技术编号：10009303
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。板式PECVD设备是石英管在两端通微波源，表面抽真空的条件下将氨气和硅烷分解成高能离子状态，经过一系列化学反应，在硅片表面沉积氮化硅固态薄膜，同时分解出来的氢离子，将硅片表面原有缺陷钝化的设备。U型槽隔绝PECVD设备中反应腔体中磁铁、抽真空管路、特气管路与反应沉积区域，对反应腔体中重要部件进行防护。但是为了保证反应特气的正常通入，必须在U型槽顶部两端与特气管的特气通入孔相对应的位置开大于特气通入孔的进气孔。由于氮化硅的沉积需要定期清理或更换U型槽，在清理...
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