专利名称：输入装置及输入装置的制造方法
技术领域：
本发明涉及输入装置及输入装置的制造方法，尤其涉及能够将一对透明基材准确地对位而进行层叠的输入装置及输入装置的制造方法。
背景技术：
目前，作为携带用的电子设备等的显示部，使用直接用手指等操作显示图像的菜单项目或对象而进行坐标输入用的透光型输入装置。作为这样的输入装置，列举有各种方式，但其中大多使用通过静电电容值的变化来检测输入位置信息的静电电容式的输入装置。静电电容式的输入装置具有一对透明基材、用于保护表面的保护面板。在一对透 明基材上分别形成有透明电极层，以在透明电极层间形成静电电容的方式将各透明基材层叠。静电电容式的输入装置能够根据透明电极层间的静电电容值的变化来检测输入位置信息。因此，在组装输入装置时，若一对透明基材的层叠位置发生错动，则产生无法准确地检测输入位置信息这样的问题。另外，对于一对透明基材和保护面板而言，当未准确地对位而进行层叠时，存在产生不能检测输入操作的区域的情况或外观品质上的不良情况。作为将各透明基材或各构件间准确地对位而进行层叠的方法，已知有分别设置对准标记而图像识别来进行对位的方法。例如，在专利文献I中就公开有这样的对准标记的一例。另外，在专利文献2中公开有一种能够通过在非输入区域形成的对准标记，来提高显示装置与输入装置的对准精度的结构。在专利文献3及专利文献4中公开有一种能够通过在输入区域形成的对准标记，来提高显示装置与输入装置的对准精度的结构。在先技术文献专利文献专利文献I日本特开平11-153805号公报专利文献2日本特开2008-209554号公报专利文献3日本特开2010-170250号公报专利文献4日本特开2008-009054号公报在静电电容式的输入装置中，存在因来自外部的电磁噪声等的影响、通过手或手指接触非输入区域时在非输入区域与透明电极层之间产生的静电干涉的影响等，而产生误输入或误检测的问题。为了防止这样的静电干涉，以包围透明基材的输入区域的方式设置GND电极层。然而，当形成GND电极层，并在GND电极层的外侧的非输入区域形成对准标记时，非输入区域的面积增大，难以实现输入装置的窄框化。另外，当在比GND电极层靠内侧的位置形成对准标记时，在对准标记与透明电极层之间形成静电电容，由此，输入区域内的静电电容分布变得不均匀，产生输入操作时的检测灵敏度分布变得不均匀这样的问题
发明内容
本发明用于解决上述问题，其目的在于提供一种能够实现静电干涉的抑制及窄框化，且能够将透明基材间准确对位而进行层叠的输入装置及输入装置的制造方法。本发明的输入装置的特征在于，具有透光性的第一透明基材、与所述第一透明基材对置配置的第二透明基材、在所述第一透明基材及所述第二透明基材的输入区域分别形成的第一透明电极层和第二透明电极层、以包围所述第一透明基材的所述输入区域的方式形成的GND电极层，在所述第一透明基材上形成有由所述GND电极层的一部分构成的第一对准标记，在所述第二透明基材上的与所述第一对准标记对应的位置形成有第二对准标记，以所述第二对准标记的至少一部分与所述第一 对准标记在俯视下重叠的方式将所述第一透明基材和所述第二透明基材层叠。由此，能够对在第一透明基材上形成的第一对准标记和在第二透明基材上形成的第二对准标记进行图像识别，从而将第一透明基材和第二透明基材准确地对位而进行层叠。并且，第一对准标记由GND电极层的一部分构成，第二对准标记的基准缘的至少一部分以与第一对准标记在俯视下重叠的方式形成，因此能够抑制位于输入区域的周围的非输入区域扩大，从而实现输入装置的窄框化。另外，GND电极层以包围输入区域的方式形成，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，且抑制各对准标记与透明电极层之间的静电干涉，因此能够防止误检测或误动作。因此，根据本发明，能够提供一种能够实现静电干涉的抑制及窄框化，且能够将透明基材间准确地对位而进行层叠的输入装置。在本发明的输入装置中，优选在所述GND电极层的外缘形成有凹部，所述第一对准标记由所述凹部构成，所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述凹部内。由此，抑制非输入区域的扩大而形成第一对准标记和第二对准标记，因此能够实现输入装置的窄框化。另外，第一对准标记由在GND层的外缘形成的凹部构成，因此不改变GND电极层的内缘的形状就能够形成第一对准标记。由此，在位于GND电极层的内侧的输入区域中能够防止静电电容分布的变化。