用于光刻度量的方法、设备和衬底的制作方法技术资料下载

技术编号:10540802

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光刻设备是将所希望图形施加至衬底上、通常至衬底的目标部分上的机器。光刻 设备可以例如用于集成电路(1C)的制造。在该实例中,备选地称作掩模或刻线板的图形化 装置可以用于产生将要形成在1C的单个层上的电路图形。该图形可以转移至衬底(例如硅 晶片)上的目标部分(例如包括一个或数个裸片的一部分)上。图形的转移通常是经由成像 至提供在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)的层上。通常,单个衬底将包含后续图形化的相 邻目标部分的网络。在光刻方法中,频繁地希望对所形成结构进...
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