一种区块掩模板结构的制作方法
【技术领域】
[0001]本实用新型涉及一种区块掩模板结构。
【背景技术】
[0002]现有全彩主动有机发光二极体显示屏生产中，金属掩模直接影响蒸镀品质，而在金属掩模板制造过程中，区块金属掩模板总有许多设计如半蚀刻区与缓冲区设计是为了使张力更加平均施力，但区块金属掩模板在制造上往往有无法区别管理的问题，故希望设计一种区块掩模板结构，能实现张力分散与管理讯息合并的要求。
【实用新型内容】
[0003]针对上述问题，本实用新型提供一种区块掩模板结构，以实现张力分散与识别管理的功能。
[0004]为了实现上述目的，本实用新型的技术方案如下:
[0005]区块掩模板结构，其特征在于，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有半蚀刻区与缓冲区，所述缓冲区位于半蚀刻区的外侧，在所述半蚀刻区或缓冲区设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码。
[0006]在本实用新型的一个优选实施例中，所述二维条码设置在所述半蚀刻区。
[0007]在本实用新型的一个优选实施例中，所述二维条码设置在所述缓冲区。进一步，所述二维条码的宽度与缓冲区的宽度一致。
[0008]在本实用新型的一个优选实施例中，所述二维条码设置在缓冲区的中部位置。或者，所述二维条码设置在缓冲区的端部位置。
[0009]本实用新型通过在所述半蚀刻区或缓冲区设置二维条码的技术解决方案，既实现了张力均匀分散，不容易产生皱折，又通过二维条码方便管理。
[0010]本实用新型的特点可参阅本案图式及以下较好实施方式的详细说明而获得清楚地了解。
【附图说明】
[0011]图1为本实用新型在实施例1中的示意图。
[0012]图2为图1的张力分布示意图。
[0013]图3为现有技术的不意图。
[0014]图4为图3的张力分布示意图。
[0015]图5为本实用新型在实施例2中的示意图。
[0016]图6为本实用新型在实施例3中的示意图。
【具体实施方式】
[0017]为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施例进一步阐述本实用新型。
[0018]实施例1
[0019]参见图1和2，一种区块掩模板结构，包括掩模板本体10，掩模板本体上设置有半蚀刻区11与缓冲区12，缓冲区12位于半蚀刻区11的外侧，在缓冲区12的中部位置设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码13。优选二维条码13的宽度与缓冲区12的宽度一致。在其它实施例中，二维条码13的宽度也可以根据实际需要通过模拟来确定。参见图3和图4，与现有的区块掩模板结构相比，现有技术中的缓冲区12的图案有序排列，造成张力不利完全分散(参见图4中的箭头所示的张力分布示意图)，容易产生皱折;而本申请中通过设置二维条码13，使张力分散均匀(参见图2中的箭头所示的张力分布示意图)，且通过二维条码兼容管理功能。
[0020]实施例2
[0021 ]参见图5，一种区块掩模板结构，包括掩模板本体10，掩模板本体10上设置有半蚀刻区11与缓冲区12，缓冲区12位于半蚀刻区11的外侧，在半蚀刻区11设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码14。
[0022]实施例3
[0023]参见图6，一种区块掩模板结构，包括掩模板本体10，掩模板本体上设置有半蚀刻区11与缓冲区12，缓冲区12位于半蚀刻区11的外侧，在缓冲区12的端部位置设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码15。
[0024]以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型的范围内。本实用新型要求的保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定。
【主权项】
1.区块掩模板结构，其特征在于，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有半蚀刻区与缓冲区，所述缓冲区位于半蚀刻区的外侧，在所述半蚀刻区或缓冲区设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码。2.根据权利要求1所述的区块掩模板结构，其特征在于，所述二维条码设置在所述半蚀刻区。3.根据权利要求1所述的区块掩模板结构，其特征在于，所述二维条码设置在所述缓冲区。4.根据权利要求3所述的区块掩模板结构，其特征在于，所述二维条码的宽度与缓冲区的宽度一致。5.根据权利要求3所述的区块掩模板结构，其特征在于，所述二维条码设置在缓冲区的中部位置。6.根据权利要求3所述的区块掩模板结构，其特征在于，所述二维条码设置在缓冲区的端部位置。
【专利摘要】本实用新型公开了一种区块掩模板结构，包括掩模板本体，所述掩模板本体上设置有半蚀刻区与缓冲区，所述缓冲区位于半蚀刻区的外侧，在所述半蚀刻区或缓冲区设置有起张力分散与识别管理作用的二维条码。本实用新型通过在半蚀刻区或缓冲区设置二维条码的技术解决方案，既实现了张力均匀分散，不容易产生皱折，又通过二维条码方便管理。
【IPC分类】C23C14/04
【公开号】CN205295445
【申请号】
【发明人】余国正
【申请人】上海和辉光电有限公司
【公开日】2016年6月8日
【申请日】2016年1月8日