技术编号：10536743
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。随着离子注入机的发展，自动化成了必然的趋势，离子注入机是一种在真空系统下，完成将离子注入到晶片的设备。该设备具备离子注入子系统和靶室传片子系统。由传片子系统将晶片送上靶台，靶台借助静电吸盘吸附晶片，将其送到注入子系统中进行离子注入。此流程有时会出现异常，那就是晶片可能没送上靶台。一旦出现此问题，将导致静电吸盘被注入，而损坏；如果晶片送上来靶台，但没有吸附住，会导致晶片送人注入系统时，晶片从靶台滑落，碎片而造成经济损失。为此，必须判别晶片是否在靶台上，而且，...
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