技术编号：10518207
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。等离子体处理常用于半导体和其他产物的处理。等离子体可用于多种处理操作，这些处理操作包括沉积、蚀刻、氧化、有机材料的去除以及其他处理。生成等离子体涉及将输入气体暴露于高电场和/或磁场形式的能量输入。输入气体中的至少一些分子由场来激发且获得能量，从而在一些情况下变得离子化。处理涉及将产物暴露于等离子体中所生成的离子或反应性物质和/或存在于等离子体中但未经激发的气体分子(等离子体生成的离子、反应性物质和/或未经等离子体激发的气体分子的任何组合将在本文中被称作“等...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。