技术编号:10163972
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在工业生产中,有许多涉及到气液反应的工艺,为了使原料充分反应,并有一定的效率,气液反应设备通常需要配套射流装置。气液反应设备内液体原料存在于设备底部,气体原料存在于设备顶部。传统射流装置利用栗和管道将液体原料提升至设备顶部高速射流而下,使之在设备内部与气体原料接触,起到增大并不断变换气液两相接触面的作用,保持接触面相对高的原料浓度,从而促使反应不断向生成产品的方向进行;同时,该装置还有使液体混合均匀的作用。但是,传统射流装置存在两相接触面小,气液融合不够,...
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