技术编号：10169981
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。由于可以实现的图形分辨率避免了传统技术中由光衍射或粒子束散射造成的局限，并具有低成本、高分辨率、高产能等优点，纳米压印光刻技术被认为是最有应用前景的光刻技术。高质量的模板是纳米压印光刻技术的关键部件。相对于传统的成本高、易破碎的硬石英和硅模板，由高分子制备的软模板能够避免断裂和永久的变形，同时还可进行曲面压印，大大提高了压印的质量。聚二甲基硅氧烷(PDMS)材料由于具有良好的透光率、较低的表面能(21.6mJ/cm3)和收缩率、优异的抗溶剂性和较低的成本，...
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