另外，通过GND电极层，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，且抑制第一对准标记及第二对准标记与各透明电极层之间的静电干涉。因此，能够实现静电干涉的抑制及窄框化，并能够将透明基材间准确地对位而进行层叠。优选在所述GND电极层形成有开口部，所述第一对准标记由所述开口部构成，且所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述开口部内。这样的形态下也能够实现静电干涉的抑制及窄框化，并能够将透明基材间准确地对位而进行层叠。优选在所述第一透明基材的平面内，将交叉的两个方向作为第一方向和第二方向时，所述GND电极层具有沿所述第一方向延伸的第一 GND电极部和沿所述第二方向延伸的第二 GND电极部，所述第一对准标记由所述第一 GND电极部的一部分及所述第二 GND电极部的一部分构成，所述第二对准标记具有沿着所述第一方向的第一部分和沿着所述第二方向的第二部分。由此，即使在对准标记的附近配置引出配线层等其它图案的情况下，也能够使第一对准标记及第二对准标记的形状与其它图案明确地不同，因此能够防止图像识别中的误识别。另外，在对第一对准标记及第二对准标记进行图像识别时，能够在不扩大非输入区域的情况下实质性增大图像识别区域，因此能够防止误识别且能够提高图像识别精度。因此，能够将第一透明基材和第二透明基材准确地对位而进行层叠。
在本发明的输入装置中，优选所述第一对准标记的所述第一部分与所述第二部分分离形成。若为这样的形态，则能够利用GND电极层的角部来进行输入装置的静电破坏检查。优选在所述第一透明基材的输入面侧层叠有用于保护表面的保护面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板基于所述第二对准标记的基准缘来对位而进行层叠。由此，不需要另外设置用于层叠保护面板的对准标记，而能够基于第二对准标记将第一透明基材及第二透明基材与保护面板准确地对位而进行层叠。本发明的输入装置的制造方法的特征在于，包括以包围所述第一透明基材的所述输入区域的方式形成GND电极层，并形成由所述GND电极层的一部分构成的第一对准标记的工序；在所述第二透明基材的与所述第一对准标记对应的位置形成第二对准标记的工序；以所述第二对准标记的至少一部分与所述第一对准标记在俯视下重叠的方式将所述第·一透明基材和所述第二透明基材层叠的工序。由此，能够对在第一透明基材上形成的第一对准标记和在第二透明基材上形成的第二对准标记进行图像识别，从而将第一透明基材和第二透明基材准确地对位而进行层叠。并且，第一对准标记由GND电极层的一部分构成，以第二对准标记的基准缘的至少一部分与第一对准标记在俯视下重叠的方式层叠各透明基材，因此能够抑制位于输入区域的周围的非输入区域扩大，从而实现输入装置的窄框化。另外，GND电极层以包围输入区域的方式形成，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，并抑制各对准标记与透明电极层之间的静电干涉，因此能够防止误检测或误动作。因此，根据本发明，能够提供一种能够实现静电干涉的抑制及窄框化，且能够将透明基材间准确地对位而进行层叠的输入装置。在本发明的输入装置的制造方法中，优选包括在所述GND电极层的外缘设置凹部，形成由所述凹部构成的所述第一对准标记的工序；以所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述凹部内的方式将所述第一透明基材和所述第二透明基材层叠的工序。这样，能够抑制非输入区域的扩大而形成第一对准标记和第二对准标记，因此能够实现输入装置的窄框化。另外，第一对准标记由在GND层的外缘形成的凹部构成，因此不改变GND电极层的内缘的形状就能够形成第一对准标记。由此，在位于GND电极层的内侧的输入区域中能够防止静电电容分布的变化。另外，通过GND电极层，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，且抑制第一对准标记及第二对准标记与各透明电极层之间的静电干涉。因此，能够实现静电干涉的抑制及窄框化，并能够将透明基材间准确地对位而进行层叠。在本发明的输入装置的制造方法中，优选包括在所述GND电极层设置开口部，形成由所述开口部构成的所述第一对准标记的工序；以所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述开口部内的方式将所述第一透明基材和所述第二透明基材层叠的工序。