本专利申请属于电路设计,尤其涉及一种基于多对多模式计算等效电阻的方法。
背景技术:
1、在当前芯片制程不断发展的背景下,在电路仿真中,要求对大规模集成电路版图中寄生参数做提取和分析,而在该提取和分析中,会涉及等效电阻的计算。除此之外,由于等效电阻可以度量一张电路版图中两个定点的相似度,因此等效电阻计算也广泛应用于数据挖掘中的图谱稀疏化方面。但是,由于电路仿真和数据挖掘所处理的电阻网络规模巨大,对数量巨大的节点对进行等效电阻的准确分析成为计算性能的瓶颈。
技术实现思路
1、本专利申请提供一种基于多对多模式计算等效电阻的方法,以克服或者缓解现有技术的缺陷。
2、本申请实施例提供的技术方案如下:
3、一种基于多对多模式计算等效电阻的方法,其包括:
4、基于等效电阻的待求解节点,对对应电阻网络的导纳矩阵进行填充得到扩充矩阵
5、对扩充矩阵做预排序,以确定置换矩阵p;
6、对所述扩充矩阵进行ldlt分解,以计算所述等效电阻所需的下三角阵l和对角矩阵d并确定稀疏矩阵f中的非零元位置;
7、根据稀疏矩阵f中的非零元位置和下三角阵l与所述对角矩阵d,计算目标矩阵z的矩阵元;
8、根据所述目标矩阵z,计算所述等效电阻。
1.一种基于多对多模式计算等效电阻的方法,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,基于等效电阻的待求解节点,对对应电阻网络的导纳矩阵进行填充得到扩充矩阵包括:基于等效电阻的待求解节点,在的稀疏压缩存储结构中增加指定的位置并填充0元素。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述基于等效电阻的待求解节点,在的稀疏压缩存储结构中增加指定的位置并填充0元素,包括:如果等效电阻的待求解节点为(i,j)节点对的等效电阻,则在导纳矩阵的压缩存储结构中对第i行第j列和第j行第i列的两个元素按照如下方式进行填充:如果在该位置或者则不对做处理;否则,在此基础上,在压缩存储结构中额外增加两个填充位置(i,j)和(j,i),并将这两个填充位置的数值置零,即针对该两个填充位置(i,j)和(j,i),
4.根据权利要求1所述的方法,基于如下公式(2)对所述扩充矩阵进行ldlt分解:
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,确定稀疏矩阵f中非零元位置时,通过构造一个和lt相同但不包含值的压缩存储结构,得到了f中的非零元位置。
6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,按照如下公式(3)、(4),根据稀疏矩阵f中的非零元位置和下三角阵l与所述对角矩阵d,计算目标矩阵z的矩阵元:
7.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,针对目标矩阵z,按照如下公式(5)表示z中的非对角元zpq,对角元zpp按照公式(6)计算:
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,如果等效电阻的待求解节点对为(i,j)节点对,则可以按照如下公式(7)来计算(i,j)节点对的能效电阻: