技术编号:10090320
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在磁控溅射镀膜技术中,输入Ar’ 02混合气体是为了电离出氩离子轰击靶材,传统的磁控溅射镀膜腔室中的Ar,02混合气体采用无喷嘴的管道输送,气体分布不够均匀,从而导致电离出的氩离子分布不均,影响了镀膜的均匀度。另外,氧气分子的浓度过大会使待镀膜表面发生氧化反应,影响镀膜质量。传统的气体分布器不具备氧气浓度检测功能,不能在氧气浓度达到最适值时停止向真空腔体输入混合气体,从而影响镀膜的质量。发明内容本实用新型要解决的技术问题是提供一种磁控溅射智能气体分布器,使...
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