这样的形态下也能够实现静电干涉的抑制及窄框化，并能够将透明基材间准确地对位而进行层叠。在本发明的输入装置的制造方法中，优选包括基于所述第二对准标记的基准缘，将用于保护表面的保护面板对位，从而将所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板层叠的工序。由此，不需要另外设置用于层叠保护面板的对准标记，而能够基于第二对准标记将第一透明基材及第二透明基材与保护面板准确地对位而进行层叠。发明效果根据本发明，能够对在第一透明基材上形成的第一对准标记和在第二透明基材上形成的第二对准标记进行图像识别，从而将第一透明基材和第二透明基材准确地对位而进
行层叠。并且，第一对准标记由GND电极层的一部分构成，第二对准标记的基准缘的至少一部分以与第一对准标记在俯视下重叠的方式形成，因此能够抑制位于输入区域的周围的非输入区域扩大，从而实现输入装置的窄框化。另外，GND电极层以包围输入区域的方式形成，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，且抑制各对准标记与透明电极层之间的静电干涉，因此能够防止误检测或误动作。
因此，根据本发明，能够提供一种能够实现静电干涉的抑制及窄框化，且能够将透明基材间准确地对位而进行层叠的输入装置。
图I是本实施方式中的输入装置的分解立体图。图2是本实施方式中的第一透明基材的俯视图。图3是本实施方式中的第二透明基材的俯视图。图4是将第一透明基材与第二透明基材对位而进行层叠后的示意俯视透视图。图5是表示本实施方式的第一变形例的将第一透明基材与第二透明基材层叠后的示意俯视透视图。图6是表示第二变形例的将第一透明基材与第二透明基材层叠后的示意俯视透视图。图7是表示本实施方式的输入装置的制造方法的形成具有第一对准标记的GND电极层的工序的图。图8是表示本实施方式的输入装置的制造方法的形成具有第一对准标记的GND电极层的工序的图。图9是表示将第一透明基材和第二透明基材层叠的工序的图。图10是表示将第一透明基材及第二透明基材与保护面板层叠的工序的图。符号说明I输入装置10第一透明基材11第一透明电极层12第一引出配线层20第二透明基材21第二透明电极层22第二引出配线层31保护面板32装饰层
4IGND 电极层41a 第一 GND 电极部41b 第二 GND 电极部42第一对准标记42a 第一凹部42b 第二凹部42c 第一开口部42d 第二开口部43第二对准标记43a 第一部分43b 第二部分43ml第一部分的基准缘43m2第二部分的基准缘 51输入区域52非输入区域61透明电极膜62金属层63、64抗蚀剂层
具体实施例方式图I中示出本发明的实施方式中的输入装置I的分解立体图。另外，图2中示出第一透明基材10的俯视图，图3中示出第二透明基材20的俯视图。如图I所示，本实施方式的输入装置I具有第一透明基材10、第二透明基材20及在第一透明基材10的输入面侧配置的保护面板31。保护面板31为了保护输入装置I的表面而设置，使用PC (聚碳酸酯)等树脂基板、玻璃基板等透光性的材料形成。如图I所示，在保护面板31的外周设有被着色了的装饰层32，由此，划分成透光性的输入区域51和被着色了的非透光性的非输入区域52。如图I及图2所示，在第一透明基材10的输入区域51形成有第一透明电极层11。第一透明电极层11由沿Y1-Y2方向延伸的多个带状的透明电极层构成，这多个带状的透明电极层在X1-X2方向上空开间隔排列。另外，如图I及图3所示，在第二透明基材20的输入区域51形成有由多个带状的透明电极层构成的第二透明电极层21。第二透明电极层21中沿X1-X2方向延伸的多个透明电极层在Y1-Y2方向上空开间隔排列。如图I所示，以在第一透明电极层11与第二透明电极层21的各交点处形成静电电容值的方式将第一透明基材10与第二透明基材20层叠。第一透明基材10和第二透明基材20经由透光性的丙烯系双面胶带或由丙烯系光学粘接剂构成的粘接层33 (未图示)而层叠。另外，保护面板31和第一透明基材10同样地经由粘接层34(未图示)而层叠。第一透明基材10及第二透明基材20使用透光性的薄膜状树脂材料，例如可以使用PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)薄膜。第一透明基材10及第二透明基材20的厚度分别形成为50 ii m 200 ii m左右。另外，第一透明电极层11及第二透明电极层21都由在可见光区域具有透光性的ITOdndium Tin Oxide)、Sn02、ZnO等的透明电极膜形成。