本文公开的主题总体上涉及无线通信,并且更具体地涉及用于ris能力报告的方法和装置。
背景技术:
1、在此定义了以下缩写词,在以下描述内提及其中的至少一些:新无线电(nr)、超大规模集成(vlsi)、随机存取存储器(ram)、只读存储器(rom)、可擦除可编程只读存储器(eprom或闪存存储器)、压缩光盘只读存储器(cd-rom)、局域网(lan)、广域网(wan)、用户设备(ue)、演进型节点b(enb)、下一代节点b(gnb)、上行链路(ul)、下行链路(dl)、中央处理单元(cpu)、图形处理单元(gpu)、现场可编程门阵列(fpga)、正交频分复用(ofdm)、无线电资源控制(rrc)、用户实体/设备(移动终端)、发射器(tx)、接收器(rx)、可重构智能表面(ris)、大型智能表面(lis)、智能反射表面(irs)、视线(los)、非视线(nlos)、正-本征-负(pin)。
2、可重构智能表面(ris)——其可以被可替选地称为大型智能表面(lis)、智能反射表面(irs)或智能超表面——是一种新兴的技术。ris是一种大而薄的金属或介电材料的超表面,由具有专门设计的物理结构的无源亚波长散射元件阵列组成。这些元件可以以软件定义的方式进行控制以改变入射射频(rf)信号的反射的电磁(em)属性(例如,相移)。通过所有散射元件的联合相位控制,可以实时地任意调谐入射rf信号的反射的辐射图案,从而为整体无线网络性能的优化创建新的自由度。ris可以有效地实时控制电磁波的响应,并且被认为是用于6g系统的潜在关键技术之一。
3、高频带(例如,太赫兹频带)可能会给5g nr并且甚至6g带来一些问题,包括额外的阻塞损耗、较小的覆盖半径和高能耗。ris可以通过部署可编程表面来构建无线电环境,当los路径被阻塞时,通过该可编程表面构建强大的nlos路径。ris可以像中继一样工作以扩展覆盖半径。ris的典型场景是覆盖增强,包括盲点覆盖增强和半径增强,如图1中所图示。一种典型的ris部署是在基站处计算控制信号,例如,ris的反射系数相关信息,并且然后通过专用反馈链路发送到ris的控制器。特别是针对不同的频带,可以采用不同的ris类型和不同的ris结构。例如,在较低频带中可以采用基于二极管的结构,而在较高频带中可以采用基于超原子的结构。不同的ris结构和不同的ris参数对应于不同的反射系数信息。有必要使ris能够将ris能力(即,ris参数)报告给基站以进行反射系数计算。
4、本发明的目标在于基于不同的ris结构向基站发送ris能力或ris参数。
技术实现思路
1、公开了用于ris能力报告的方法和装置。
2、在一个实施例中,一种在ris设备处的方法包括发射ris能力,该ris能力至少包括在垂直方向上的元件的数量(nx)和在水平方向上的元件的数量(ny),以及每列中的所有元件的相位状态是否能够被一起控制;以及接收基于ris能力导出的反射系数矩阵。
3、在一个实施例中,当每列中的所有元件的相位状态能够被一起控制时,反射系数矩阵具有ny×1的大小,并且当每列中的所有元件的相位状态能够被独立控制时,反射系数矩阵具有ny×nx的大小。
4、在另一实施例中,ris能力可以进一步包括每个元件的相位状态数量(m);并且反射系数矩阵中的每个反射系数具有n个比特,其中,n=log2(m)。另外,ris能力可以进一步包括ris面板的数量,并且每个ris面板具有相同的结构。
5、在又一个实施例中,ris能力可以进一步包括是否采用双超原子类型(dual meta-atom type)。具体地,当采用双超原子类型时,ris能力进一步包括每个超原子类型在相变之前的初始相位,以及双超原子模式。
6、在一个实施例中,一种在基站处的方法包括接收ris能力,该ris能力至少包括在垂直方向上的元件的数量(nx)和在水平方向上的元件的数量(ny),以及每列中的所有元件的相位状态是否能够被一起控制;基于ris能力导出反射系数矩阵;以及发射反射系数矩阵。
7、在另一个实施例中,一种ris设备包括发射器,该发射器发射ris能力,该ris能力至少包括在垂直方向上的元件的数量(nx)和在水平方向上的元件的数量(ny),以及每列中的所有元件的相位状态是否能够被一起控制;以及接收器,该接收器接收基于ris能力导出的反射系数矩阵。
8、在又一实施例中,一种基站包括接收器,该接收器接收ris能力,该ris能力至少包括在垂直方向上的元件的数量(nx)和在水平方向上的元件的数量(ny),以及每列中的所有元件的相位状态是否能够被一起控制;处理器,该处理器基于ris能力导出反射系数矩阵;以及发射器,该发射器发射反射系数矩阵。
1.一种ris设备的方法,包括:
2.根据权利要求1所述的方法,其中,当每列中的所有元件的相位状态能够被一起控制时,所述反射系数矩阵具有ny×1的大小,并且当每列中的所有元件的相位状态能够被独立控制时,所述反射系数矩阵具有ny×nx的大小。
3.根据权利要求1所述的方法,其中,
4.根据权利要求1所述的方法,其中,
5.根据权利要求1所述的方法,其中,
6.根据权利要求5所述的方法,其中,
7.一种ris设备,包括:
8.一种在基站单元处的方法,包括:
9.根据权利要求8所述的方法,其中,当每列中的所有元件的相位状态能够被一起控制时,所述反射系数矩阵具有ny×1的大小,并且当每列中的所有元件的相位状态能够被独立控制时,所述反射系数矩阵具有ny×nx的大小。
10.根据权利要求8所述的方法,其中,
11.根据权利要求8所述的方法,其中,
12.根据权利要求8所述的方法,其中,
13.根据权利要求12所述的方法,其中,
14.一种基站单元,包括: