技术编号：10470511
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 光刻胶是用于将图像转移到基材上的感光膜。在基材上形成光刻胶涂层，然后经 光掩模将所述光刻胶层在活化射线源曝光。所述光掩模具有对活化射线不透明的区域和透 明的其它区域。活化射线曝光使得光刻胶涂层发生光致转变或化学转变，从而将光掩模的 图案转移到所述光刻胶涂覆的基材上。曝光后，将光刻胶显影W提供一种允许对基材进行 选择性加工的浮雕图像。 光刻胶主要用于半导体制造业，目的是将高度抛光的半导体片如娃或神化嫁，转 化成起电路作用的电子传导路线的复合物基体。适当的光...
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