实施例涉及一种方法和设备，更具体地，涉及一种用于制造显示装置的方法和设备。
背景技术：
1、显示装置可视地显示数据。显示装置可通过发光二极管提供图像。显示装置的用途正在多样化。相应地，正在尝试用于改善显示装置质量的各种设计。
技术实现思路
1、各实施例包括掩模组件，其中与显示基板的接触面积减少。
2、各实施例包括制造掩模组件的方法，其中制造工艺简单。
3、然而，该技术问题为示例，本公开要解决的技术问题不限于此。
4、附加特征将在随后的描述中部分地陈述，并且部分地将从描述中变得显而易见，或者可通过实践本公开所呈现的实施例获悉。
5、在本公开的一实施例中，一种用于制造显示装置的设备包括：腔室；掩模组件，设置在腔室中以面对显示基板；磁力部分，设置在腔室中并向掩模组件施加磁力；以及沉积源，设置在腔室中，面对掩模组件并供应沉积材料，使得沉积材料穿过掩模组件并沉积在显示基板上，其中掩模组件包括：第一掩模层，第一掩模开口限定在第一掩模层中；和第二掩模层，设置在第一掩模层上，并且与第一掩模开口重叠的第二掩模开口限定在第二掩模层中，其中第二掩模层包括第2-1掩模部分和从第2-1掩模部分朝向显示基板突出的第2-2掩模部分。
6、在一实施例中，第2-2掩模部分的上表面可接触显示基板。
7、在一实施例中，显示基板可通过第二掩模开口从第二掩模层暴露。
8、在一实施例中，第2-1掩模部分的上表面可从显示基板间隔开。
9、在一实施例中，第二掩模开口的宽度可在朝向显示基板的方向上逐渐减小。
10、在一实施例中，第二掩模开口可包括：第2-1掩模开口，限定在第2-1掩模部分中，和第2-2掩模开口，延伸至第2-1掩模开口并限定在第2-2掩模部分中。
11、在一实施例中，第2-1掩模部分和第2-2掩模部分可彼此是整体的而成一体。
12、在本公开的一实施例中，一种制造显示装置的方法包括：将显示基板布置在腔室中，将掩模组件布置在腔室中，通过磁力部分向掩模组件施加磁力，以及通过沉积源朝向掩模组件供应沉积材料，其中布置掩模组件包括：在第一掩模层上布置第一光致抗蚀剂层，遍及第一光致抗蚀剂层布置第二掩模层，刻蚀第二掩模层，刻蚀第一掩模层，以及移除第一光致抗蚀剂层。
13、在一实施例中，在第一掩模层上布置第一光致抗蚀剂层可包括：在第一掩模层上布置第一光致抗蚀剂材料，遍及第一光致抗蚀剂材料布置第一光掩模，其中第一光掩模开口可被限定在第一光掩模中，通过第一光掩模开口暴露第一光致抗蚀剂材料以及将第一光致抗蚀剂材料显影至第一光致抗蚀剂层。
14、在一实施例中，布置第一光致抗蚀剂层可进一步包括烘烤第一光致抗蚀剂材料。
15、在一实施例中，第一光致抗蚀剂层的侧表面可相对于第一掩模层的上表面倾斜。
16、在一实施例中，通过去除第一光致抗蚀剂层，可在第二掩模层中限定第二掩模开口。
17、在一实施例中，显示基板可通过第二掩模开口从第二掩模层暴露。
18、在一实施例中，第二掩模开口的宽度可在朝向显示基板的方向上逐渐减小。
19、在一实施例中，第二掩模层可包括第2-1掩模部分和从第2-1掩模部分朝向显示基板突出的第2-2掩模部分。
20、在一实施例中，第2-2掩模部分的上表面可接触显示基板。
21、在一实施例中，第2-1掩模部分的上表面可与显示基板间隔开。
22、在一实施例中，第2-1掩模部分和第2-2掩模部分可彼此是整体的而成一体。
1.一种用于制造显示装置的设备，其特征在于，所述设备包括：
2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第2-2掩模部分的上表面接触所述显示基板。
3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于，所述显示基板通过所述第二掩模开口从所述第二掩模层暴露。
4.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第2-1掩模部分的上表面与所述显示基板间隔开。
5.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二掩模开口的宽度在朝向所述显示基板的方向上逐渐减小。
6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二掩模开口包括：
7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第2-1掩模部分和所述第2-2掩模部分彼此是整体的而成一体。
8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述设备进一步包括：磁力部分，设置在所述腔室中并向所述掩模组件施加磁力。