触控面板的制作方法
【专利摘要】本发明公开一种触控面板。触控面板包括：一感测层，包括多个间隔设置的电极；以及一保护层，该保护层设置于该感测层上，且该保护层的折射率比该感测层的折射率大0.1以上。通过在感测层上设置折射率较感测层高的保护层，保护层可将大部分外部光线反射掉，使进入感测层的光线减少，进而通过感测层反射出来的光线也较少，可改善感测层可见的问题。
【专利说明】触控面板
【技术领域】
[0001]本发明涉及触控【技术领域】，且特别是涉及一种触控面板。
【背景技术】
[0002]随着科技的进步，触控面板的应用也日益增加。目前触控面板的应用主要包括:可携式电子产品，如:平板电脑、手机、数字相机；金融商业用途，如:提款机、远端视讯会议；公共资讯用途，如:机场、车站导览、数据查询等。
[0003]传统的触控面板包括基板及感测层。其中，感测层包括多个相互间隔设置的电极，该些电极位于基板上。。电极通常由透明导电材料制成，基板为玻璃等材质，由于电极对光线的折射率与基板对光线的折射率不同，将有可能导致电极可见，影响触控面板视觉外观效果。另外，电极设置于基板上，无其它部件将电极与外界隔离，致使电极易受到环境的侵蚀或后续制作工艺的影响，从而影响触控面板感测功能。
【发明内容】
[0004]本发明的目的在于提供一种触控面板，通过在感测层上设置折射率较高的保护层，保护层因其折射率较高，可将大部分外部光线反射掉，使进入感测层的光线减少，进而通过感测层反射出来的光线也较少，可改善感测层可见的问题，提高触控面板视觉外观。同时保护层对感测层兼具保护的作用。
[0005]为达上述目的，本发明提供一种触控面板，包括:一感测层，包括多个间隔设置的电极；以及一保护层，保护层设置于该感测层上，且该保护层的折射率比该感测层的折射率大0.1以上。
[0006]本发明提供的触控面板，通过在感测层上设置折射率较高的保护层，保护层因其折射率较高，可将大部分外部光线反射掉，使进入感测层的光线减少，从而降低甚或避免感测层可见的问题，改善触控面板视觉外观效果，同时保护层对感测层兼具保护的作用。
[0007]为让本发明的上述和其他目的、特征、和优点能更明显易懂，下文特举出较佳实施例，并配合所附附图，作详细说明如下:
【专利附图】
【附图说明】
[0008]图1显示在本发明一实施例中的触控面板的剖视图；
[0009]图2显示在本发明另一实施例中的触控面板的剖视图；
[0010]图3显示在一实施例中所形成的触控面板与显示器结合的剖视图；
[0011]图4显示在另一实施例中所形成的触控面板与显示器结合的剖视图。
[0012]主要元件符号说明
[0013]100?基板
[0014]102?感测层
[0015]103?电极[0016]104、204?保护层
[0017]106?空隙
[0018]201、301 ?显示器
[0019]203、303?盖板
[0020]305?遮蔽层
【具体实施方式】
[0021]以下依本发明的不同特征举出数个不同的实施例。本发明中特定的元件及安排是为了简化，但本发明并不以这些实施例为限。举例而言，于第二元件上形成第一元件的描述可包括第一元件与第二元件直接接触的实施例，也包括具有额外的元件形成在第一元件与第二元件之间、使得第一元件与第二元件并未直接接触的实施例。此外，为简明起见，本发明在不同例子中以重复的元件符号及/或字母表示，但不代表所述各实施例及/或结构间具有特定的关系。
[0022]在本发明各种实施例中，在感测层上设置一具高折射率(High RefractiveIndex)的保护层，高折射率的保护层一方面可将电极与外界隔离以避免感测层受到环境的侵蚀或后续制作工艺的影响，对感测层起到保护的作用，另一方面则具备光学漫射、反射控制的功能，可使外部光线大部分被保护层反射掉，使进入感测层的光线减少，进而通过感测层反射出来的光线也较少，从而降低甚或避免感测层可见的问题。
[0023]图1显示在本发明一实施例中的触控面板的剖视图。参照图1，触控面板包括感测层102及保护层104，其中保护层104的折射率比感测层102的折射率大0.1以上。
