技术编号:10140947
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制造,尤其涉及一种旋转夹具领域。背景技术在电子器件晶闸管、整流管的旋转腐蚀生产过程中,芯片底部需要有底水保护,以防止芯片底部的钼片被酸腐蚀,现在通常的做法是水从夹具底座下方的水孔直接喷射到芯片底部,由于水压不稳定,如果水流量大,冲击芯片底部,水会溢出到芯片顶部四周台面上,对酸产生稀释作用,影响腐蚀效果;如果水流量小,水不能完全保护芯片底部,造成芯片背面被酸侵蚀。对水压的稳定性要求高。现有技术对芯片进行旋转腐蚀的研究主要是腐蚀液的浓度、温...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。