第一透明电极层11及第二透明电极层21通过溅射法或蒸镀法等薄膜法形成，它们的厚度都为0. 01 y m 0. 05 y m，例如形成为0. 02 y m左右。另外，在溅射法或蒸镀法以外的方法中，还可以通过准备预先形成有透明电极膜的薄膜而仅将透明电极膜转印到透明基材上的方法、涂敷导电性聚合物或Ag纳米金属线等的方法来形成。在输入装置I的输入操作时，若使手指接触保护面板31表面的输入区域51的任意的部位，则在第一透明电极层11与第二透明电极层21之间的静电电容上附加了第一透明电极层11与手指之间的静电电容，从而产生静电电容值的变化。通过检测第一透明电极层11与第二透明电极层21的各交点的静电电容值，能够根据静电电容值的变化来检测输入位置。
如图2所示，在第一透明电极层11的Yl侧的端部连接有第一引出配线层12。第一引出配线层12在Yl侧的非输入区域52被拉回而与第一连接部13连接。第一透明电极层11与第一引出配线层12经由用于确保连接可靠性的连接用焊盘15连接，另外，在第一透明电极层11的Y2侧的端部形成有用于测定电特性的检查用焊盘14。另外，如图3所示，在第二透明电极层21的Xl侧的端部和X2侧的端部分别连接有第二引出配线层22。第二引出配线层22在非输入区域52被拉回，而与在Yl侧形成的第二连接部23连接。第一连接部及第二连接部与挠性印刷电路板(未图示)连接，从而能够将输入位置信息输出。在与挠性印刷电路板的连接中，优选在第一透明基材10上的与第二连接部23对置的位置形成切口等(未图示)。这样，第一连接部13和第二连接部23并列露出，因此能够容易地进行与挠性印刷电路板的连接。第一引出配线层12、第二引出配线层22、第一连接部13及第二连接部23形成在与形成于保护面板31的装饰层32在俯视下重叠的位置，操作者无法直接视觉辨认，因此可以使用非透光性的材料。在本实施方式中，使用具有比第一透明电极层11及第二透明电极层21高的导电性(电阻值低)的例如AgPdCu、Cu、Al、Ag、Au、MoNb/Al、MoNb/AgPdCu等金属材料。通过在各引出配线层及各连接部使用电阻值低的材料，而能够确保电连接可靠性，并且即使在将第一引出配线层12及第二引出配线层22的线宽形成得更细的情况下，也能够得到低的电阻值，因此对输入装置I的窄框化更有效。在本实施方式的输入装置I中，如图I及图2所示，GND电极层41以包围输入区域51的方式形成在第一透明基材10的非输入区域52。GND电极层41使用与第一引出配线层12及第一连接部13同样地具有高导电性的金属材料。需要说明的是，GND电极层41在使用时设定为接地电位。通过设置GND电极层41，能够屏蔽来自外部的电子设备等的电磁噪声，并能够抑制静电干涉。另外，即使在使手指或手接触保护面板31表面的非输入区域52的情况下，通过GND电极层41进行屏蔽，在GND电极层41的内侧的输入区域51处也能够抑制静电干涉。由此，能够防止无检测等，从而能够稳定地检测输入位置信息。另外，如上所述，在静电电容式的输入装置I中，扫描第一透明电极层11与第二透明电极层21的各交点来检测静电电容值的变化，由此能够检测输入位置信息。因此，为了准确地检测输入位置信息，而需要将第一透明基材10和第二透明基材20准确地对位而进行层叠。如图2所示，在本实施方式的输入装置I中，在GND电极层41的外缘形成有朝向内侧而凹陷形成的第一凹部42a及第二凹部42b。由该第一凹部42a及第二凹部42b构成第一对准标记42。另外，如图3所示，在第二透明基材20的非输入区域52中的与第一对准标记42对应的位置形成有第二对准标记43。第二对准标记43与第二引出配线层22、第二连接部23等同样，使用具有高的导电性的金属材料。在将第一透明基材10和第二透明基材20层叠时，能够对第一对准标记42及第二对准标记43的位置进行图像识别而准确地对位并进行层叠。图4中示出将第一透明基材10和第二透明基材20层叠后的示意俯视透视图，尤其对第一对准标记42及第二对准标记43附近进行放大示出。如图4所示，GND电极层41具有沿Y1-Y2方向延伸的第一 GND电极部41a和沿X1-X2方向延伸的第二 GND电极部41b。如图4所示，在第一 GND电极部41a的外缘形成有第一凹部42a，在第二 GND电极部41b的外缘形成有第二凹部42b。第一对准标记42由第一凹部42a及第二凹部42b构 成。