155.如权利要求147所述的方法，其中使用一组规则来验证加工规范的格式。156.如权利要求147所述的方法，还包括把加工规范转换成可以由第三方数据断裂应用使用的格式的步骤。157.如权利要求147所述的方法，其中加工规范按各种专有的和标准的光掩模数据格式中的至少之一被生成。158.如权利要求157所述的方法，其中各种专有的和标准的光掩模数据格式包括下列中的至少一个GDSII，MEBES，Oasis，DXF，Applican，.cflt，.cinc和.ps。159.如权利要求147所述的方法，还包括使用图形实体界面、向导和指令发生器中的至少之一输入用于逻辑操作的成分的数据的步160.如权利要求159所述的方法，其中输入数据的步骤使用图形实体界面来进行。161.如权利要求159所述的方法，其中输入数据的步骤使用向导来进行。162.如权利要求159所述的方法，其中输入数据的步骤使用指令发生器来进行。163.如权利要求147所述的方法，其中光掩模制造者的计算机系统分析加工规范，以确定加工规范的有效性、可行性和需要性中的至少之一。164.如权利要求163所述的方法，其中分析的结果包括以下中至少之一热点和计量学变换、掩模制造规则违例、关于特征计数和布局密度的统计、平版印刷和可变性灵敏度分析、掩模成本和循环时间的估计以及关于减少掩模成本和循环时间的建议、符合平版印刷要求的掩模规范、全芯片处理窗口和/或CD控制估计、以及关于替代的RET情形的潜力。165.如权利要求147所述的方法，还包括使用加工规范来模拟光掩模设计的步骤。166.如权利要求165所述的方法，其中使用模拟的光掩模设计来分析加工规范。167.—种用于生成用来制造光掩模的加工规范的方法，包括步骤对逻辑操作的成分进行创建、修改和删除中至少之一，所述成分包括具有操作码和与所述操作码对应的至少一个别名的至少一个表达式；根据默认值修改该至少一个别名；根据包括该修改的至少一个别名的逻辑操作来生成加工规范。168.如权利要求167所述的方法，还包括把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统以用于对该加工规范进行分析。169.如权利要求167所述的方法，还包括验证加工规范的格式的步骤。170.如权利要求167所述的方法，还包括根据加工规范模拟光掩模设计的步骤。171.如权利要求167所述的方法，还包括从外部源输入用于逻辑操作的至少一个成分的数据的步骤。172.如权利要求171所述的方法，其中输入数据的步骤^(吏用指令行发生器和扫描器中的至少之一进行。173.如权利要求171所述的方法，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。174.如权利要求173所述的方法，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。175.如权利要求167所述的方法，其中逻辑操作的至少一个成分被从至少一个查找表中选择。176.—种用于制造光掩模的加工规范生成系统，包括逻辑操作管理器，用于对逻辑操作的成分执行创建、修改和删除中的至少之一，所述成分包括具有操作码和与该操作码对应的至少一个别名的至少一个表达式；别名管理器，用于根据默认值修改所述至少一个别名；以及加工规范生成器，其根据包括修改的至少一个别名的逻辑操作来生成加工规范。177.如权利要求176所述的系统，还包括加工规范分析器，用于把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。178.如权利要求176所述的系统，还包括加工规范验证器，用于验证加工规范的格式。179.如权利要求176所述的系统，还包括光掩模设计模拟器，用于根据加工规范模拟光掩模设计。180.如权利要求176所述的系统，还包括用于从外部源输入用于逻辑操作的至少一个成分的数据的数据输入器。181.如权利要求180所述的系统，其中数据输入器包括指令行发生器和扫描器中的至少之一。182.如权利要求180所述的系统，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。183.如权利要求182所述的系统，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。184.如权利要求176所述的系统，还包括至少一个查找表，逻辑操作的至少一个成分被从该查找表中选择。185.—种含有计算机可读指令的用于使计算机执行一种方法的计算机可读介质，所述方法包括步骤通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分来生成加工规范；把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范；从光掩模制造者的计算机系统接收加工规范；根据该加工规范生成光掩模定单；以及把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。186.—种加工规范生成系统，包括数据输入器，用于从外部源向加工规范生成系统输入与逻辑操作的至少一个成分相关的数据；加工规范生成器，用于根据逻辑操作的至少一个成分来生成加工规范；以及包括文件传送器的加工规范分析器，所述传送器用于把加工规范传送到光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范。187.如权利要求186所述的系统，其中数据输入器包括指令行发生器和扫描器中的至少之一。188.如权利要求186所述的系统，其中外部源是下列中至少之一数据库，GDSII文件，MEBES文件，以及光掩模定单模板。189.如权利要求188所述的系统，其中外部源是数据库，并且与光掩模制造者的计算机系统共享该数据库。190.—种光掩模订单生成系统，包括加工规范生成器，用于使用图形用户界面、向导和指令发生器中的至少之一创建、修改和/或删除逻辑操作的至少一个成分，所述逻辑操作由加工规范表示；加工规范分析器，用于把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统以用于分析该加工规范；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。191.如权利要求190所述的系统，其中加工规范生成器包括图形实体界面。192.如权利要求l卯所述的系统，其中加工规范生成器包括向导。193.如权利要求190所述的系统，其中加工规范生成器包括指令发生器。194.一种光掩模订单生成系统，包括加工规范生成器，用于创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分；逻辑操作验证器，用于验证逻辑操作具有适当的格式；加工规范分析器，用于把加工规范发送给光掩模制造者的计算机系统，以用于分析该加工规范；以及光掩模定单生成器，用于根据加工规范生成光掩模定单，并把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统。195.如权利要求194所述的系统，其中逻辑操作验证器使用一組规则来验证逻辑操作的格式。全文摘要一种使用加工规范生成系统生成用来制造光掩模的光掩模定单的方法，包括通过创建、修改和/或删除由加工规范表示的逻辑操作的成分生成加工规范。逻辑操作所需的信息可由外部源例如数据库输入，和/或可从查找表中选择。构成逻辑操作中的表达式的操作符的别名可根据光掩模用户的需要修改。加工规范的格式可由光掩模制造者的计算机系统进行验证。按各种专有的和工业标准格式的加工规范被发送给光掩模制造者的计算机系统以对其进行分析，并且可使用加工规范模拟光掩模设计。在收到分析结果之后，光掩模用户的计算机系统根据加工规范生成光掩模定单。然后把光掩模定单发送给光掩模制造者的计算机系统用于制造光掩模。这种加工规范生成系统可以是独立的系统，或者和光掩模订单生成系统集成在一起。文档编号G06F19/00GK101443769SQ200580047015公开日2009年5月27日申请日期2005年5月12日优先权日2004年12月7日发明者克里斯托弗·J.·普洛格勒,周克勇,舒尤,朱宏金,查尔斯·E.·克罗克,韩合诚申请人:美商福昌公司