技术编号:10266633
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。导体元件、平面显示面板、发光二极管、太阳能电池、光伏电池等装置需要对各种基板执行多重的制程,例如蚀刻、化学气相沉积(chemicaI vapor deposit1n,CVD)、派镀(sputtering)以及清洁等制程,以制作预定的装置或产品。在许多制程中,具有一种利用电浆来进行基板的蚀刻处理,一般电浆蚀刻处理设备包含有如图1及图2所示的承载装置,现有的承载装置包含有固定盘100及盖盘200,在固定盘100的一面上设置有用以承载工作300的复数个承载部10...
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