一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备与流程

1.本公开涉及表面处理技术领域，尤其涉及一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备。


背景技术：

2.消费类电子产品的外观品质已经成为吸引消费者的重要因素，其中壳体的外观效果又是产品外观设计的重点之一。对于金属壳体而言，若能具有立体效果，则能极大的提高产品的外观品质和档次，更能吸引消费者的眼球。
3.目前赋予金属壳体立体效果，大多是在金属壳体表面贴附装饰膜或者将具有立体图案的部件二次组装至金属壳体表面。在金属壳体表面去除一块区域用于组装其它壳体，一方面存在组装公差，影响视觉效果；另一方面工艺繁琐，效率低。


技术实现要素：

4.本公开提供了一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备，以至少解决现有技术中存在的组装公差大、工艺繁琐的技术问题。
5.根据本公开的第一方面，提供了一种具有立体图案的金属壳体的制备方法，所述方法包括：
6.对金属壳体表面进行喷砂处理；
7.对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理，不同区域的镭雕方向不同；
8.对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化，得到具有立体图案的金属壳体。
9.在一可实施方式中，所述对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理，不同区域的镭雕方向不同，包括：
10.对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理。
11.在一可实施方式中，所述形成漫反射纹理的镭雕参数为：760nm≤波长≤1650nm，60w≤功率≤80w，1200mm/s≤镭雕速度≤2000mm/s，0.05mm≤镭雕线宽≤0.11mm。
12.在一可实施方式中，所述形成镜面反射纹理的镭雕参数为：960nm≤波长≤1250nm，85w≤功率≤100w，600mm/s≤镭雕速度≤1000mm/s，0.01mm≤镭雕线宽≤0.03mm。
13.在一可实施方式中，所述喷砂的型号为铁砂、锆砂、玻璃砂中的一种或多种，喷砂压力为2-4kg，线速为1m/12s。
14.在一可实施方式中，所述对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化，得到具有立体图案的金属壳体，包括：
15.清洗镭雕后的金属壳体，以除去金属壳体表面的油污；
16.再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗；
17.以金属壳体作为阳极，对金属壳体表面进行氧化，水洗后进行染色或电解着色，再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
18.在一可实施方式中，对金属壳体表面进行喷砂处理前，该方法还包括：
19.对金属壳体表面进行冲压打磨，以提高金属壳体表面的光洁度。
20.根据本公开的第二方面，提供了一种金属壳体，根据上述所述的制备方法制得。
21.根据本公开的第三方面，提供了一种电子设备，包括上述制备方法制备的金属壳体。
22.本发明提供一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备，通过在金属壳体表面进行喷砂、镭雕、单色阳极氧化后，得到具有立体图案的金属壳体。本发明通过对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理，从微观上改变光的反射角度，达到不通角度的光影变化从而达到立体效果。与现有技术相比，不仅能够提高产品的外观效果，提高产品的良率，还能进一步优化制备方法，提高金属壳体的生产效率。
23.应当理解，本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征，也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
24.通过参考附图阅读下文的详细描述，本公开示例性实施方式的上述以及其他目的、特征和优点将变得易于理解。在附图中，以示例性而非限制性的方式示出了本公开的若干实施方式，其中：
25.在附图中，相同或对应的标号表示相同或对应的部分。
26.图1示出了本公开实施例一种具有立体图案的金属壳体的制备方法的流程示意图；
27.图2示出了本公开实施例微观下金属表面纹理示意图；
28.图3示出了本公开实施例提供的金属壳体样品图。
具体实施方式
29.为使本公开的目的、特征、优点能够更加的明显和易懂，下面将结合本公开实施例中的附图，对本公开实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本公开一部分实施例，而非全部实施例。基于本公开中的实施例，本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范围。
30.目前为了使金属壳体表面呈现立体效果，普遍采用的工艺是将具有立体图案的部件二次组装至金属壳体表面。在金属壳体表面去除一块区域用于组装其它壳体，一方面存在组装公差，影响视觉效果；另一方面工艺繁琐，效率低。
31.或者通过多次喷砂制备有立体效果的金属壳体，其制备工艺通常包括喷砂、预氧、贴保护膜、二次喷砂、撕保护膜、阳极氧化等步骤，不仅制备工艺繁琐，且多次喷砂导致产品表面粗糙，影响产品最终质量。
32.基于此，本发明提供一种具有立体图案的金属壳体的制备方法，如图1所示为该制备方法的流程示意图，该方法包括如下步骤：
33.s1、对金属壳体表面进行喷砂处理；
34.本实施例的金属壳体以笔记本外壳为例进行说明，除了笔记本外壳外，金属壳体
还可以是例如手机、投影仪等电子设备的外壳或作为电子设备内部零部件的外壳等，本发明对金属壳体的具体应用不做限制。本实施例中金属材质以铝板为例，因为铝板质量轻、应用于笔记本外壳能够有效减轻笔记本整机的重量，金属材质还可以是在一些高分子板材上设置铝层，以降低笔记本外壳的成本，本发明对金属壳体的具体材质不做限定。
35.在一个示例中，对金属壳体表面进行喷砂处理前，先对金属壳体表面进行冲压、打磨，以提高金属壳体表面的光洁度。喷砂型号为铁砂、锆砂、玻璃砂中的一种或多种，喷砂压力为2-4kg，线速为1m/12s。
36.s2、对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理，不同区域的镭雕方向不同；
37.在一个示例中，对金属壳体的多个局部区域进行镭雕处理，不同区域的镭雕方向不同，包括：
