技术编号:10536776
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。压印是光刻中常用的软光刻技术手段之一,该技术不需要昂贵的设备,能够实现柔性基底和三维结构的刻蚀。近年的研究表明压印软光刻技术在传感器、生物技术和微电子等领域有广阔的应用前景。氧化硅的光刻过程中常用的刻蚀剂是氢氟酸,氢氟酸毒性强,刻蚀要在严格的防护设备中进行,这限制了其在通常实验条件下的应用。寻找氢氟酸的替代物,减小暴露于氢氟酸环境中带来的危害,对于光刻来说无疑是有意义的。本专利通过压印技术将氟化物转移至目标基底并在一定条件下实现了光刻,专利中利用低毒性的氟...
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