技术编号:10536744
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。离子注入机广泛应用于半导体制造领域。在离子注入机中,经常需要加入偏转结构对束流进行偏转,以实现一些特定的目的。例如,在低能大束流注入机中,一般采用末端减速实现低能注入。离子束流在减速之前保持较高能量,这有利于高流强束流的传输。虽然离子注入机中真空度较高,但仍有部分残余气体,束流中的离子与残余气体可能发生电荷交换,使离子变为中性原子或分子,特定位置产生的中性原子或分子有可能到达注入靶。由于中性原子或分子不受减速影响,因此注入能量较带电粒子高,因此产生所谓的能...
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