技术编号:10049615
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。目前各种扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺。扩散工艺的主要用途是在高温条件下对半导体晶圆进行掺杂,即将元素磷、硼扩散入硅片,从而改变和控制半导体的内杂质的类型、浓度和分布,以便建立起不同的电特性区域。SIC桨的作用是在扩散炉设备运行过程中,通过推舟机构的传动,实现将待工艺的石英舟送入炉体内,以及将已工艺的石英舟从炉体内取出的动作。由于SIC桨为一端固定的长...
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