另外，在第二透明基材20上形成的第二对准标记43具备具有沿着Y1-Y2方向的基准缘43ml的矩形形状的第一部分43a ;具有沿着X1-X2方向的基准缘43m2的矩形形状的第二部分43b。并且，在与第一凹部42a对应的位置形成有第一部分43a，在与第二凹部42b对应的位置形成有第二部分43b。在本实施方式中，将矩形形状的第一部分43a及第二部分43b的长边的一部分分别作为基准缘43ml、基准缘43m2。通过这样形成第一对准标记42和第二对准标记43，能够对第一对准标记42和第二对准标记43分别进行图像识别而准确地对位并进行层叠。在本实施方式的输入装置I中，如图4所示，以第二对准标记43的第一部分43a的基准缘43ml的一部分位于第一凹部42a的内部，且第二部分43b的基准缘43m2的一部分位于第二凹部42b的内部的方式进行层置。例如在第一对准标记42与GND电极层41分别形成的情况下，为了形成第一对准标记42，需要将GND电极层41的外周的非输入区域52的面积扩大，从而输入装置I的窄框化变得困难。根据本实施方式的输入装置1，由在GND电极层41的外缘形成的第一凹部42a及第二凹部42b构成第一对准标记42，第二对准标记43形成在与第一对准标记42对应的位置上。由此，不用扩大非输入区域52就形成第一对准标记42和第二对准标记43，从而能够实现输入装置I的窄框化。并且，即使形成第一对准标记42及第二对准标记43，由于GND电极层41以包围输入区域51的方式形成，因此也能够有效地抑制来自外部的电磁噪声或手指等接触非输入区域时的静电干涉。另外，由于不改变GND电极层的内缘的形状就形成第一对准标记，因此在位于GND电极层41的内侧的输入区域51中能够防止静电电容分布的变化。另外，通过GND电极层41，来抑制来自外部的电磁噪声等引起的静电干涉，并抑制第一对准标记42及第二对准标记43与各透明电极层之间的静电干涉。因此，根据本实施方式的输入装置，能够有效地抑制静电干涉而防止误动作或误检测。在本实施方式中，通过对第一对准标记42的第一凹部42a、第二凹部42b及第二对准标记43的第一部分43a、第二部分43b进行图像识别，来将第一透明基材10和第二透明基材20对位而进行层叠。由此，即使在各对准标记附近配置引出配线层等其它图案的情况下，由于能够使第一对准标记42及第二对准标记43的形状与其它图案明确地不同，因此也能够防止图像识别中的误识别。另外，在对第一对准标记42及第二对准标记43进行图像识别的情况下，能够在不扩大非输入区域52的情况下实质性地增大图像识别区域，因此能够防止误识别且能够提高图像识别精度。另外，在本实施方式中，将第一对准标记42的第一凹部42a与第二凹部42b分离形成，并且，将第二对准标记43的第一部分43a与第二部分43b分离形成。若为这样的形态，则在GND电极层41的角部未设置第一对准标记42的第一凹部42a及第二凹部42b，因此能够利用GND电极层41的角部来进行输入装置I的静电破坏检查。另外，由于能够在不扩大非输入区域52的情况下更大地确保图像识别区域，因此能够防止误识别。需要说明的是，在图4中，对第一透明基材10及第二透明基材20的一个角部进行了图示，但对角也同样，通过设置第一对准标记42和第二对准标记43，能够更准确地进行对位。另外，如图2及图3所示，在对角的非输入区域52中，为了进行与挠性印刷电路板的连接而具有比较宽的面积，因此不局限于图4所示的形态，能够以各种形态形成对准标记。 为了实现输入装置I的窄框化，例如，还研究出如下方法在第一透明基材10的一部分及第二透明基材20的一部分预先设置突出部，并在该突出部上分别形成对准标记。根据这样的结构，通过在基于各对准标记而将第一透明基材10和第二透明基材20贴合后，将突出部切断，从而能够实现输入装置I的窄框化。在该情况下，将各对准标记也和突出部一起切断。因此，在将第一透明基材10和第二透明基材20贴合后层叠保护面板31时，对位非常困难。在本实施方式的输入装置I中，在实现窄框而将第一透明基材10和第二透明基材20层叠后，也能够视觉辨认第二对准标记43的一部分。在本实施方式中，由于能够在第一凹部42a及第二凹部42b内视觉辨认第二对准标记43的第一部分43a的基准缘43ml及第二部分43b的基准缘43m2的一部分，因此基于基准缘43ml及基准缘43m2的一部分，能够将第一透明基材10及第二透明基材20与保护面板31容易且准确地对位而进行层叠。第一对准标记42及第二对准标记43的形态没有限定为图4所示那样的形态。例如，第二对准标记43可以为正方形、圆形、十字或它们的组合等通常的对准标记。