一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的制作方法

1.本实用新型涉及无尘布技术领域，具体涉及一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布。


背景技术：

2.无尘布又名无尘擦拭布，多由聚酯纤维编织而成，表面柔软，易于擦拭敏感表面，摩擦不脱纤维，具有良好的吸水性及清洁效率。无尘布主要用于擦拭半导体生产线芯片、微处理器装配生产线等；lcd液晶显示类产品及线路板生产线等；也适用于class10～10000以及对esd有特殊要求的无尘环境之机器设备、精密工具等擦拭使用。
3.然而传统无尘布采用100％聚酯纤维制成，随着半导体生产线芯片、微处理器、光学产品、精密仪器等精密度越来越高，对无尘擦拭布的性能要求也越来越高，故无尘布的性能需要随之不断的改进。


技术实现要素：

4.为了克服上述技术缺陷，本实用新型提供一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布。
5.为了解决上述问题，本实用新型按以下技术方案予以实现的：
6.本实用新型所述一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，包括布体，所述布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。
7.优选地，所述面料本体层、亲水层、柔软层和静电层的周边通过超声波封边连接为整体。
8.优选地，所述亲水层为亲水整理聚酯纤维编织而成的坯布。
9.优选地，所述柔软层为柔丝蛋白纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。
10.优选地，所述柔软层为抗静电纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。
11.优选地，所述面料本体层为可降解聚酯纤维编织而成的坯布，所述面料本体层的厚度为0.6～1.2mm。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
13.本实用新型所述的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。亲水层能赋予无尘布优异的亲水性能，使其瞬间吸水并迅速扩散水体，解决了聚酯材料不吸水的问题。而柔软层则赋予无尘布的高柔软度。静电层赋予无尘布出色的防静电性能；本实用新型使用时尘埃脱落和纤维脱落低，即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。
附图说明
14.下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明，其中：
15.图1是本实用新型的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的层结构示意
图；
16.图2是本实用新型的另一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的层结构示意图；
17.图中：
18.10-面料本体层；
19.20-亲水层、21-快干层；
20.30-柔软层；
21.40-静电层。
具体实施方式
22.以下结合附图对本实用新型的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
23.如图1～图2所示，本实用新型所述的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的优选结构。
24.其中，所述用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的布体包括由上至下依次叠设的面料本体层10、亲水层20、柔软层30和静电层40。亲水层能赋予无尘布优异的亲水性能，使其瞬间吸水并迅速扩散水体，解决了聚酯材料不吸水的问题。而柔软层则赋予无尘布的高柔软度。静电层赋予无尘布出色的防静电性能；本实用新型使用时尘埃脱落和纤维脱落低，即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。
25.本实用新型的无纺布产品为若干坯布复合而成一整体，在一种优选实施中，所述面料本体层、亲水层、柔软层和静电层的周边通过超声波封边连接为整体。这是本领域技术人员根据本申请的记载可实现的。
26.其中，在一种优选实施中，所述面料本体层10为可降解聚酯纤维编织而成的坯布。通过采用现有可降解聚酯纤维制备无尘布，可降解聚酯纤维具有与普通聚酯材料相同物理性能和韧性等性能，且所制备的无尘布在使用后可由自然界存在的微生物分解，是一种环保型无尘布。
27.在一种优选实施中，所述面料本体层的厚度为0.6～1.2mm。
28.在一种实施中，所述亲水层20为亲水整理聚酯纤维编织而成的坯布。亲水剂整理聚酯纤维是本领域的公知常识，在此不过多说明。
29.在一种优选实施中，所述柔软层30为柔丝蛋白纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。柔丝蛋白纤维是一种植物蛋白质改性的纤维素纤维，其原料为植物蛋白质及纤维素，均取自于大自然中可再生的绿色植物纤维制成，是一种可降解的环保型纤维。
30.优选地，所述柔软层为柔丝蛋白纤维和可降解聚酯纤维编织而成的坯布，提供一种环保型无纺布。
31.在一种优选实施中，所述静电层30为抗静电纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。
32.在一种优选实施中，在所述亲水层20和柔软层30之间还复合由一层快干层21。所述快干层21为快干整理聚酯纤维编织而成的坯布。快干剂整理聚酯纤维是本领域的公知常识，在此不过多说明。
33.亲水层能赋予无尘布优异的亲水性能，使其瞬间吸水并迅速扩散水体，解决了聚
酯材料不吸水的问题。而快干层有助于将水分散到纤维上，这也加速了水体的蒸发过程并帮助无尘布快速干燥。
34.本实用新型的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的产品效果如下：
[0035][0036]
本实施例所述一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的其它结构参见现有技术。
[0037]
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，故凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何修改、等同变化与修饰,均仍属于本实用新型技术方案的范围内。


技术特征：
1.一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于，包括布体，所述布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。2.根据权利要求1所述用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于：所述面料本体层、亲水层、柔软层和静电层的周边通过超声波封边连接为整体。3.根据权利要求2所述的用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于：所述亲水层为亲水整理聚酯纤维编织而成的坯布。4.根据权利要求2所述的用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于：所述柔软层为柔丝蛋白纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。5.根据权利要求2所述的用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于：所述静电层为抗静电纤维和聚酯纤维编织而成的坯布。6.根据权利要求2所述用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于：所述面料本体层为可降解聚酯纤维编织而成的坯布，所述面料本体层的厚度为0.6～1.2mm。

技术总结
本实用新型公开了一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布，其特征在于包括布体，所述布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。本实用新型所述的一种用于半导体产品擦拭的高洁净度无尘布的布体包括由上至下依次叠设的面料本体层、亲水层、柔软层和静电层。亲水层能赋予无尘布优异的亲水性能，使其瞬间吸水并迅速扩散水体，解决了聚酯材料不吸水的问题。而柔软层则赋予无尘布的高柔软度。静电层赋予无尘布出色的防静电性能；本实用新型使用时尘埃脱落和纤维脱落低，即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。即使剧烈擦拭也可以保优异的静电效果。


技术研发人员：钟欣 张钧 李惠梅 王安全
受保护的技术使用者：广东硕源科技股份有限公司
技术研发日：2021.12.06
技术公布日：2022/5/31