技术编号:10128942
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。我们制作太阳能电池的硅片是P型的半导体材料。如果我们把这种P型硅片放在一个石英容器内,同时将含磷的气体通入这个石英容器内,加热到一定的温度,这时N型杂质磷可从化合物中分解出来,在容器内充满着含磷的蒸汽,在娃片周围包围着许许多多的磷的分子。根据扩散的基本原理,磷杂质会向硅片内部渗透扩散。在靠近硅片表面的薄层内扩散进去的磷原子最多,距表面愈远,磷原子愈少。也就是说,杂质浓度(磷浓度)随着距硅表面距离的增加而减少。这样我们就可以利用杂质原子向半导体晶片内部扩散的...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。