技术编号：10548849
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。溅射设备是设计用于在平板建筑玻璃上镀制低辐射膜、低辐射太阳膜以及阳光控制膜，玻璃板由水平输送系统传送至镀膜室进行处理，镀膜室顶端设置有靶材机构，传统的镀膜是利用靶材机构直接将靶材粒子溅射至玻璃板上，由于靶材机构的溅射范围较大，如果不能控制靶材机构的溅射范围，会导致处于溅射范围边缘的粒子也沉积在玻璃板上，导致玻璃板上的镀膜效果下降。发明内容本发明的目的是提供一种溅射镀膜机构，解决了传统的溅射镀膜机构不能控制其靶材的溅射范围，使得溅射不集中，影响玻璃板镀膜质量...
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