技术编号:10396922
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。在实际生产中,由于干式蚀刻机L0ADL0CK端整个暴露在车间灰区,使得整个传送过程中,硅片也裸漏在灰区,容易造成硅片污染,降低后期加工的良品率,一定程度上增加了生产成本。实用新型内容为了克服现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种干式蚀刻机用防护罩,其装置在干式蚀刻机LOADLOCia^,可以隔离灰区,将污染源隔离,减少颗粒沾污,提高产品良率,且PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯)为透明材质,不影响关照亮度,不影响生产的正常进行。为解决上述问题,本实用新型所采...
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