技术编号：10513824
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在气态离子源离子注入装置中，如果长时间维持从离子源引出离子束的运转，则在离子源内部和离子束引出电极上堆积附着物，如果置之不理，过多堆积的附着物容易在所述电极系统中引起电极之间的异常放电。异常放电会使得引出束流不稳定，过多的异常放电会使注入无法达到预定效果，甚至无法维持离子源的正常运转。在离子注入装置中，对多片基板进行的离子注入是以分片多次注入的方式进行的。在各片离子注入之间，为进行已处理和未处理的基板的交换，需要暂停离子的注入，所以可以考虑利用这样的基板交...
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