技术编号：10525213
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。 LSI，超LSI等的半导体或液晶面板等的制造中，要向半导体晶片或液晶用玻璃板 照射紫外光来进行图案制作，如此时使用的光掩模上有灰尘附着，所述灰尘就会将紫外光 遮挡，反射，从而就会发生转印密封图案的形变，短路等，使品质受损。 因此，这些的作业为通常无尘室中进行，但是即使如此，要保持光掩模的经常清洁 也是困难的。因此，要在光掩模表面贴附作为防尘器的防尘薄膜组件后再进行曝光。在所述 场合，异物不在光掩模的表面上直接附着，而是附着在防尘薄膜组件上，由此光刻时只要...
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