技术编号:10529388
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。 随着技术的发展,促使实用化的微波及磁光器件向着平面薄膜方向发展,进而对 微波及磁光单晶薄膜的厚度提出了更高的要求,从目前生长的几微米和几十微米量级发展 到要生长一百微米甚至几百微米的单晶厚膜。传统的薄膜制备方法,如磁控溅射、脉冲激光 沉积、金属有机气相沉积等方法均不能实现厚膜的制备,液相外延是由溶液中析出固相物 质并沉积在衬底上生成单晶薄层的方法,有望实现厚膜的制备。 液相外延技术是在同质衬底上生长单晶薄膜或厚膜最重要的一种工艺技术,以单 晶石榴石薄膜为...
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