[0024]感测层102可包括多个间隔设置的电极103。在一些实施例中，可利用透光率较好的导电材料形成这些电极103。例如纳米银丝(silver nano-wire)、纳米碳管(carbonnanotube)、石墨烯(graphene)、导电高分子(conductive polymer)、金属氧化物、或前述的组合。金属氧化物例如可为氧化铟锡(indium tin oxide ;ΙΤ0)、氧化铟锌(indium zincoxide ；IZ0)、招氧化锋(cadmium tin oxide ；CT0)、氧化招锋(aluminum zinc oxide ；AZ0)、氧化铟锡锋(indium tin zinc oxide ;ITZ0)、氧化锋(zinc oxide)、氧化镉(cadmiumoxide ;Cd0)、氧化給(hafnium oxide ;Hf0)、氧化铟嫁锋(indium gallium zinc oxide ；InGaZnO)、氧化铟嫁锋续(indium gallium zinc magnesium oxide ;InGaZnMgO)、氧化铟嫁续(indium gallium magnesium oxide ;InGaMgO)、氧化铟嫁招(indium gallium aluminumoxide ；InGaAlO)、或前述的组合。感测层102的形成方法包括先形成一导电层，例如包括电镀法、派镀(sputtering)法、印刷(printing)法、或前述的组合,再图案化该导电层形成多个相互间隔的电极103，图案化导电层的方法可包括光刻及蚀刻方法，例如湿式蚀刻、干式蚀刻等方法。在另一实施例中，感测层102的形成方法还包括:先形成一导电层，再在导电层上形成保护层104，然后图案化导电层形成多个相互间隔的电极103。
[0025]保护层104例如包括压克力树脂或环氧树脂，其厚度例如介于50nm至3 μ m。为了使保护层104的折射率大于感测层102的折射率，可选用本身折射率较感测层102折射率高的压克力树脂或环氧树脂，或者可在压克力树脂或环氧树脂中掺杂高折射率粒子，以使保护层104的折射率高于感测层102的折射率。高折射率粒子包括二氧化钛、二氧化锆、或前述的组合。另外，采用压克力树脂或环氧树脂中掺杂高折射率粒子以形成保护层104，不仅使保护层104的折射率比感测层102的折射率高，还可以使保护层104具有漫反射的功能，可进一步降低感测层102可见的现象。在一实施例中，保护层104的折射率比感测层102的折射率大0.1以上。例如，当电极103的材料为纳米银丝时，保护层104的折射率可介于1.6至2.0，较佳为1.8。当电极103的材料为ITO时，保护层104的折射率可介于1.9至2.3，较佳为2.0。当电极103的材料为AZO时，保护层104的折射率可介于2.0至2.3。当电极103的材料为导电高分子时，保护层104的折射率可介于1.7至2.0。保护层104的形成方法例如包括旋转涂布(spin coating)、棒状涂布(bar coating)、刮刀涂布(blade coating)、滚筒涂布(roller coating)、线棒涂布(wire bar coating)、浸溃涂布(dip coating)、喷洒涂布(spray coating)、或其他涂布方法。
[0026]此外,在一实施例中，触控面板还包括一基板100,电极103相互间隔的设置于基板100上。由于电极103之间具有一空隙，保护层104的一部分填充于该些空隙中，也即保护层104的一部分可通过电极103之间的空隙与基板100直接接触(如图1所示)，保护层104可通过电极103之间的间隙(例如通过纳米银丝材料自身具有一定的疏密度)而与基板100接触，可提高电极103与基板110之间的附着力，防止电极103脱落，此实施例中的保护层104可通过上述的涂布方式形成在感测层102上。
[0027]图2是相对于图1的另一实施例，其中电极103之间具有一空隙，保护层204设置于感测层102上之后，该些电极103之间仍存在该些空隙。亦即，保护层204并未填入感测层102的各电极103间的空隙中，因此在一部分的保护层204及基板100之间具有空隙106。此实施例中的保护层204可通过先成膜后贴附的方式形成在感测层102上，在制作工艺上较为简易达成。在本实施例中，保护层204、感测层102与基板100间的相对关系与上一实施例相同，且各自元件的形成材料与特性也相同，在此不再多所赘述。
[0028]上述实施例中所描述的基板100可为有机或无机基板，其中，有机基板例如以塑化材料所制造，无机基板例如以玻璃材料所制造。在一实施例中，基板100可为聚亚酰胺基板(PI)、聚醚醚酮(PEEK)基板、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基板、聚碳酸酯(PC)基板、或玻璃基板。
[0029]图3显示在一实施例中所形成的触控面板与显示器结合的剖视图。请合并参照图1，感测层102及其内含的电极103设置于基板100上，保护层104设置于感测层102上。此夕卜，在保护层104上则设置有盖板203，盖板203例如为保护玻璃(cover glass)，作为外部触控物体的直接接触面。在基板200的另一侧上则为显示器201。其中，图3中的保护层104、感测层102与基板100也可由图2中的保护层204、感测层102与基板100所取代，其相对关系在此即不再多所赘述。
