本技术涉及cvd钻石电子束辐射改色的,尤其涉及一种用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具。
背景技术:
1、现有cvd钻石辐照是将钻石样品置于途中圆形铜罐中,电子束直射钻石。铜罐置于水槽中间,电子束扫描窗正下方。圆形铜罐仅能容纳单颗钻石,无法实现批量辐照,只能进行多次辐照,而多次辐照过程中的,不同次的钻石会产生色差,且辐照过程中的电子束利用率低。
技术实现思路
1、有鉴于此,本实用新型的目的在于提供一种用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具。
2、为了实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
3、一种用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,包括:
4、水槽,所述水槽的两端分别设有进水通道和出水通道;
5、载货槽,所述载货槽设于所述水槽内,所述载货槽包括底板、环绕所述底板设置的侧围、以及设于所述侧围的两端的两个定位板,所述载货槽的上部开放设置,所述载货槽的所述底板上开设有多个透水孔;
6、其中,所述水槽的内部的底面设有定位柱,所述定位柱贯穿所述定位板设置,所述定位板与所述定位柱可拆卸地固定连接。
7、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述载货槽内设有若干限位区,每一所述限位区均设有多个所述透水孔;
8、所述限位区通过所述透水孔与所述水槽连通。
9、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,包括:
10、横档,所述横档设于所述载货槽的所述底板上,所述横档的两端与所述载货槽的所述侧围相连接;
11、纵档,所述纵档设于所述载货槽的所述底板上,所述纵档的两端与所述载货槽的所述侧围相连接;
12、所述横档和所述纵档交叉布置以形成所述限位区。
13、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述横档的高度、所述纵档的高度、以及所述载货槽的所述侧围的高度相同。
14、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述水槽的高度大于所述载货槽的所述侧围的高度,以使所述水槽内的冷却液能够浸没所述载货槽。
15、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述定位板上开设有定位孔或定位槽,所述定位柱的尺寸与所述定位孔或所述定位槽相匹配。
16、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述定位板与所述水槽的内部的底板之间设有垫片。
17、上述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其中,所述定位板的下表面与所述载货槽的下表面齐平。
18、本实用新型由于采用了上述技术,使之与现有技术相比具有的积极效果是:
19、(1)本实用新型能够实现批量辐照,每一批钻石之间不会产生色差,且辐照过程中的电子束利用率高。
20、(2)本实用新型采用湿法辐照,确保钻石温度不会超过100℃。
21、(3)本实用新型的载货槽的浸水高度可以根据钻石的厚度调整,比较灵活。
1.一种用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述载货槽内设有若干限位区,每一所述限位区均设有多个所述透水孔;
3.根据权利要求2所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,包括:
4.根据权利要求3所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述横档的高度、所述纵档的高度、以及所述载货槽的所述侧围的高度相同。
5.根据权利要求4所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述水槽的高度大于所述载货槽的所述侧围的高度,以使所述水槽内的冷却液能够浸没所述载货槽。
6.根据权利要求1所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述定位板上开设有定位孔或定位槽,所述定位柱的尺寸与所述定位孔或所述定位槽相匹配。
7.根据权利要求1所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述定位板与所述水槽的内部的底板之间设有垫片。
8.根据权利要求1所述的用于cvd钻石电子束辐射改色的水冷接触式连续辐照载具,其特征在于,所述定位板的下表面与所述载货槽的下表面齐平。