技术编号：10513972
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。如图1所示，为目前显示面板中阵列基板的结构示意图，在制作该阵列基板时，至少需要使用5-6次构图工艺，例如，可先通过一次构图工艺形成栅极13，进而在栅极13上形成栅绝缘层05，再通过一次构图工艺形成有源层02，再通过一次构图工艺分别形成源极11和漏极12，再通过一次构图工艺形成像素电极01，进而在源极11、漏极12以及像素电极01上形成钝化层04，最后，通过一次构图工艺在钝化层04上形成公共电极03，这样，经过5次构图工艺可得到上述阵列基板。可以看出，在制作...
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