技术编号：10511923
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。常压化学气相淀积(APCVD)半导体设备控制系统，其是通过通讯线缆，按照控制部件的协议格式进行通讯，完成对设备状态的查询与控制。具体实施过程中，由于外设控制部件种类的多样性，各自支持通讯方式与协议的差异性，造成控制系统需要采用多种通讯方式，实现多种协议格式来满足系统功能的要求。APCVD下位机控制系统EpiTool包括Setup模块与Driver模块，其中Setup模块对应用软件系统中的常量参数进行配置，用户可以针对受控设备各个部分的配置需求，设计编写对应...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
请注意，此类技术没有源代码，用于学习研究技术思路。