专利名称：辅助图案工具的匹配方法
技术领域：
本发明是关于一种辅助图案工具的匹配方法，特别是一种经由比对辅助图案的辅助图案工具的匹配方法。
背景技术：
在半导体工艺上，为了将集成电路的图案顺利地转移到半导体芯片上，须先将集成电路的图案依照半导体工艺的设计规范，完成光罩布局图案设计，再依据各光罩布局图案设计制作光罩，最后再将光罩依比例于不同的工艺中逐步转移到半导体芯片上。由于集成电路图案积集度逐渐提高且受限于曝光机台的分辨率极限，在光微影工艺中转移高密度光罩图案时容易产生光学近接效应，造成图案转移的偏差，例如设置于主要图案直角处的辅助图案残留、直角转角圆形化、直线末端紧缩以及直线线宽增加或缩减
坐寸ο为了避免上述光学近接效应造成光罩转移偏差，通常在制作光罩时都会对光罩布局图案设计进行光学近接修正(optical proximity correction, OPC),并于光罩布局图案设计中加入辅助图案(assistant feature,AF)以改善光学近接效应。依据光罩布局图案，利用计算机辅助设计(computer aided design,CAD)计算光学近接修正,然后,利用例如计算机得到修正后的图案和辅助图案。辅助图案在光学近接修正中扮演着重要的角色，不同辅助图案的设置方式可造成明显不同的晶圆图案化结果。依据光罩图案计算辅助图案以防止光学近接效应的辅助图案工具是非常重要的，然而辅助图案工具却是非常昂贵。由于辅助图案工具对于计算辅助图案非常重要且有益，其计算方式是可被接受且可作为一参考目标辅助图案工具。光学近接修正的工程人员必须评估新版本或新开发的辅助图案工具，以确认其具有较为友善的操作方式。然而，由于不同辅助图案工具间，具有不同的主要运算逻辑，相同的辅助图案产生原则可能产生不同的辅助图案。在现有技术中，不同辅助图案工具通过一小区域产品图案布局，以获得不同的辅助图案安排结果。然而，当新版本或新开发的辅助图案工具计算原则与参考目标辅助图案工具计算原则不同时，要评估其是否可被接受是非常不容易的。因此，有必要提供一创新且富有进步性的辅助图案工具的匹配方法，以解决上述问题。
发明内容
本发明提供一种辅助图案工具的匹配方法，用以评估新版本或新开发的辅助图案工具的操作是否友善。在本发明的一实施例中，一种辅助图案工具的匹配方法包括以下步骤依据一特定测试布局(20)以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案(30);依据该特定测试布局
(20)以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案(40);及比较该对比辅助图案(40)与该目标辅助图案(30)，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。、
进一步地，产生该目标辅助图案(30)的步骤包括依据该特定测试布局(20)产生一第一初始辅助图案(30')，该第一初始辅助图案(30')包括多个第一初始图案(32' -36')，所述多个第一初始图案(32' -36')彼此至少部分重叠；及调整所述多个第一初始图案(32' -36')以形成该目标辅助图案(30)。进一步地，所述多个第一初始图案(32' -36')依据一第一末端调整规则进行调M
iF. O进一步地，产生该对比辅助图案(40)的步骤包括依据该特定测试布局(20)产生一第二初始辅助图案(40')，该第二初始辅助图案(40')包括多个第二初始图案(42' -46')，所述多个第二初始图案(42' -46')彼此至少部分重叠；及调整所述多个第二初始图案(42' -46')以形成该对比辅助图案(40)。进一步地，所述多个第二初始图案(42' -46')依据一第二末端调整规则进行调M
iF. O进一步地，若该对比辅助图案(40)实质上与该目标辅助图案(30)匹配，决定该第二辅助图案工具为可接受；否则，修正用以产生该对比辅助图案(40)的规则，以产生新的对比辅助图案。进一步地，产生新的对比辅助图案的步骤包括依据该特定测试布局(20)产生一修正后初始辅助图案，该修正后初始辅助图案包括多个修正后初始图案，所述多个修正后初始图案彼此至少部分重叠；及调整所述多个修正后初始图案以形成该新的对比辅助图案，其中，比较该新的对比辅助图案与该目标辅助图案(30)，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。进一步地，若该新的对比辅助图案实质上与该目标辅助图案(30)匹配，决定该第二辅助图案工具为可接受；否则，决定该第二辅助图案工具为被拒绝。进一步地，该第一辅助图案工具及该第二辅助图案工具包含于相同的装置内。进一步地，该第一辅助图案工具及该第二辅助图案工具包含于不相同的装置内。进一步地，该目标辅助图案(30)的安排实质上呈L形、U形或N形。进一步地，该特定测试布局(20)包括多个主要图案，该目标辅助图案(30)位于二相邻主要图案间。进一步地，该目标辅助图案(30)选自于截线或散射条，或其组合。上文已相当广泛地概述本发明的技术特征，使下文的本发明详细描述得以获得较佳了解。构成本发明权利要求的其它技术特征将描述于下文。本发明所属技术领域中具有通常知识者应了解，可相当容易地利用下文揭示的概念与特定实施例可作为修改或设计其它结构或工艺而实现与本发明相同的目的。本发明所属技术领域中具有通常知识者亦应了解，这类等效建构无法脱离后附的权利要求所界定的本发明的精神和范围。
