一种闪光釉瓷砖的制作方法

文档序号:8957533阅读:1391来源:国知局
一种闪光釉瓷砖的制作方法
【专利说明】
[0001]
技术领域: 本发明涉及一种瓷砖。
[0002]
【背景技术】: 闪光釉瓷砖是一种在坯体施釉喷印图案后印制的一种特殊的釉层,烧制后产生一种明 亮淡雅、闪闪发光的装饰效果,丰富空间视觉体验。
[0003] 现有的闪光釉瓷砖,其制造工艺主要有以下几种:一是通过甩釉柜以湿式方式随 机把闪光釉甩在坯体表面,优点是闪光效果随机性较强,缺点是生产不易控制,不能制成指 定的闪光区域;二是通过丝网印花机以印花的方式印在砖面上,优点是闪光区域可控,闪光 釉分布均匀,易于生产,但是,由于已有的闪光釉是采用特殊的釉内添加闪光干粒而成的, 受该闪光釉自身的性质所决定,其缺点是网版破损率大,成本尚。
[0004]

【发明内容】
: 本发明的发明目的在于提供一种成品率较高,生成成本低,且闪光区域可控,闪光釉分 布均勾,易于生产的闪光釉瓷砖。
[0005] 本发明闪光釉瓷砖是采用以下方法实现的,包括在坯体上布施面釉,在布施面釉 后通过丝网印花机印制闪光釉,经1150-1250°C高温烧制成瓷砖,闪光釉中闪光干粒、印刷 粉、溶剂的重量用量比为=30:60-80:50-70。其中溶剂采用甲基乙二醇。
[0006] 由于先施面釉,再丝网印刷闪光釉,而闪光釉采用溶剂的方式,使闪光釉既能均匀 地布设在面釉上,同时,又不会损伤丝网,印刷后,闪光粒子有效地渗入进面釉内,使最终产 品硬度高,平整度较好。
[0007] 这里,丝网为120目全通网,这样,既能使闪光釉均匀地布设在面釉上,同时,又不 容易损丝网。
[0008] 闪光干粒的粒径在200-250目之间。采用适当的粒度,既使干粒釉均匀地布设在 面釉上,同时,又不容易损伤丝网。
[0009]面釉的组成为:成釉1000重量份、硅酸锆90-110重量份、增稠剂1. 2-1. 4重量份、 三聚磷酸钠1. 0-1. 2重量份、腐植酸钠1-3重量份。
[0010] 釉浆细度为300g釉浆过325目筛后,筛余为0? 8~I. 6g。
[0011] 本发明与已有技术相比,由于采用先施面釉,再丝网印刷闪光釉,因此,具有成品 率较高,生成成本低,且闪光区域可控,闪光釉分布均匀,易于生产的优点。
[0012] 【具体实施方式】: 现结合实施例对本发明做进一步详细描述: 本发明包括在坯体上布施面釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制闪光釉,经 1150-12 50 °C高温烧制成瓷砖,闪光釉包括闪光干粒、印刷粉、溶剂的重量用量比为: 30:60-80:50-70,其中溶剂采用一种特殊的印油调制而成。溶剂包括增稠剂(CH9羧甲基纤 维素钠)、乙二醇和水,各成分的重量含量是:
[0013] 丝网为120目全通网。
[0014] 闪光干粒的粒径在200-250目之间。
[0015] 面釉包括成釉、硅酸锆、CH9羧甲基纤维素钠(增稠剂)、三聚磷酸钠、腐植酸钠。
[0016] 釉浆细度为300g釉浆过325目筛后,筛余为0. 8~I. 6g。
[0017] 闪光釉及面釉成分含量如下(单位为重量份):
【主权项】
1. 一种闪光釉瓷砖,其特征在于闪光釉瓷砖是采用以下方法制成的,包括在坯体上布 施面釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制闪光釉,经1150- 1250°C高温烧制成瓷砖,闪光 釉中闪光干粒、印刷粉、溶剂的重量用量比为:30:60-80:50-70。2. 根据权利要求1所述的闪光釉瓷砖,其特征在于丝网为120目全通网。3. 根据权利要求1或2所述的闪光釉瓷砖,其特征在于闪光干粒的粒径在200-250目 之间,其中溶剂包括增稠剂(CH9羧甲基纤维素钠)、乙二醇和水,各成分的重量含量是:〇4. 根据权利要求1或2所述的闪光釉瓷砖,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量 份、硅酸锆90-110重量份、增稠剂1. 1-1. 4重量份、三聚磷酸钠1. 0-1. 3重量份、腐植酸钠 1_3重量份。5. 根据权利要求4所述的闪光釉瓷砖,其特征在于釉浆细度为300g釉浆过325目筛 后,筛余为0. 8~I. 6g。6. 根据权利要求3所述的闪光釉瓷砖,其特征在于面釉包括成釉900-1100重量份、硅 酸锆90-110重量份、增稠剂1. 1-1. 5重量份、三聚磷酸钠1. 0-1. 3重量份、腐植酸钠1-3重 量份。7. 根据权利要求6所述的闪光釉瓷砖,其特征在于釉浆细度为300g釉浆过325目筛 后,筛余为0. 8~I. 6g。
【专利摘要】<b>一种闪光釉瓷砖</b>,其特征在于<b>闪光釉瓷砖是采用以下方法制成的,</b>包括在坯体上布施面釉,在布施面釉后通过丝网印花机印制闪光釉,经1150-1250℃高温烧制成瓷砖,闪光釉中闪光干粒、印刷粉、溶剂的重量用量比为:30:60-80:50-70。本发明与已有技术相比,具有成品率较高,生成成本低,且闪光区域可控,闪光釉分布均匀,易于生产的优点。
【IPC分类】C04B41/86, C03C8/14
【公开号】CN105175022
【申请号】
【发明人】林家生, 刘汉津, 梁瑞平, 石颍, 王杏达, 李宣营, 田剑兴, 梁勇海, 钟玉纯, 吴建洲, 陆月星, 朱岸权, 吴云平, 黄金保
【申请人】广东博华陶瓷有限公司
【公开日】2015年12月23日
【申请日】2015年8月27日
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