技术编号:10424257
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。气相二氧化硅生产工艺是将氯硅烷在1200-1500° C氢氧焰中高温水解,生成平均粒径7?40nm的二氧化硅原生粒子,经过高温高速碰撞后形成粒径0.1-0.5μπι聚集体,再经过聚集器聚集后形成粒径ΙΟμπι左右的附聚体,通过分离、脱酸处理后进行包装。随着下游产业的发展,对气相二氧化硅的各项指标要求也在逐步提高,其中PH值就是一项很重要的指标,PH值的高低、稳定与否都直接决定着气相二氧化硅的产品品质,也严重影响下游产品的产品质量。目前国内大部分气相二氧化硅...
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