通过参照前述说明及下列图式，本发明的技术特征得以获得完全了解。图I为本发明一实施例的辅助图案工具的匹配方法的流程图2至4为本发明一实施例，依据一特定测试布局以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案的示意图；图5及图6为本发明一实施例，依据该特定测试布局以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案的示意图；及图7及图8为本发明一实施例的U形及N形目标辅助图案的示意图。其中，附图标记说明如下20特定测试布局22、24主要图案30目标辅助图案
30'第一初始辅助图案32、34目标辅助图案的垂直条36目标辅助图案的水平条32' -36'第一初始图案40对比辅助图案40'第二初始辅助图案42、44对比辅助图案的垂直条46对比辅助图案的水平条A2' -46'第二初始图案100辅助图案工具的匹配方法101-103 步骤
具体实施例方式图I为本发明一实施例的辅助图案工具的匹配方法的流程图。图2至图4为本发明一实施例，依据一特定测试布局20以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案30的不意图。配合参考步骤101及图2至图4，在本发明一实施例中，依据包括多个主要图案22、24(如集成电路布局的一部分，I维或2维的图案，如图2所示)的一特定测试布局20，以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案30。在本实施例中，产生该目标辅助图案30的步骤包括依据该特定测试布局20 (如图4所示)产生一第一初始辅助图案30'，该第一初始辅助图案30'包括多个第一初始图案32'、34'、36'，所述多个第一初始图案32'、34'、36'彼此至少部分重叠；及依据一第一末端调整规则调整该第一初始辅助图案30'的所述第一初始图案32'、34'、36'，以形成该目标辅助图案30(如图5所示)。 在本实施例中，该目标辅助图案30的安排实质上是呈L形且位于二相邻主要图案
22、24间。该目标辅助图案30可选自于截线(serif)或散射条(scattering bar),或其组
八
口 ο如图3所示，该第一初始辅助图案30'包括二垂直条32' ,34/及一水平条36'，其中该水平条36'垂直地垂叠于二垂直条32'、34'。如图4所示，该第一初始辅助图案30'接着被修正以移除部分水平条36'及部分垂直条34'，使得修正后的垂直条32、34及水平条36不互相重叠。
要注意的是，该目标辅助图案30的安排实质上可为U形或N形，但不以此为限，其可视该特定测试布局20的主要图案22、24而定。用以产生相应U形或N形目标辅助图案30 (分别如图7及图8所示)的规则可参考上述关于用以产生相应L形目标辅助图案30的规则，在此不再加以叙述。
图5及图6为本发明一实施例，依据该特定测试布局20以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案40的示意图。配合参考步骤102、图3、图5及图6，在本发明一实施例中，依据该特定测试布局20以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案40。在本实施例中，产生该对比辅助图案的步骤包括依据该特定测试布局20产生一第二初始辅助图案40'，该第二初始辅助图案40'包括多个第二初始图案42'、44'、46'，所述多个第二初始图案42'、44'、46'彼此至少部分重叠(如图5所示)；及调整所述多个第二初始图案42'、44'、46'以形成该对比辅助图案40'(如图6所示)。如图5所示，该第二初始辅助图案40'包括二垂直条42'、44'及一水平条46'，其中该水平条46'垂直地垂叠于二垂直条42'、44'。如图6所示，该第二初始辅助图案40'接着被修正以移除部分水平条46'，使得修正后的水平条46不与垂直条42、44重叠。在本实施例中，所述多个第二初始图案40'依据一第二末端调整规则进行调整，该第二末端调整规则实质上不同于该第一末端调整规则。要注意的是，该第一辅助图案工具及该第二辅助图案工具可包含于相同的装置内或包含于不相同的装置内。参考步骤103，比较该对比辅助图案40与该目标辅助图案30，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。举例而言，图6所示的对比辅助图案40被认为实质上不同于图4所示的目标辅助图案30，用于产生该对比辅助图案40的规则需要进行修正。在本发明的一实施例中，修正产生新的对比辅助图案规则的步骤包括依据该特定测试布局20产生一修正后初始辅助图案，该修正后初始辅助图案包括多个修正后初始图案，所述多个修正后初始图案彼此至少部分重叠；及调整所述多个修正后初始图案以形成该新的对比辅助图案，其中，比较该新的对比辅助图案与该目标辅助图案30，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。在修正后的新的对比辅助图案规则中，对比辅助图案40被修正(例如实质上与图3及图4所示的方式相同)，以产生一新的对比辅助图案(例如实质上与图3及图4所示的相同目标辅助图案30)。如此，修正后的新的对比辅助图案实质上与该目标辅助图案30相匹配，则决定该第二辅助图案工具为可接受。然而，若无法找出可产生与该目标辅助图案30相匹配的新的对比辅助图案的规则，决定该第二辅助图案工具为被拒绝。本发明的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本发明所属技术领域中具有通常知识者应了解，在不背离后附申请专利范围所界定的本发明精神和范围内，本发明的教示及揭示可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多工艺可以不同的方法实施或以其它工艺予以取代，或者采用上述二种方式的组合。此外，本案的权利范围并不局限于上文揭示的特定实施例的工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤。本发明所属技术领域中具有通常知识者应了解，基于本发明教示及揭示工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤，无论现在已存在或日后开发者，其与本案实施例揭示者系以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本发明。因此，以下的申请专利范围系用以涵盖用以此类工艺、机台、制 造、物质的成份、装置、方法或步骤。
权利要求
1.一种辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该匹配方法包括以下步骤 依据一特定测试布局(20)以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案(30)； 依据该特定测试布局(20)以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案(40);及 比较该对比辅助图案(40)与该目标辅助图案(30)，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。
2.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于产生该目标辅助图案(30)的步骤包括 依据该特定测试布局(20)产生一第一初始辅助图案(30')，该第一初始辅助图案(30')包括多个第一初始图案(32' -36')，所述多个第一初始图案(32' -36')彼此至少部分重叠；及 调整所述多个第一初始图案(32' -36')以形成该目标辅助图案(30)。
3.根据权利要求2所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于所述多个第一初始图案(32' -36')依据一第一末端调整规则进行调整。
4.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于产生该对比辅助图案(40)的步骤包括 依据该特定测试布局(20)产生一第二初始辅助图案(40')，该第二初始辅助图案(40')包括多个第二初始图案(42' -46')，所述多个第二初始图案(42' -46')彼此至少部分重叠；及 调整所述多个第二初始图案(42' -46')以形成该对比辅助图案(40)。
5.根据权利要求4所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于所述多个第二初始图案(42' -46')依据一第二末端调整规则进行调整。
6.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于若该对比辅助图案(40)实质上与该目标辅助图案(30)匹配，决定该第二辅助图案工具为可接受；否则，修正用以产生该对比辅助图案(40)的规则，以产生新的对比辅助图案。
7.根据权利要求6所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于产生新的对比辅助图案的步骤包括 依据该特定测试布局(20)产生一修正后初始辅助图案，该修正后初始辅助图案包括多个修正后初始图案，所述多个修正后初始图案彼此至少部分重叠；及 调整所述多个修正后初始图案以形成该新的对比辅助图案，其中，比较该新的对比辅助图案与该目标辅助图案(30)，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。
8.根据权利要求7所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于若该新的对比辅助图案实质上与该目标辅助图案(30)匹配，决定该第二辅助图案工具为可接受；否则，决定该第二辅助图案工具为被拒绝。
9.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该第一辅助图案工具及该第二辅助图案工具包含于相同的装置内。
10.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该第一辅助图案工具及该第二辅助图案工具包含于不相同的装置内。
11.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该目标辅助图案(30)的安排实质上呈L形、U形或N形。
12.根据权利要求I所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该特定测试布局(20)包括多个主要图案，该目标辅助图案(30)位于二相邻主要图案间。
13.根据权利要求12所述的辅助图案工具的匹配方法，其特征在于该目标辅助图案(30)选自于截线或散射条或其组合。
全文摘要
一种辅助图案工具的匹配方法包括以下步骤依据一特定测试布局(layout)以一第一辅助图案工具产生一目标辅助图案；依据该特定测试布局以一第二辅助图案工具产生一对比辅助图案；及比较该对比辅助图案与该目标辅助图案，以决定接受或拒绝该第二辅助图案工具。本发明辅助图案工具的匹配方法，用以评估新版本或新开发的辅助图案工具的操作是否友善。
文档编号G06F17/50GK102737139SQ20111012810
公开日2012年10月17日 申请日期2011年5月18日 优先权日2011年4月5日
发明者傅国贵, 刘献文, 陈逸男 申请人:南亚科技股份有限公司