另外，在图4中，以第二对准标记43 (第一部分43a、第二部分43b)的一部分位于第一对准标记42 (第一凹部42a、第二凹部42b)的内部的方式进行层叠，但不局限于此，即使形成为第二对准标记43的第一部分43a及第二部分43b整体分别位于第一凹部42a内及第二凹部42b内的大小也没有任何问题。需要说明的是，在本实施方式的输入装置I中，第一对准标记42及第二对准标记43分别具有多个对准标记，但不局限于该形态，即使在仅形成第一凹部42a与第一部分43a的组合或第二凹部42b与第二部分43b的组合中的任一方的情况下，也能够进行图像识别而准确地对位。图5示出本实施方式的第一变形例的将第一透明基材10和第二透明基材20层叠后的示意俯视透视图。如图5所示，可以不将第一对准标记42分离而在GND电极层41的角部连接设置。在该情况下，第二对准标记43的第一部分43a、第二部分43b也连接而形成为L字状。在第一变形例中，也能够基于第一对准标记42和第二对准标记43的基准缘43ml、43m2来准确地进行对位。图6中示出本实施方式的第二变形例。如图6所示，在第一 GND电极部41a上形成有第一开口部42c，在第二 GND电极部41b上形成有第二开口部42d。由第一开口部42c及第二开口部42d构成第一对准标记42。另外，第二对准标记43与图4同样，具有第一部分43a及第二部分43b。在本变形例中，以第二对准标记43的第一部分43a的基准缘43ml的一部分位于第一开口部42c内部，且第二对准标记43的第二部分43b的基准缘43m2的一部分位于第二开口部42d内部的方式进行层叠。由此， 将第一透明基材10及第二透明基材20准确地对位而进行层叠。在本变形例中，能够实现输入装置I的窄框化，且能够抑制静电干涉。〈输入装置的制造方法〉接着，基于附图，对输入装置I的制造方法进行说明。图7(a) 图7(c)及图8(a) 图8(c)中示出形成具有第一对准标记42的GND电极层41的工序图。图7及图8的各左图中示出第一透明基材10的示意俯视透视图，各右图中示出在与图7 (a)的VII-VII线及图8(a)的VIII-VIII线对应的部位切断时的剖视图。首先，在第一透明基材10上通过溅射法或蒸镀法等将ITO等透明电极膜61成膜。接着，在透明电极膜61的整面通过溅射法或蒸镀法将金属层62成膜。金属层62可以使用AgPdCu、Cu、Al、Ag、Au、MoNb/Al、MoNb/AgPdCu等低电阻材料。需要说明的是，金属层62既可以为单层也可以为层叠体。如图7(a)所示，在形成第一透明电极层11及GND电极层41的区域层叠抗蚀剂层63。此时，与形成第一对准标记42的部位对应，在抗蚀剂层63上设置凹部63a、63b而进行层叠。需要说明的是，虽然在图7(a) (C)及图8(a) (C)中未图示，但在形成第一引出配线层12、第一连接部13的区域也层叠抗蚀剂层63，而以同样的工序形成第一引出配线层12及第一连接部13 (在以后的说明中进行省略)。接着，在图7(b)的工序中，通过蚀刻除去在未层叠有抗蚀剂层63的区域露出的金属层62。在该蚀刻工序中可以选择湿蚀刻。通过图7(b)的工序，在形成第一透明电极层11及GND电极层41的区域残留有金属层62。在图7(c)的工序中，通过蚀刻除去在未层叠有抗蚀剂层63的区域露出的透明电极膜61。之后，当除去抗蚀剂层63时，在形成第一透明电极层11及GND电极层41的区域残留有透明电极膜61与金属层62的层叠体。在图8(a)所示的工序中，跨形成检查用焊盘14及GND电极层41的区域层叠抗蚀剂层64。需要说明的是，在图8中虽然未图示，但在设置第一引出配线层12与第一透明电极层11的连接焊盘部及第一引出配线层12的区域也层叠有抗蚀剂层64。之后，如图8(b)所示，通过蚀刻除去未被抗蚀剂层64覆盖的金属层62。由此，使第一透明电极层11露出而形成。之后，在图8(C)的工序中，通过除去抗蚀剂层64，在第一透明基材10上形成第一透明电极层11及GND电极层41。通过这样的工序，第一对准标记42 (第一凹部42a、第二凹部42b)通过最初的抗蚀剂层63能够位置精度良好地形成。并且，在之后的蚀刻工序中由抗蚀剂层64进行保护，因此不会受到多次蚀刻的影响，可维持所期望的形状而形成。对于在第二透明基材20上形成第二透明电极层21及第二对准标记43的工序而言，也能够以与图7 (a) 图7 (C)及图8(a) 图8(c)同样的工序形成。
