技术编号：10300196
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。目前，在平板显示及半导体行业中，生产过程中多种工序中均会用到液体材料的传输和供给，例如涂覆光刻胶、显影液喷涂和晶片处理等等，其中晶片处理的工艺分为干法刻蚀和湿法刻蚀两种。湿法刻蚀主要利用液态化学试剂与被刻蚀材料发生化学反应进行刻蚀的技术，湿法刻蚀工艺主要是通过湿法刻蚀设备进行实现的。湿法刻蚀设备中设置有放置刻蚀液的贮液箱，通过在贮液箱中安装加热器对刻蚀液加热。现有技术中的贮液箱，由于加热器安装在贮液箱的内部，导致加热器容易被腐蚀，造成刻蚀液的泄露，存在危险...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。