一种恒温温控式水浴槽的制作方法
【技术领域】
[0001 ]本实用新型涉及水浴槽领域，尤其涉及一种恒温温控式水浴槽。
【背景技术】
[0002]现有的水浴槽在水浴时，很难控制温度的恒定，也不能预设温度，实现温度的迅速的上下调节，且水浴时热量传递严重，容易造成温度波动，导致水浴效果不佳，为此我们设计了一种恒温温控式水浴槽。
【发明内容】
[0003]本实用新型提供一种恒温温控式水浴槽，包括槽式本体，本体上开口的槽内设有水槽，水槽和本体内夹有保温层，水槽内部底端设有温控装置和搅拌装置，搅拌装置上方设有带孔的篦子;槽式本体顶部设有入水管，入水管管口设有入水阀门；水槽底部设有出水管，出水管管口设有出水阀门；水槽连接有加热装置和冷却装置;本体一侧设有控制器，控制器连接有显示和输入面板。
[0004]所述的保温层为真空层或填充海绵层。
[0005]所述的温控装置为温度传感器。
[0006]所述的水槽为铁质。
[0007]所述的加热装置为电加热器。
[0008]本实用新型的有益效果是:本实用新型所述的一种恒温温控式水浴槽，使用方便，可以实现温度的自动调节和控制，水浴效果佳，节能能源。
【附图说明】
[0009]图1为本实用新型所述的一种恒温温控式水浴槽的结构示意图；
[00?0]其中:1-显不和输入面板;2_加热装置;3_入水管;4-入水阀丨I ； 5_篦子;6_揽摔装置;7-温控装置;8-出水管;9-出水阀们；I O-冷却装置;11-本体;12-保温层;13-水槽;14-控制器。
【具体实施方式】
[0011]以下将结合本实用新型的实施例参照附图进行详细叙述。
[0012]—种恒温温控式水浴槽，包括槽式本体11，本体11上开口的槽内设有水槽13，水槽13和本体11内夹有保温层12，水槽13内部底端设有温控装置7和搅拌装置6，搅拌装置6上方设有带孔的篦子5;槽式本体11顶部设有入水管3，入水管3管口设有入水阀门4;水槽13底部设有出水管8，出水管8管口设有出水阀门9;水槽13连接有加热装置2和冷却装置10;本体11一侧设有控制器14，控制器14连接有显示和输入面板I。
[0013]所述的保温层12为真空层或填充海绵层。
[0014]所述的温控装置7为温度传感器。
[0015]所述的水槽13为铁质。
[0016]所述的加热装置2为电加热器。
[0017]打开入水阀门4，水经入水管3进入水槽13，将待水浴的样品置于水槽13中的篦子5上，在显示和输入面板I上输入设定的温度，控制器14控制加热装置2或冷却装置10进行工作以达到设定的温度，温控装置7实时将温度信号发送到控制器14，并显示在显示和输入面板I上，温度调节时，搅拌装置6搅拌工作能保证温度均匀，水浴效果佳，保温层12可以绝缘，避免热传递，节省了能源。
[0018]以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
【主权项】
1.一种恒温温控式水浴槽，包括槽式本体(11)，其特征在于，本体(11)上开口的槽内设有水槽(13)，水槽(13)和本体(11)内夹有保温层(12)，水槽(13)内部底端设有温控装置(7)和搅拌装置(6)，搅拌装置(6)上方设有带孔的篦子(5);槽式本体(11)顶部设有入水管(3)，入水管(3)管口设有入水阀门(4);水槽(I3)底部设有出水管(8)，出水管(8)管口设有出水阀门(9);水槽(13)连接有加热装置⑵和冷却装置(10);本体(11)一侧设有控制器(14)，控制器(14)连接有显示和输入面板(I)。2.根据权利要求1所述的一种恒温温控式水浴槽，其特征在于，所述的保温层(12)为真空层或填充海绵层。3.根据权利要求2所述的一种恒温温控式水浴槽，其特征在于，所述的温控装置(7)为温度传感器。4.根据权利要求3所述的一种恒温温控式水浴槽，其特征在于，所述的水槽(13)为铁质。5.根据权利要求4所述的一种恒温温控式水浴槽，其特征在于，所述的加热装置(2)为电加热器。
【专利摘要】本实用新型是一种恒温温控式水浴槽，包括槽式本体，本体上开口的槽内设有水槽，水槽和本体内夹有保温层，水槽内部底端设有温控装置和搅拌装置，搅拌装置上方设有带孔的篦子；槽式本体顶部设有入水管，入水管管口设有入水阀门；水槽底部设有出水管，出水管管口设有出水阀门；水槽连接有加热装置和冷却装置；本体一侧设有控制器，控制器连接有显示和输入面板。所述的保温层为真空层或填充海绵层。所述的温控装置为温度传感器。所述的水槽为铁质。所述的加热装置为电加热器。本实用新型所述的一种恒温温控式水浴槽，使用方便，可以实现温度的自动调节和控制，水浴效果佳，节能能源。
【IPC分类】B01L7/02
【公开号】CN205236001
【申请号】CN201520864732
【发明人】刘振奇, 刘国兴
【申请人】天津市汉沽高分子化工助剂有限公司
【公开日】2016年5月18日
【申请日】2015年11月2日