技术编号：10490382
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。半导体电路中的电阻形式繁多，包括金属电阻，多晶硅电阻，N型电阻，P型电阻等等，其中金属电阻具有工作温度范围大，阻值稳定等特点，被广泛应用。金属电阻的制备形式多种多样，包括铝电阻，铜电阻，氮化钽电阻等等。在制备较大阻值的金属薄层电阻时，往往需要将金属厚度做小来提高集成度，金属厚度很薄，目前大阻值的氮化钽电阻的厚度在100-300纳米之间，通过溅射工艺制备所需溅射时间1-2秒，时间过短厚度不易控制，通常情况下厚度偏差10%，导致电阻阻值的精度+/_10%，随着...
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