[0030]图4则显示在另一实施例中所形成的触控面板与显示器结合的剖视图。与图3所示实施例不同之处在于，在此实施例中，可利用单片玻璃方法(One glass solution ；0GS),将感测层102及保护层104直接设置于盖板303上，其中，以盖板303作为基板，盖板303位于保护层104上，保护层104设置于感测层102上，即保护层104位于盖板303与感测层102之间。显示器301则位于感测层102的另一侧。与图3所示实施例相比，可省略基板100，使触控面板更加轻薄。此外，保护层104还具有平坦层的作用，例如，触控面板还包括遮蔽层(Black mask) 305,遮蔽层305位于盖板303下表面的周边区域,用于遮蔽触控面板周边线路(图未示)。保护层104位于盖板303与感测层102、感测层102与遮蔽层305之间。保护层104可使得感测层102较平坦的设置于保护层104上，不会因为遮蔽层305引起的高度差而使得感测层102不平整。其中，图4中的保护层104与感测层102也可由图2中的保护层204与感测层102所取代，其相对关系在此即不再多所赘述。
[0031]本发明实施例提供的触控面板，利用具高折射率的保护层覆盖感测层，保护层因其折射率较感测层大，可将大部分外部光线反射掉，使进入感测层的光线减少，从而降低甚或避免感测层可见的问题，改善触控面板视觉外观效果，同时保护层对感测层兼具保护及平坦层的作用。此外，近来由于铟矿的来源取得不易以及铟元素的日渐枯竭，使用其他材料来取代氧化铟锡(ITO)作为触控面板的电极材料成为一个热门的课题。因此，在本发明一些实施例中，以纳米银丝作为触控面板的电极材料，并使用具高折射系数的保护层来取代一般传统的保护层。由于纳米银丝具有较高的折射率，若直接使用会造成感测层可见。因此，本发明一些实施例中，利用具高折射系数的保护层覆盖感测层，其降低甚或避免感测层可见，改善触控面板视觉外观效果尤为明显。
[0032]虽然已结合以上数个较佳实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何所属【技术领域】中熟悉此技术者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作任意的更动与润饰，因此本发明的保护范围应以附上的权利要求所界定的为准。
【权利要求】
1.一种触控面板,包括: 感测层，包括多个间隔设置的电极；以及 保护层，设置于该感测层上，且该保护层的折射率比该感测层的折射率大0.1以上。
2.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极的材料包括纳米银丝，该保护层的折射率介于1.6至2.0。
3.如权利要求2所述的触控面板，其中该保护层的折射率为1.8。
4.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极的材料包括氧化铟锡，该保护层的折射率介于1.9至2.3。
5.如权利要求4所述的触控面板，其中该保护层的折射率为2.0。
6.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极的材料包括氧化铝锌，该保护层的折射率介于2.0至2.3。
7.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极的材料包括导电高分子，该保护层的折射率介于1.7至2.0。
8.如权利要求1所述的触控面板，其中该保护层包括压克力树脂或环氧树脂。
9.如权利要求1所述的触控面板，其中该保护层包括压克力树脂或环氧树脂中掺杂有高折射率粒子。
10.如权利要求9所述的触控面板，其中该高折射率粒子包括二氧化钛、二氧化锆、或前述的组合。
11.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极之间具有一空隙，该保护层的至少一部分填充于该些空隙中。
12.如权利要求1所述的触控面板，其中该些电极之间具有一空隙，该保护层设置于该感测层上之后，该些电极之间仍存在该些空隙。
13.如权利要求11或12所述的触控面板，还包括:一基板，其中该些电极设置于该基板上。
14.如权利要求11或12所述的触控面板，还包括:一基板，该基板设置于该保护层上。
15.如权利要求1所述的触控面板，其中该电极包括纳米银丝、纳米碳管、石墨烯、导电高分子、金属氧化物、或前述的组合。
【文档编号】G06F3/041GK103914164SQ201310001322
【公开日】2014年7月9日 申请日期:2013年1月5日 优先权日:2013年1月5日
【发明者】刘振宇, 李禄兴 申请人:宸鸿光电科技股份有限公司