技术编号:10490852
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 Lm)因具有色纯度高、响应速度快、体积小、可靠性好、寿命长、环保等优点,无疑成 为最受重视的光源技术。如何提高及发光效率是一直W来的研究重点。 Lm)的发光效率主要有=方面因素器件的内量子效率、载流子注入效率和光出射 效率。对GaN基L抓的器件而言,通过改善量子阱、异质结构载流子限制效应W及量子限制斯 塔克效应和提高空穴的注入和降低电子的泄漏已将内量子效率、载流子注入效率已达较高 水平,而相对前两者其光出射效率受制于全反射,仅有极少部分光可逃逸。所W如何...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。