技术编号:10556848
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在工件基材上制造氧化阻挡层的方法,其中,该氧化阻挡层借助物理气相沉积(PVD)来制造并且是氧化物,所述氧化物与该工件的未涂覆表面是材料近似的。专利说明氧化阻挡层金属表面,有时陶瓷表面,与氧接触时,通常导致在其表面形成氧化物。较高温度 促进所述氧化,且所述氧化可以通过附加反应,如通过存在其它气体,而被进一步加强。在 许多情况下,在表面自发形成的氧化物在化学方面并不稳定并且削弱了其机械性能。通常, 该氧化物具有多孔性和化学不稳定性,这不妨碍氧的进一步...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。