38.对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理。
39.微观下金属表面纹理如图2所示，镭雕漫反射纹理与镭雕镜面反射纹理交替设置呈现锯齿状。由于微观下不同方向的纹理不同，导致金属壳体表面光泽的不同，用户观察金属壳体时，不同视野角度的光泽度不同，且不同角度的光影变化也不同，最终在金属壳体表面呈现出立体效果。
40.在一可实施方式中，形成漫反射纹理的镭雕参数为：760nm≤波长≤1650nm，60w≤功率≤80w，1200mm/s≤镭雕速度≤2000mm/s，0.05mm≤镭雕线宽≤0.11mm。
41.在一可实施方式中，形成镜面反射纹理的镭雕参数为：960nm≤波长≤1250nm，85w≤功率≤100w，600mm/s≤镭雕速度≤1000mm/s，0.01mm≤镭雕线宽≤0.03mm。
42.s3、对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化，得到具有立体图案的金属壳体。
43.在一个示例中，对镭雕后的金属壳体进行单色阳极氧化，得到具有立体图案的金属壳体，包括：
44.清洗镭雕后的金属壳体，以除去金属壳体表面的油污；
45.再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗；
46.以金属壳体作为阳极，对金属壳体表面进行氧化，水洗后进行染色或电解着色，再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
47.化学抛光的目的在于去除金属壳体表面较粗糙的表面不平度，化抛液主要成分为磷酸、硫酸以及光亮剂。阳极氧化的具体步骤为：将金属壳体置于阳极槽内作为阳极，阳极槽内为氧化性电解液，金属壳体在阳极槽内发生电解反应，并在表面生成致密的氧化膜；清洗氧化后的金属壳体，并将清洗后的金属壳体置于染色槽内染色或者进行电解着色。氧化性电解液的作用在于与金属壳体发生电解反应，在金属壳体表面生成致密的氧化膜，本实施例中氧化性电解液为硫酸溶液，浓度180-220g/l，电压14v，温度19℃-20℃。
48.本发明提供一种具有立体图案的金属壳体及其制备方法与电子设备，通过在金属壳体表面进行喷砂、镭雕、单色阳极氧化后，得到具有立体图案的金属壳体。本发明通过对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理，从微观上改变光的反射角度，达到不通角度的光影变化从而达到立体效果。与现有技术相比，不仅能够提高产品的外观效果，提高产品的良率，还能进一步优化制备方法，提高金属壳体的生产效率。
49.本发明又一实施例提供一种具有立体图案的金属壳体，通过上述方法制备得到。例如图3所示为本发明制备的具有立体图案的金属壳体的样品示意图，图片已进行灰度处理，通过附图的壳体可以看出壳体表面呈现的立体图案。
50.实施例1
51.一种具有立体图案的金属壳体的制备方法，包括如下步骤：
52.s11、根据笔记本壳体的尺寸要求对金属壳体表面进行冲压、打磨；
53.s12、再对金属壳体表面进行喷砂，其中喷砂的型号为铁砂，喷砂压力为2kg，线速为1m/12s
54.s13、对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理，其中形成漫反射纹理的镭雕参数为：波长760nm，功率，镭雕速度1200mm/s，镭雕线宽0.05mm；形成镜面反射纹理的镭雕参数为：波长960nm，功率85w，镭雕速度600mm/s，镭雕线宽0.01mm；
55.s14、清洗镭雕后的金属壳体，以除去金属壳体表面的油污；再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗；以金属壳体作为阳极，对金属壳体表面进行氧化，水洗后进行染色或电解着色，再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
56.实施例2
57.一种具有立体图案的金属壳体的制备方法，包括如下步骤：
58.s21、根据笔记本壳体的尺寸要求对金属壳体表面进行冲压、打磨；
59.s22、再对金属壳体表面进行喷砂，其中喷砂的型号为铁砂，喷砂压力为3kg，线速为1m/12s
60.s23、对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理，其中形成漫反射纹理的镭雕参数为：波长1250nm，功率70w，镭雕速度1600mm/s，镭雕线宽0.08mm；形成镜面反射纹理的镭雕参数为：波长1100nm，功率90w，镭雕速度800mm/s，镭雕线宽0.02mm；
61.s24、清洗镭雕后的金属壳体，以除去金属壳体表面的油污；再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗；以金属壳体作为阳极，对金属壳体表面进行氧化，水洗后进行染色或电解着色，再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
62.实施例3
63.一种具有立体图案的金属壳体的制备方法，包括如下步骤：
64.s31、根据笔记本壳体的尺寸要求对金属壳体表面进行冲压、打磨；
65.s32、再对金属壳体表面进行喷砂，其中喷砂的型号为玻璃砂，喷砂压力为4kg，线速为1m/12s
66.s33、对金属壳体的多个局部区域交替进行不同方向的镭雕，以形成漫反射纹理和镜面反射纹理，其中形成漫反射纹理的镭雕参数为：波长1650nm，功率80w，镭雕速度2000mm/s，镭雕线宽0.11mm；形成镜面反射纹理的镭雕参数为：波长1250nm，功率100w，镭雕速度1000mm/s，镭雕线宽0.03mm；
67.s34、清洗镭雕后的金属壳体，以除去金属壳体表面的油污；再对清洗后的金属壳体进行化学抛光并清洗；以金属壳体作为阳极，对金属壳体表面进行氧化，水洗后进行染色或电解着色，再次水洗、封孔后得到具有立体图案的金属壳体。
68.应该理解，可以使用上面所示的各种形式的流程，重新排序、增加或删除步骤。例如，本发公开中记载的各步骤可以并行地执行也可以顺序地执行也可以不同的次序执行，只要能够实现本公开公开的技术方案所期望的结果，本文在此不进行限制。
69.此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或隐含地包括至少一个该特征。在本公开的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
70.以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围之内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。