显示装置及其制造方法与流程

本发明的实施例涉及一种显示装置及其制造方法。

背景技术：

1、最近，显示装置的用途正在多样化。并且，由于显示装置的厚度薄且重量轻，因此显示装置的使用范围趋于广泛。

2、在显示装置中，正在扩大显示区域所占面积的同时添加集成到显示装置或相关联的多种功能。正在进行作为扩大面积的同时添加多种功能的技术方案的能够在显示区域布置多种构成要素的显示装置的研究。

技术实现思路

1、本发明的实施例可以提供一种具有能够在显示区域内布置各种种类的组件的开口区域的显示装置。然而，这样的技术问题是示例性的，本发明的范围并不限于此。

2、根据本发明的一方面，公开一种显示装置，包括：基板，包含开口区域和围绕所述开口区域的显示区域；多个发光二极管，布置在所述显示区域；以及多个槽，位于所述开口区域与所述显示区域之间的中间区域，其中，所述多个槽定义于多层膜，所述多层膜包括第一有机绝缘层、所述第一有机绝缘层上的金属图案层和所述金属图案层上的第二有机绝缘层，所述第二有机绝缘层覆盖所述金属图案层的上表面和侧表面，并且包括蚀刻选择比与所述第一有机绝缘层不同的物质。

3、在一实施例中，所述金属图案层及所述第二有机绝缘层可以配备有：尖端，从所述第一有机绝缘层的侧表面与所述金属图案层的底表面相交之处朝向所述槽的中心突出。

4、在一实施例中，所述槽可以通过所述第一有机绝缘层的开口与所述第二有机绝缘层及所述金属图案层的所述尖端重叠而配备。

5、在一实施例中，所述第二有机绝缘层可以具有小于所述第一有机绝缘层的介电率的介电率。

6、在一实施例中，所述第二有机绝缘层可以包括具有环形（cyclic）或笼形（cage）结合结构的硅氧烷类有机物。

7、在一实施例中，所述槽的底表面可以是利用氧化物类半导体物质配备的下部层的上表面。

8、在一实施例中，在所述槽的周边可以布置有金属虚设堆叠件，所述金属图案层可以通过配备于所述第一有机绝缘层的孔而与所述金属虚设堆叠件接触。

9、在一实施例中，所述金属虚设堆叠件可以包括堆叠的多个金属层，并且相邻的金属层之间夹设有绝缘层。

10、在一实施例中，所述多个发光二极管中的每一个可以布置在所述基板上，并且可以分别与子像素电路部连接，所述子像素电路部包括包含硅类半导体层的薄膜晶体管以及包含氧化物类半导体层的薄膜晶体管。

11、在一实施例中，所述多个发光二极管可以包括：第一电极以及第二电极；所述第一电极与所述第二电极之间的发光层；以及所述第一电极与所述第二电极之间的功能层，其中，所述功能层及所述第二电极可以在所述中间区域中被所述槽断开或分离。

12、本发明的另一方面公开一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：准备包括开口区域和围绕所述开口区域的显示区域的基板；在所述开口区域与所述显示区域之间的中间区域形成第一有机绝缘层；在所述中间区域的所述第一有机绝缘层上形成金属图案层；在所述中间区域的所述金属图案层上形成第二有机绝缘层；通过去除包括所述第一有机绝缘层、所述金属图案层及所述第二有机绝缘层的多层膜的一部分来形成多个槽；以及在所述显示区域形成多个发光二极管，其中，所述第二有机绝缘层覆盖所述金属图案层的侧表面和上表面，并且包括蚀刻选择比与所述第一有机绝缘层不同的物质。

13、在一实施例中，形成所述第二有机绝缘层的步骤可以包括如下步骤：在所述第一有机绝缘层及所述金属图案层上形成预第二有机绝缘层；使掩模位于所述预第二有机绝缘层上；以及利用所述掩模对所述预第二有机绝缘层进行曝光和显影。

14、在一实施例中，形成所述多个槽的步骤可以包括如下步骤：将所述第二有机绝缘层用作掩模来去除所述第一有机绝缘层的一部分而形成所述第一有机绝缘层的开口。

15、在一实施例中，形成所述第一有机绝缘层的开口的步骤可以通过将布置在所述第一有机绝缘层下方的下部层用作蚀刻止动件的蚀刻工艺来执行。

16、在一实施例中，所述下部层可以包括氧化物类半导体物质。

17、在一实施例中，所述金属图案层及所述第二有机绝缘层可以包括：尖端，所述尖端从所述第一有机绝缘层的定义所述开口的侧表面与所述金属图案层的底表面相交之处朝向所述槽的中心突出。

18、在一实施例中，所述第二有机绝缘层可以具有小于所述第一有机绝缘层的介电率的介电率。

19、在一实施例中，所述第二有机绝缘层可以包括具有环形（cyclic）或笼形（cage）结合结构的硅氧烷类有机物。

20、在一实施例中，所述显示装置的制造方法还可以包括如下步骤：形成布置在所述槽的周边的金属虚设堆叠件，其中，所述金属图案层可以通过配备于所述第一有机绝缘层的孔而与所述金属虚设堆叠件接触。

21、在一实施例中，所述多个发光二极管可以包括：第一电极以及第二电极；所述第一电极与所述第二电极之间的发光层；以及所述第一电极与所述第二电极之间的功能层，其中，所述功能层及所述第二电极可以在所述中间区域中被所述槽断开或分离。

22、根据本发明的一实施例的显示装置可以减少应用于制造工艺的掩模的数量并提高生产率，同时可以防止诸如水分之类的外部杂质以开口为中心流入而使显示要素受损的情形。显然，本发明的范围并不限于这种效果。

技术特征：

1.一种显示装置，包括：

2.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

3.根据权利要求2所述的显示装置，其中，

4.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

5.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

6.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

7.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

8.根据权利要求7所述的显示装置，其中，

9.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

10.根据权利要求1所述的显示装置，其中，

11.一种显示装置的制造方法，包括如下步骤：

12.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

13.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

14.根据权利要求13所述的显示装置的制造方法，其中，

15.根据权利要求14所述的显示装置的制造方法，其中，

16.根据权利要求13所述的显示装置的制造方法，其中，

17.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

18.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

19.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，还包括如下步骤：

20.根据权利要求11所述的显示装置的制造方法，其中，

技术总结
本发明的一实施例公开一种显示装置及其制造方法。所述显示装置包括：基板，包含开口区域和围绕所述开口区域的显示区域；多个发光二极管，布置在所述显示区域；以及多个槽，位于所述开口区域与所述显示区域之间的中间区域，其中，所述多个槽定义于多层膜，所述多层膜包括第一有机绝缘层、所述第一有机绝缘层上的金属图案层和所述金属图案层上的第二有机绝缘层，所述第二有机绝缘层覆盖所述金属图案层的上表面和侧表面，并且包括蚀刻选择比与所述第一有机绝缘层不同的物质。

技术研发人员：张浩卿,杉谷耕一,朴贵铉,韩世喜
受保护的技术使用者：三星显示有限公司
技术研发日：
技术公布日：2025/4/14