技术特征：
1.一种用于制造柔性光图案化掩模的方法，包括a)将光刻胶组合物涂覆在基底上以形成光刻胶膜，b)曝光所述光刻胶膜以对所述光刻胶膜进行图案化，c)对图案化的光刻胶膜进行显影，以及d)固化显影的光刻胶膜以形成具有多个锥形开口的图案化层。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光刻胶组合物是正性的光刻胶组合物，包括：至少一种选自由丙烯酸树脂、亚胺树脂、卡多树脂和硅树脂组成的组的树脂；光活性材料；添加剂；和溶剂。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光刻胶组合物是负性的光刻胶组合物，包括：至少一种选自由丙烯酸树脂、亚胺树脂、卡多树脂和硅树脂组成的组的树脂；光固化材料；光引发剂；添加剂；和溶剂。4.根据权利要求1所述的方法，进一步包括重复步骤a)至d)一次或多次，以形成多个图案化层，其中每个图案化层具有多个锥形开口。5.根据权利要求1所述的方法，进一步包括在所述图案化层上或所述图案化层下方形成金属层，或者在所述图案化层上和所述图案化层下方都形成金属层。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述锥形开口具有20
°
至85
°
的锥度角(θ)。7.一种柔性光图案化掩模，包括具有多个锥形开口的图案化层。8.根据权利要求7所述的柔性光图案化掩模，其中，所述锥形开口具有20
°
至85
°
的锥度角(θ)。9.根据权利要求7所述的柔性光图案化掩模，其中，所述图案化层形成为多个。10.根据权利要求7所述的柔性光图案化掩模，其中，所述图案化层包括具有锥形开口的第一图案化层和具有锥形开口的第二图案化层，所述第一图案化层的锥形开口具有20
°
至85
°
的锥度角(θ1)，并且所述第二图案化层的锥形开口具有30
°
至85
°
的锥度角(θ2)。11.根据权利要求7所述的柔性光图案化掩模，其中，所述图案化层包括具有锥形开口的第一图案化层、具有锥形开口的第二图案化层和具有锥形开口的第三图案化层，所述第一图案化层的锥形开口具有20
°
至85
°
的锥度角(θ1)，所述第二图案化层的锥形开口具有30
°
至85
°
的锥度角(θ2)，并且所述第三图案化层的锥形开口具有45
°
至90
°
的锥度角(θ3)。12.根据权利要求7所述的柔性光图案化掩模，进一步包括在所述图案化层上或所述图案化层下方形成金属层，或者在所述图案化层上和所述图案化层下方都形成金属层。13.一种用于沉积有机发光材料的方法，包括a)将包括具有多个锥形开口的图案化层的柔性光图案化掩模在有机发光显示器的基材上对准，以及b)通过所述多个锥形开口将有机发光材料沉积在所述基材上，其中，所述多个锥形开口随着其接近所述基材而宽度变小。
技术总结
本发明涉及一种用于制造柔性光图案化掩模的方法。该方法包括a)将光刻胶组合物涂覆在基底上以形成光刻胶膜，b)曝光光刻胶膜以对光刻胶膜进行图案化，c)对图案化的光刻胶膜进行显影，以及d)固化显影的光刻胶膜以形成具有多个锥形开口的图案化层。个锥形开口的图案化层。个锥形开口的图案化层。
技术研发人员：车爀镇 柳美善
受保护的技术使用者：胡网加成股份有限公司
技术研发日：2020.12.30
技术公布日：2022/8/5