需要说明的是，在图7及图8中，表示在GND电极层41的外缘形成有第一凹部42a的情况，但是不局限于此，即使为图5所示那样的L字状的第二对准标记42或图6所示那样的由开口部43a、43b构成的第一对准标记43等其它的形态，也能够通过同样的工序形成。另外，抗蚀剂层63、64的图案形成、通过蚀刻除去金属层62、透明电极膜61的工序也没有限定为图7(a) (C)、图8(a) (C)的工序。例如，可以为如下这样的方法在图7 (C)后，不新形成图8(a)的抗蚀剂层64，而以使抗蚀剂层63残留在形成检查用焊盘14及GND电极层41的区域上的方式进行除去。图9(a) 图9(c)中示出将第一透明基材10和第二透明基材20层叠的工序图。各左图中示出局部放大俯视图，各右图中示出在与图9 (a)的IX-IX线对应的部位切断时的剖视图。对准的方法没有特别地限定，但可以通过图像处理装置分别读取第一对准标记42和第二对准标记43来识别位置。例如，如图9 (a)所示，可以对第一对准标记42的第一凹部42a的直线部和第二凹部42b的直线部进行图像识别，而将第一凹部42a的直线部和第二凹部42b的直线部的延长线交叉的点作为第一透明基材10的基准点A。同样，如图9(b)所示，可以对第二对准标记43的第一部分43a的基准缘43ml的直线部和第二部分43b的基准缘43m2的直线部进行图像识别，而将对第一部分43a的基准缘43ml的直线部和第二 部分43b的基准缘43m2的直线部进行延长的直线的交叉的点作为第二透明基材20的基准点B。之后，以使两基准点成为适当的位置的方式通过自动设备对第一透明基材10及第二透明基材20的位置进行调整而将它们贴合，从而能够准确地对位而进行层叠。通过这样的工序，如图9(c)所示，以第二对准标记43的至少一部分与第一对准标记42在俯视下重叠、即第二对准标记43的第一部分43a的基准缘43ml的一部分位于第一凹部42a内，且第二部分43b的基准缘43m2的一部分位于第二凹部42b内的方式将第一透明基材10和第二透明基材20经由粘接层33层叠。根据本实施方式的输入装置I的制造方法，能够抑制非输入区域52的扩大而形成第一对准标记42和第二对准标记43，因此能够实现输入装置I的窄框化。并且，第一对准标记42及第二对准标记43与各透明电极层之间的静电干涉也由GND电极层41抑制，因此在位于GND电极层41的内侧的输入区域51能够防止静电电容分布的变化和静电干涉。因此，通过GND电极层41能够有效地抑制静电干涉，从而能够防止误动作或误检测。图10(a) 图10(c)中示出将第一透明基材10及第二透明基材20与保护面板31层叠的工序图。各左图中示出局部放大俯视图，各右图中示出在与图10(c)的X-X线对应的部位切断时的剖视图。如图10(a)所示，在保护面板31的非输入区域52层叠有装饰层32。在层叠保护面板31时，可以对例如装饰层32的内缘的角部进行图像识别而将该角部作为基准点C。另外，在通过图9(a) 图9(c)的工序层叠的第一透明基材10与第二透明基材20的层叠体中，能够视觉辨认第二对准标记43的基准缘43ml的直线部的一部分及基准缘43m2的直线部的一部分。因此，与图9 (b)的工序同样，能够将基准点B作为基准位置(参照图10(b))。并且，以使基准点C和基准点B成为适当的位置的方式将保护面板31和第一透明基材10及第二透明基材20经由粘接层34层叠。由此，如图10 (c)所示，能够制造在表面配置有保护面板31的输入装置I。需要说明的是，保护面板31的基准点C没有限定为图10(a)那样的装饰层32的内缘的角部，可以另外设置对准标记。并且，在层叠保护面板31之后，也能够从第二透明 基材20侧视觉辨认第二对准标记43的基准缘43ml、基准缘43m2的一部分，因此在层叠液晶面板或有机EL面板等显示装置和输入装置I时，也能够基于第二对准标记43的基准缘43ml、基准缘43m2而进彳丁层置。
权利要求
1.一种输入装置，其特征在于，具有 透光性的第一透明基材； 与所述第一透明基材对置配置的第二透明基材； 在所述第一透明基材及所述第二透明基材的输入区域分别形成的第一透明电极层和第二透明电极层； 以包围所述第一透明基材的所述输入区域的方式形成的GND电极层， 在所述第一透明基材上形成有由所述GND电极层的一部分构成的第一对准标记， 在所述第二透明基材上的与所述第一对准标记对应的位置形成有第二对准标记， 以所述第二对准标记的至少一部分与所述第一对准标记在俯视下重叠的方式将所述第一透明基材与所述第二透明基材层叠。
2.根据权利要求I所述的输入装置，其特征在于， 在所述GND电极层的外缘形成有凹部，所述第一对准标记由所述凹部构成，所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述凹部内。
