技术编号:10306730
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。如图5所示,屏蔽合上盖是薄壁壳体类零件,结构较为复杂,对配套安装孔、角度、翻边高度的一致性要求较为严格。目前加工屏蔽合上盖时,通常是先利用下料模具下料,划线,然后利用折弯模具定位进行一次折弯,取出校正合格后再二次折弯,校正,最后采用钻孔模具定位钻孔。由于需先在下料模具上定位下料,下完料后进行画线,然后转移到折弯模具上两次定位折弯,后又转移到钻孔模具上定位钻孔,重复定位会导致零件加工精度下降,折弯、钻孔位置采用画线方式进行指定,导致尺寸误差大,而且整个工艺存...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。