3.根据权利要求I所述的输入装置，其特征在于， 在所述GND电极层形成有开口部，所述第一对准标记由所述开口部构成，所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述开口部内。
4.根据权利要求I至3中任一项所述的输入装置，其特征在于， 在所述第一透明基材的平面内，将交叉的两个方向设为第一方向和第二方向时，所述GND电极层具有沿所述第一方向延伸的第一 GND电极部和沿所述第二方向延伸的第二 GND电极部， 所述第一对准标记具有由所述第一 GND电极部的一部分形成的第一部分和由所述第二 GND电极部的一部分形成的第二部分，所述第二对准标记具有沿着所述第一方向的第一部分和沿着所述第二方向的第二部分。
5.根据权利要求4所述的输入装置，其特征在于， 所述第一对准标记的所述第一部分与所述第二部分分离形成。
6.根据权利要求I至3中任一项所述的输入装置，其特征在于， 在所述第一透明基材的输入面侧层叠有用于保护表面的保护面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板基于所述第二对准标记的基准缘进行对位而层叠。
7.根据权利要求4所述的输入装置，其特征在于， 在所述第一透明基材的输入面侧层叠有用于保护表面的保护面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板基于所述第二对准标记的基准缘进行对位而层叠。
8.根据权利要求5所述的输入装置，其特征在于， 在所述第一透明基材的输入面侧层叠有用于保护表面的保护面板，所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板基于所述第二对准标记的基准缘进行对位而层叠。
9.一种输入装置的制造方法，该输入装置具有透光性的第一透明基材；与所述第一透明基材对置配置的第二透明基材；在所述第一透明基材及所述第二透明基材的输入区域分别形成的第一透明电极层和第二透明电极层，所述输入装置的制造方法的特征在于，包括 以包围所述第一透明基材的所述输入区域的方式形成GND电极层，并形成由所述GND电极层的一部分构成的第一对准标记的工序； 在所述第二透明基材的与所述第一对准标记对应的位置上形成第二对准标记的工序; 以所述第二对准标记的至少一部分与所述第一对准标记在俯视下重叠的方式将所述第一透明基材与所述第二透明基材层叠的工序。
10.根据权利要求9所述的输入装置的制造方法，其特征在于，包括 在所述GND电极层的外缘设置凹部，而形成由所述凹部构成的所述第一对准标记的工序; 以所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述凹部内的方式将所述第一透明基材与所述第二透明基材层叠的工序。
11.根据权利要求9所述的输入装置的制造方法，其特征在于，包括 在所述GND电极层设置开口部，而形成由所述开口部构成的所述第一对准标记的工序; 以所述第二对准标记的基准缘的至少一部分在俯视下位于所述开口部内的方式将所述第一透明基材与所述第二透明基材层叠的工序。
12.根据权利要求9至11中任一项所述的输入装置的制造方法，其特征在于， 包括基于所述第二对准标记的基准缘，使用于保护表面的保护面板对位，从而将所述第一透明基材及所述第二透明基材与所述保护面板层叠的工序。
全文摘要
本发明的目的在于提供一种能够实现静电干涉的抑制及窄框化，且能够将透明基材间准确对位而进行层叠的输入装置及输入装置的制造方法。该输入装置的特征在于，具有透光性的第一透明基材(10)、与所述第一透明基材(10)对置配置的第二透明基材(20)、以包围第一透明基材(10)的输入区域(51)的方式形成且用于防止静电干涉的GND电极层(41)，在第一透明基材(10)上形成有由所述GND电极层(41)的一部分构成的第一对准标记(42)，在第二透明基材(20)上的与第一对准标记(42)对应的位置形成有第二对准标记(43)，以第二对准标记(43)的至少一部分与第一对准标记(42)在俯视下重叠的方式将第一透明基材(10)和第二透明基材(20)层叠。
文档编号G06F3/044GK102778983SQ20121008039
公开日2012年11月14日 申请日期2012年3月23日 优先权日2011年5月13日
发明者杉井咏一 申请人:阿尔卑斯电气株式会社